用于工艺量测的差分目标设计和方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113960896A(43)申请公布日2022.01.21(21)申请号202111318004.0(22)申请日2017.08.16(30)优先权数据16188370.72016.09.12EP(62)分案原申请数据201780055646.12017.08.16(71)申请人ASML荷兰有限公司地址荷兰维德霍温(72)发明人B·费尔斯特莱腾H·A·J·克莱默T·希尤维斯(74)专利代理机构北京市金杜律师事务所11256代理人吕世磊(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)权利要求书2页说明书21页附图15页(54)发明名称用于工艺量测的差分目标设计和方法(57)摘要一种评估图案化工艺的方法，该方法包括：获得第一量测目标的第一测量的结果；获得第二量测目标的第二测量的结果，第二量测目标与第一量测目标具有结构差异，结构差异生成在第一与第二量测目标之间的、图案化工艺的工艺参数的灵敏度差异和/或偏移；以及由计算机系统，基于第一和第二测量的结果，确定与图案化工艺有关的值。CN113960896ACN113960896A权利要求书1/2页1.一种评估图案化工艺的方法，所述方法包括：获得第一量测目标的第一测量的结果；获得第二量测目标的第二测量的结果，所述第二量测目标与所述第一量测目标具有结构差异，其中所述结构差异被配置为引起在所述第一量测目标与所述第二量测目标之间的、所述图案化工艺的工艺参数的灵敏度差异和/或偏移；获得第三量测目标的第三测量的结果；基于所述第一测量的结果和所述第三测量的结果确定第一信号；基于所述第二测量的结果和所述第三测量的结果确定第二信号；基于所述第一信号和所述第二信号的第一组合确定工艺参数的变化；以及基于所述第一信号和所述第二信号的第二组合确定另一工艺参数的变化。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一信号是基于所述第一测量的结果和所述第三测量的结果的第一差分信号，并且其中所述第二信号是基于所述第二测量的结果和所述第三测量的结果的第二差分信号。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述工艺参数的变化从所述另一工艺参数的变化解耦。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一组合包括所述第一信号与所述第二信号的差。5.根据权利要求4所述的方法，其中所述工艺参数包括所述图案化工艺的图案化步骤的焦距。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二组合包括所述第一信号与所述第二信号的和。7.根据权利要求6所述的方法，其中所述另一工艺参数包括所述图案化工艺的图案化步骤的剂量。8.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：基于所述工艺参数的变化和所述另一工艺参数的变化导出工艺窗口标记信号。9.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：将所述工艺参数的变化以及所述另一工艺参数的变化与工艺窗口阈值进行比较，以确定所述图案化工艺是否正确地操作。10.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一量测目标和所述第二量测目标引起相对于所述第三量测目标的、所述工艺参数的灵敏度差异和/或偏移。11.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一测量的结果和所述第二测量的结果包括来自光学量测系统的强度和/或椭圆率信号值，或从来自光学量测系统的强度和/或椭圆率信号导出。12.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一测量的结果和所述第二测量的结果包括来自基于衍射的量测系统的信号值，或从来自基于衍射的量测系统的信号值导出。13.根据权利要求1所述的方法，其中所述工艺参数包括所述图案化工艺的图案化步骤的焦距。14.根据权利要求1所述的方法，其中所述另一工艺参数包括所述图案化工艺的图案化步骤的剂量。2CN113960896A权利要求书2/2页15.根据权利要求1所述的方法，其中所述结构差异是使用图案形成装置上的光学邻近校正来创建的和/或所述结构差异是所述图案形成装置上的辅助特征。16.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一量测目标和所述第二量测目标是基于器件的图案的公共产品图案或用于形成器件的图案的公共产品图案。17.一种非瞬态计算机可读存储介质，包括用于使处理器执行根据权利要求1至16中任一项所述的评估图案化工艺的方法的机器可读指令。18.一种评估图案化工艺的系统，所述系统包括：检查装置，被配置为在量测目标上提供辐射束并且检测由所述目标重定向的辐射，以确定图案化工艺的参数；以及根据权利要求17所述的非瞬态计算机可读存储介质。3CN113960896A说明书1/21页用于工艺量测的差分目标设计和方法[0001]本申请是申请日为2017年8月16日、申请号为201780555646.1、发明名称为“用于工艺量测的差分目标设计和方法”的中国发明专利申请的分案申请。[0002]相关申请的交叉引用[0003]