转移基板、发光基板及其制备方法、显示装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114156222A(43)申请公布日2022.03.08(21)申请号202111437115.3(22)申请日2021.11.29(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号(72)发明人李海旭(74)专利代理机构北京博思佳知识产权代理有限公司11415代理人张玲玲(51)Int.Cl.H01L21/683(2006.01)H01L21/67(2006.01)H01L25/075(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图4页(54)发明名称转移基板、发光基板及其制备方法、显示装置(57)摘要本申请提供一种转移基板、发光基板及其制备方法、显示装置。所述转移基板包括基板本体、位于所述基板本体上的多个凸台、位于各所述凸台背离所述基板本体一侧的解离层及位于各所述解离层背离所述基板本体一侧的粘结层。所述基板本体的表面包括至少一个第一目标区域。所述凸台位于所述第一目标区域内，由所述第一目标区域的中心至边缘，所述凸台的高度逐渐减小。所述发光基板包括衬底、位于所述衬底一侧的多个发光单元及位于各所述发光单元背离所述衬底一侧的粘结层。所述衬底的表面包括至少一个第二目标区域。所述发光单元位于所述第二目标区域内。由所述第二目标区域的中心至边缘，所述粘结层的高度逐渐增大。CN114156222ACN114156222A权利要求书1/2页1.一种转移基板，其特征在于，所述转移基板包括：基板本体，所述基板本体的表面包括至少一个第一目标区域；位于所述基板本体上的多个凸台；所述凸台位于所述第一目标区域内，由所述第一目标区域的中心至边缘，所述凸台的高度逐渐减小；位于各所述凸台背离所述基板本体一侧的解离层；位于各所述解离层背离所述基板本体一侧的粘结层。2.根据权利要求1所述的转移基板，其特征在于，所述第一目标区域包括第一中心区域及位于所述第一中心区域周侧的多个第一环形区域，同一所述第一环形区域内设置的所述凸台的高度相等；相邻两个所述第一环形区域内，位于外侧的第一环形区域内的所述凸台的高度大于位于内侧的第一环形区域内的所述凸台的高度。3.根据权利要求2所述的转移基板，其特征在于，任相邻两个所述第一环形区域内的所述凸台的高度差相等。4.根据权利要求1所述的转移基板，其特征在于，所述解离层的横截面所呈的形状为轴对称图形或中心对称图形。5.根据权利要求1所述的转移基板，其特征在于，各所述粘结层背离所述基板本体的表面到所述基板本体的距离相等。6.根据权利要求1所述的转移基板，其特征在于，所述凸台在所述基板本体上的正投影的边缘位于对应的所述解离层在所述基板本体上的正投影的边缘外。7.根据权利要求1所述的转移基板，其特征在于，所述转移基板还包括设置在所述基板本体上的多个支撑柱，各所述凸台的周侧分别设有至少两个所述支撑柱，所述凸台周侧的所述支撑柱关于所述凸台背离所述基板本体表面的对称轴对称分布；所述支撑柱背离所述基板本体的表面到所述基板本体的第一距离、大于所述粘结层背离所述基板本体的一侧到所述基板本体的第二距离。8.根据权利要求7所述的转移基板，其特征在于，所述第一距离与所述第二距离的差值范围为0.5um～1.5um。9.一种发光基板，其特征在于，所述发光基板包括：衬底，所述衬底的表面包括至少一个第二目标区域；位于所述衬底一侧的多个发光单元，所述发光单元位于所述第二目标区域内；位于各所述发光单元背离所述衬底一侧的粘结层，由所述第二目标区域的中心至边缘，所述粘结层的高度逐渐增大。10.根据权利要求9所述的发光基板，其特征在于，所述第二目标区域包括第二中心区域及位于所述第二中心区域周侧的多个第二环形区域，同一所述第二环形区域内设置的所述粘结层背离所述衬底的表面到所述衬底的距离相等；相邻两个所述第二环形区域内，位于外侧的第二环形区域内的所述粘结层背离所述衬底的表面到所述衬底的距离、大于位于内侧的第二环形区域内的所述粘结层背离所述衬底的表面到所述衬底的距离。11.根据权利要求10所述的发光基板，其特征在于，任相邻两个所述第二环形区域内的所述粘结层的高度差相等。12.根据权利要求9所述的发光基板，其特征在于，所述粘结层背离所述衬底的一侧设有斜面，所述发光单元发出的光线通过所述粘结层入射至相邻所述粘结层之间的介质时所2CN114156222A权利要求书2/2页述光线的最大出射角为第一夹角，所述斜面与所述衬底朝向所述粘结层的表面之间的夹角为第二夹角，所述第二夹角大于或等于所述第一夹角。13.一种发光基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：提供转移基板，所述转移基板包括基板本体、位于所述基板本体上的多个凸台、位于各所述凸台背离所述基板本体一侧的解离层、以及位于各所述