零件装配超差的分析方法、装置、设备以及存储介质.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113988607A(43)申请公布日2022.01.28(21)申请号202111252017.2(22)申请日2021.10.26(71)申请人成都飞机工业（集团）有限责任公司地址610000四川省成都市青羊区黄田坝纬一路88号(72)发明人赵颖丁海涛邓珍波(74)专利代理机构广州三环专利商标代理有限公司44202代理人王志(51)Int.Cl.G06Q10/06(2012.01)G06F30/10(2020.01)G06F30/20(2020.01)G06F40/18(2020.01)权利要求书2页说明书7页附图2页(54)发明名称零件装配超差的分析方法、装置、设备以及存储介质(57)摘要本发明公开一种零件装配超差的分析方法、装置、设备以及存储介质，用于电子设备，所述方法包括以下步骤：在目标装配体零件中确定出多个待测量点和多个所述待测量点的测量基准面；获取每个所述待测量点与所述基准面的最小距离；确定每个所述最小距离与预设公差区间的比对结果；基于多个所述比对结果，获得多个所述待测量点的超差分析结果。本发明还公开一种零件装配超差的分析装置、电子设备以及计算机可读存储介质。利用本发明的方法，不需要人工手动来获取最小距离和数据抄录，大大降低了超差分析时长，提高了超差分析效率。CN113988607ACN113988607A权利要求书1/2页1.一种零件装配超差的分析方法，其特征在于，用于电子设备，所述方法包括以下步骤：在目标装配体零件中确定出多个待测量点和多个所述待测量点的测量基准面；获取每个所述待测量点与所述基准面的最小距离；确定每个所述最小距离与预设公差区间的比对结果；基于多个所述比对结果，获得多个所述待测量点的超差分析结果。2.权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在目标装配体零件中确定出多个待测量点和多个所述待测量点的测量基准面的步骤之前，所述方法还包括：获取目标实体零件的测量数据模型，并获取所述目标实体零件的零部件理论数模，其中，所述测量数据模型包括多个所述待测量点；利用所述测量数据模型和所述零部件理论数模进行装配，获得所述目标装配体零件。3.权利要求2所述的方法，其特征在于，所述获取目标实体零件的测量数据模型的步骤之前，所述方法还包括：获取所述目标实体零件的装配位置信息对应的测量数据；在笛卡尔坐标系下，利用所述测量数据创建多个所述待测量点，获得所述测量数据模型。4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述基于多个所述比对结果，获得多个所述待测量点的超差分析结果的步骤之后，所述方法还包括：利用多个所述最小距离，确定出最小距离的平均值、最小距离的最大值和最小距离的最小值；基于所述比对结果、所述平均值、所述最大值和所述最小值，获得新的超差分析结果。5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述基于所述比对结果、所述平均值、所述最大值和所述最小值，获得新的超差分析结果的步骤之后，所述方法还包括：获取预设表格文档，所述预设表格文档包括所述比对结果、所述平均值、所述最大值、所述最小值和所述新的超差分析结果分别对应的写入区域；将所述比对结果、所述平均值、所述最大值、所述最小值和所述新的超差分析结果分别写入多个所述写入区域对应的写入区域，获得超差分析文档。6.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述基于所述比对结果、所述平均值、所述最大值和所述最小值，获得新的超差分析结果的步骤之后，所述方法还包括：利用所述新的超差分析结果，绘制超差分析统计图；输出所述超差分析统计图。7.如权利要求1‑6任一项所述的方法，其特征在于，若所述待测量点的最小距离在所述预设公差区间内，则所述待测量点的超差分析结果为所述待测量点为未超差点。8.一种零件装配超差的分析装置，其特征在于，用于电子设备，所述装置包括：第一确定模块，用于在目标装配体零件中确定出多个待测量点和多个所述待测量点的测量基准面；获取模块，用于获取每个所述待测量点与所述基准面的最小距离；第二确定模块，用于确定每个所述最小距离与预设公差区间的比对结果；获得模块，用于基于多个所述比对结果，获得多个所述待测量点的超差分析结果。2CN113988607A权利要求书2/2页9.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括：存储器、处理器及存储在所述存储器上并在所述处理器上运行零件装配超差的分析程序，所述零件装配超差的分析程序被所述处理器执行时实现如权利要求1至7中任一项所述的零件装配超差的分析方法的步骤。10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有零件装配超差的分析程序，所述零件装配超差的分析程序被处理器执行时实现如权利要求1至7中任一项所述的零件装配超差的分析方法的步骤。3CN113988607A说明