一种硅腐蚀液及其生产工艺.pdf
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一种硅腐蚀液及其生产工艺.pdf
本发明公开了一种硅腐蚀液,包括以下重量份的原料:氢氟酸8‑12份、硝酸70‑78份、去离子水15‑25份、复合缓蚀剂6‑13份。且本发明利用了吡啶‑4‑甲醛为底物,使其与甲苯、高锰酸钾、二乙烯三胺、硫脲逐步反应形成了复合缓蚀剂;该复合缓释剂通过分子中的氮原子、硫原子、分子机构的大π键与金属形成配位键或化学共价键,在金属表面形成一层致密的疏水膜,阻碍了溶液中的氢离子对金属的腐蚀,但是该复合缓释剂中的的氮原子、硫原子、分子机构的大π键不能与硅形成配位键或共价键,不能在硅表面形成保护膜,不影响腐蚀液对硅的腐蚀行
一种集成电路用铜钛腐蚀液及其生产工艺.pdf
本发明公开了一种集成电路用铜钛腐蚀液,属于微电子化学试剂技术领域,包括以下质量百分比的原料:硫酸10‑19%、硝酸5‑8%、乙酸28‑33%、过硫酸钾2‑5%、双氧水2‑4%、吸附剂0.05‑0.1%,余量为纯水;本发明还公开了该腐蚀液的生产工艺;本发明的腐蚀液对铜钛复合金属层腐蚀均匀、性能稳定,由于吸附剂的加入,可以净化腐蚀液,减少腐蚀废液的产生,增加腐蚀液的使用寿命,且该腐蚀液不含氟,不会腐蚀硅材基材、氮化硅与非结晶硅,同时兼顾产品良率、安全与环保,并降低重工后发生缺陷的风险,可在制备集成电路行业、平
一种金相腐蚀液及其应用.pdf
本发明属于金相显示领域,公开了一种金相腐蚀液及其应用。所述金相腐蚀液为浓硝酸、浓盐酸和水的混合溶液,混合溶液中浓硝酸、浓盐酸和水的体积比为2:1:1;所述浓硝酸的质量百分比浓度为60%~70%,浓盐酸的质量百分比浓度为28%~35%。本发明的金相腐蚀液可有效的腐蚀不同组分的CoFe合金,该腐蚀液使得CoFe合金的金相组织得到清晰的观察,并可明确标出晶粒尺寸。在金相显微镜下可观察得到明显的CoFe合金的缺陷,便于判断该合金是否符合产品要求,从而能够及时调整该合金的制备工艺及相关参数,降低了相关产品的失败率,
一种硅肥及其生产工艺.pdf
本发明公开了一种硅肥的生产工艺,包括如下步骤:S1:将电弧炉渣与改质剂混合,得到活性电弧炉渣;S2:对活性电弧炉渣进行热泼处理,冷却;S3:将冷却后的活性电弧炉渣粉化,得到粉状硅肥,其中改质剂为氯化钠、氯化钾、碳酸钠和碳酸钾中的至少一种。本发明还公开了这种生产工艺所生产的硅肥。本发明所提供的硅肥的生产工艺,使用电弧炉渣和氯化盐、碳酸盐作为原料,利用电弧炉冶炼的副产物,及其热能制备硅肥,不需要额外的能源,节能环保;与传统的氢氧化物相比,本发明生产相同质量的硅酸盐时,成本大幅降低,同时生产工艺简单,均使用的是
一种金属硅及其生产工艺.pdf
本发明属于金属硅冶炼领域,特别涉及一种金属硅及其生产工艺;原料为硅石20%‑25%、兰炭5%‑7%、水洗煤10%‑12%、石英砂37%‑38%、石灰石15%‑16%、萤石5%‑10%;金属硅的各物质的质量百分含量为硅96%‑98%、铝1%‑1.2%、铁1.5%‑1.8%、钙0.1%‑0.3%;金属硅的生产工艺:矿热炉升温至800℃‑1000℃;通过斗式提升机将硅石、兰碳、水洗煤加入矿热炉中煅烧熔融;将矿热炉中的熔融液体转移至铁水包;向铁水包中加入萤石、石灰石、石英砂,搅拌;除去铁水包中的沉淀;将铁水包中的