开槽冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺研究.pdf

中国机械工程第卷第期年月上半月
24120131
开槽冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺研究

杨张一左敦稳孙玉利童巨特
南京暋航空航天大暋学,南京,暋
210016
摘要采用成形模具热压法给微米级冰冻固结磨料抛光垫开槽。设计四因素三水平正
:毩-Al2O3
交试验,对开槽冰冻固结磨料抛光垫抛光微晶玻璃的工艺进行了研究,与同样试验条件下未开槽冰冻固
结磨料抛光垫的抛光效果进行了对比分析。结果表明:开槽情况下的去除率比未开槽情况下的去除率
提高左右,微晶玻璃表面形貌略有改善但出现划痕现象,主轴转速对材料去除率影响更为显著。
40%
关键词开槽冰冻固结磨料抛光垫微晶玻璃去除率正交试验
:;;;;
中图分类号
:TG580暋暋暋暋暋暋DOI:10.3969/j.issn.1004-132X.2013.01.005
ResearchonPolishingProcessofGlassceramicsbyIceFixedAbrasivePolishingPadwithGrooves
-
YangZhangyi暋ZuoDunwen暋SunYuli暋TongJute
,,
AbstractNanjingUniversityofAeronauticsandAstronauticsNanjing210016
:Mouldpressingmethodwasusedtogroovethemicron-sized毩-Al2O3icefixedabra灢
sivepolishingpad.Thepolishingprocessofglass-ceramicsbyice-fixed-abrasivepolishingpad
withgrooveswasresearchedthroughorthogonaltestoffourfactorsandthreelevels,andtheresults
werecomparedwiththeice-fixed-abrasivepolishingpadwithoutgroovesunderthesameexperi灢
mentalconditions.Theresultsshowthatthematerialremovalratioincreasesabout40%ingrooved
condition,andthesurfacetopographyofglass-ceramicsisimprovedslightlyalthoughwithlittle
scratches.Sindleseedinfluencesthematerialremovalratiomorereatl.
Keyworpdspgy
:groove;icefixedabrasivepolishingpad;glass-ceramics;removalratio;orthogonal
test

引言结磨料抛光技术应运而生固结磨料抛光技术把
0暋。
化学机械抛光技术是半导体晶片表磨料固结在抛光垫中抛光液中不再需要添加磨
(CMP),
面加工的关键技术之一近年来得到广泛应用[1]粒抛光时只有固结在抛光垫上突出部位的磨粒
,。,
才与工件上的相接触部位发生作用由于接触区
作为系统关键部件之一的抛光垫对抛光效;
CMP域的减小微小区域产生较大的压力去除率增
率和加工质量有着重要影响[2]传统的微晶玻璃
。,,
的超精密抛光工艺使用游离磨料方式为解决游加抛光速率对工件的形貌有很高的选择性而对
。;,
离磨料研磨抛光过程中暴露出来的众多缺点固材质无选择性固结磨料抛光技术只需要较少的
,。
去除量即可达到平坦化的目的降低了企业的生
,,
收稿日期产成本[3]
:2011—11—10。
基金项目国家自然科学基金资助项目中国博士后冰冻固结磨料抛光技术是近年来固
:(51175260);(IFAP)
科学基金特别资助金资助项目江苏省自然科学基
(201003583);结磨料化学机械抛光技术的新发展属于低温固
金资助项目南京航空航天大学研究生创新基地,
(BK2012796);结磨料抛光技术[4]韩荣久等[5]利用胶态
实验室开放基金资助项目。SiO2
()(kfjj20110228)
棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈棈
北京兵器工业出版社
[4]暋HuangCH,ChristinaLB.Multi-ObjectivePare灢[M].:,1995.
张相炎郑建国杨军荣火炮设计理论北
toConcurrentSubspaceOptimizationforMultidisci灢[7]暋,,.[M].
京北京理工大学出版社
plinaryDesign,AIAA2004-278[R].Reston::,2005.
刘智