

荧光膜片及半导体发光装置.pdf
雅云****彩妍
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荧光膜片及半导体发光装置.pdf
本发明提供了一种荧光膜片及半导体发光装置,其中荧光膜,包括硅胶和荧光粉,硅胶和荧光粉的质量比为1∶(3~4),且硅胶的折射率小于1.45。其使用折射率小于1.45的硅胶对荧光膜片进行制备,且制备中荧光粉与硅胶的质量比在(3~4)∶1,确保能够制备得到低色温/色区目标点距离坐标原点很远的色温的半导体发光装置。在制备过程中,不会出现荧光粉和硅胶混合后流动性很差、无法正常成膜的现象,可以达到能够正常使用的荧光膜片的外观标准,即表面光滑平整无空洞的膜片,且荧光膜片不会过脆导致切割过程中出现开裂等问题。
荧光膜片检测装置及方法.pdf
本发明涉及一种荧光膜片检测装置及方法,荧光膜片检测装置包括:机体、装载机构、光源机构和集光机构,装载机构包括夹具和移动组件,夹具上设有第一透光口,夹具固定荧光膜片,以使荧光膜片覆盖在第一透光口上,移动组件安装在机体上,夹具安装在移动组件上,移动组件驱动夹具沿荧光膜片所在平面移动;光源机构包括发光探头,发光探头安装在机体上且位于荧光膜片的一侧,发光探头通过第一透光口向荧光膜片提供入射光,以使荧光膜片进入激发态并发出出射光;集光机构包括积分球,积分球安装在机体上且位于荧光膜片的另一侧,积分球接收出射光,上述荧
具有多层膜片的半导体换能器装置以及制造具有多层膜片的半导体换能器装置的方法.pdf
半导体换能器装置包括悬置在半导体本体(1)上方的膜片(10)。所述膜片(10)的第一层(9)包括耐蚀刻剂的材料,所述蚀刻剂包括氟或氟化合物,并且所述第一层覆盖包括钛和/或TiN的第二层(8)。因此所述第一层(9)充当保护层并且防止在使用HF蒸汽来蚀刻牺牲层(5)以释放所述膜片(10)期间的例如氟化钛的残留物的产生。
半导体发光装置.pdf
本发明涉及半导体发光装置,属于发光二极管领域。采用透明的玻璃片放置在点胶后的荧光胶的上部,致使荧光胶膜在器件表面的厚度保持均匀。采用透明支撑物于玻璃片于发光器件之间,解决了不同封装器件之间会产生较大的色温差的问题。本发明能够以最简单的方式实现单一封装装置色温均匀性,改善器件光斑,以及不同装置间色温的一致性,提高生产效率。
半导体发光装置.pdf
本发明的目的在于抑制半导体发光装置相对于电路衬底倾斜。本发明的侧面发光型半导体发光装置1具备:多层衬底10,具有多个基材10A~10C与多个导电层31、32;及半导体发光元件60A、60B。多层衬底10具有:主面11,安装着半导体发光元件60A、60B;背面12,朝向主面11的相反侧,且形成着外部电极50;及安装面13,与主面11及背面12这两个面交叉。多个导电层31、32具有从安装面13露出的导电露出部33s、33r、34s、34r、35sb、35rb、36sb、36rb。