一种连续生产挠性覆铜板的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(10)申请公布号CN102021576A
(43)申请公布日2011.04.20

(21)申请号CN201010510358.0

(22)申请日2010.09.30

(71)申请人深圳市信诺泰创业投资企业(普通合伙)

地址518057广东省深圳市南山区南海大道海王大厦住宅楼26B

(72)发明人谢新林杨念群

(74)专利代理机构中国商标专利事务所有限公司

代理人万学堂

(51)Int.CI
C23C28/02
C23C14/48
C23C14/22
C23C14/20
C25D7/06
C25D3/38

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称
一种连续生产挠性覆铜板的方法

(57)摘要
本发明提供了一种连续生产挠性覆
铜板的方法，其特征在于，该方法包括对
在有机高分子聚合物薄膜表面进行连续的
离子注入和/或等离子体沉积步骤后，进行
连续的电镀铜的步骤。采用本发明所提供
的方法生产的两层型挠性覆铜板，其铜膜
与基材的结合力远远高于“溅射/电镀法”所
生产的挠性覆铜板，而跟采用“涂布法”和
“压合法”制备的挠性覆铜板相当，而且铜
膜的厚度可以容易地控制在18微米以下。
此外，尤为重要的是，本发明所提供的方
法是连续生产两层型挠性覆铜板的方法，
该方法不仅能够对薄膜基材的一个面，而
且能够同时对薄膜基材的两面同时进行处
理，因此生产效率很高。

法律状态

法律状态公告日法律状态信息法律状态

权利要求说明书

1.一种连续生产挠性覆铜板的方法，其特征在于，该方法包括对在有机高分子聚合
物薄膜表面进行连续的离子注入和/或等离子体沉积的步骤后进行连续的电镀铜的
步骤，其中，所述连续的离子注入和/或等离子体沉积的步骤是在以下设备中进行，
该设备包括离子源和真空室，所述真空室壁上包括设置有抽真空口以及至少1个用
于与所述离子源连通的开口；所述真空室内包括设置有放卷辊、张力调节机构、冷
却部件、收卷辊；所述冷却部件置于所述放卷辊和所述收卷辊之间，所述张力调节
机构置于所述冷却部件的两侧并位于所述放卷辊与所述收卷辊之间；所述冷却部件
由至少1根可以自由转动的、中空且内通冷却介质的冷却辊组成，所述冷却辊、所
述放卷辊和所述收卷辊都相互平行，并且所述冷却辊的轴向与所述等离子体进入所
述真空室的方向垂直；所述等离子体进入所述真空室的方向与所述冷却辊的轴向均
为水平方向，所述冷却辊与所述开口在水平高度上一一对应；或者所述等离子体进
入所述真空室的方向为水平方向，所述冷却辊的轴向为竖直方向，所述开口与所述
冷却辊在左右方向或者前后方向上一一对应；或者所述等离子体进入所述真空室的
方向为竖直方向，所述冷却辊相对应地位于所述开口的正下方或者正上方。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述设备还包括与所述放卷辊和所述收卷辊
相连的电机和用于加速由所述离子源发出的离子束流的部件；所述部件设置在所述
等离子源与所述真空室之间。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述开口为6个，在所述真空室的相对两壁
上分别设置3个；所述开口与所述冷却辊轴向垂直的两条边的尺寸30-100毫米，
所述冷却辊轴的直径为50-100毫米，所述开口与其相对应的所述冷却辊轴线间的
距离为50-150毫米；位于同一壁上的相邻两个所述开口之间的距离75-200毫米。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法，其中，该方法包括首先对有机高分子
聚合物薄膜进行等离子体沉积的步骤，然后进行连续电镀铜的步骤；或者该方法包
括首先对有机高分子聚合物薄膜进行连续离子注入的步骤，然后进行连续等离子体
沉积的步骤，最后进行连续电镀铜的步骤。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述真空室中的真空度为2×10^-
3-5×10^-5帕；所述有机高分子聚合物薄膜的厚度为3-150微米；
所述离子注入的条件包括：所述有机高分子聚合物薄膜运行速度为0.3-2米份钟，

离子注入电压为1-10KV，离子注入剂量为0.5×10¹³-
1.0×10¹⁷个原子/厘米²；所述等离子体沉积的条件包括：
所述有机高分子聚合物薄膜运行速度为0.3-2米/分钟，离子束流为20-80毫安。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述真空室中的真空度为2×10^-
3-5×10^-5帕；所述有机高分子聚合物薄膜的厚度为10-50微米；
所述离子注入的条件包括：所述有机高分子聚合物薄膜运行速度为0.3-2米/分钟，

离子注入电压为5-10KV，离子注入剂量为0.