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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113582216A(43)申请公布日2021.11.02(21)申请号202110750649.5C02F1/50(2006.01)(22)申请日2021.07.01A01P1/00(2006.01)C02F101/38(2006.01)(71)申请人安徽师范大学地址241003安徽省芜湖市弋江区花津南路2(72)发明人何月珍尹曼悦孙健(74)专利代理机构北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙)11390代理人胡阔雷(51)Int.Cl.C01G3/12(2006.01)A01N59/20(2006.01)B01J27/04(2006.01)B01J35/02(2006.01)C02F1/72(2006.01)权利要求书1页说明书8页附图11页(54)发明名称硫化亚铜纳米抗菌剂及其制备方法和应用(57)摘要本发明公开了一种硫化亚铜纳米抗菌剂及其制备方法和应用,该制备方法包括:将铜纳米粒子与刻蚀剂进行第一接触反应以制得所述硫化亚铜纳米抗菌剂;其中,所述铜纳米粒子的平均粒径为2‑6nm,所述铜纳米粒子中铜元素的价态含有正二价,所述刻蚀剂选自还原型谷胱甘肽、半胱氨酸和丝氨酸中的至少一种。该硫化亚铜纳米抗菌剂具有优异的抗菌性能和染料降解性能,同时该制备方法具有工序简单和操作简便的优点,进而使得该抗菌剂能够广泛应用于抗菌领域和染料降解领域。CN113582216ACN113582216A权利要求书1/1页1.一种硫化亚铜纳米抗菌剂的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:将铜纳米粒子与刻蚀剂进行第一接触反应以制得所述硫化亚铜纳米抗菌剂;其中,所述铜纳米粒子的平均粒径为2‑6nm,所述铜纳米粒子中铜元素的价态含有正二价,所述刻蚀剂选自还原型谷胱甘肽、半胱氨酸和丝氨酸中的至少一种。2.根据权利要求1所述的制备方法,其中,所述铜纳米粒子与刻蚀剂的重量比为1:3‑1:12。3.根据权利要求1所述的制备方法,其中,所述第一接触反应至少满足以下条件:反应温度为15‑35℃,反应时间为0.5‑1.5h;优选地,所述第一接触反应于溶剂中进行。4.根据权利要求1‑3中任意一项所述的制备方法,其中,所述制备方法还包括铜纳米粒子的制备:将铜源、还原剂在中性或碱性的条件下进行第二接触反应;其中,所述还原剂选自抗坏血酸AA、L‑半胱氨酸和水合肼中的至少一种。5.根据权利要求4所述的制备方法,其中,所述铜源选自CuCl2、Cu(NO3)2和CuSO4的至少一种。6.根据权利要求4所述的制备方法,其中,所述铜源、还原剂的摩尔比为3:1‑6:1。7.根据权利要求4所述的制备方法,其中,所述第二接触反应至少满足以下条件:pH为7‑9,反应温度为15‑35℃,反应时间为20‑40min;优选地,所述第二接触反应的pH通过添加碱性试剂进行调节;优选地,所述第二接触反应于溶剂中进行。8.一种硫化亚铜纳米抗菌剂,其特征在于,所述硫化亚铜纳米抗菌剂通过权利要求1‑7中任意一项所述的制备方法制备而得。9.根据权利要求8所述的硫化亚铜纳米抗菌剂,其中,所述硫化亚铜纳米抗菌剂的平均粒径为1‑3nm。10.一种如权利要求8或9所述硫化亚铜纳米抗菌剂在催化染料降解以及在抑制细菌中的应用。2CN113582216A说明书1/8页硫化亚铜纳米抗菌剂及其制备方法和应用技术领域[0001]本发明涉及铜纳米粒子,具体地,涉及一种硫化亚铜纳米抗菌剂及其制备方法和应用。背景技术[0002]细菌感染已经成为人类健康的一大威胁,甚至导致越来越多的发展中国家和欠发达地区人口死亡,于是对抗菌材料的需求更是迫在眉睫。近些年,由于抗生素药物的广泛使用,细菌感染问题在一定程度上确实得到了抑制,但是与此同时,又衍生出了另外一种新的问题,即出现了很多耐药性的超级细菌。所谓超级细菌,它的危害性更大。例如,美国每年因“超级细菌”导致的死亡人数可达到18000例,超过了2005年美国死于艾滋病的16000人;在过去两年内,法国已有313人发生VRE尿道或消化道感染,其中3人因无药可治而死亡。因此,设计和开发优于抗生素的抗菌材料已经刻不容缓。[0003]近几年来,不断涌现出了各种抗菌剂。比如光催化抗菌剂、金属氧化物抗菌剂、银系抗菌剂,铜系抗菌材料等。最有应用前景的要属铜系抗菌材料。目前制备铜系抗菌剂的方法有很多,大概分为固相法和气相法。固相法是通过物理的方法将粒径较大的颗粒通过球磨变成粒径较小的颗粒,固相法虽然可以量产产物,但是制得的粒径较大,且不可避免的引入杂质,制得的纳米颗粒粒径分布不均匀;气相法相对于固相法制备的产品纯度高,粒径分布窄,但是对设备的要求较高。发明内容[0004]本发明的目的是提供一种硫化亚铜纳米抗菌剂及其制备方法和应用,该硫化