最小化照射非均匀性的系统和方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114203537A(43)申请公布日2022.03.18(21)申请号202111097510.1(22)申请日2021.09.18(30)优先权数据20306056.12020.09.18EP(71)申请人欧洲激光系统和解决方案公司地址法国热讷维耶(72)发明人F·马扎穆托S·佩罗N·杜里G·V·蒂鲍尔特K·M·休特M·海因茨曼(74)专利代理机构北京市中咨律师事务所11247代理人贺月娇于静(51)Int.Cl.H01L21/268(2006.01)H01L21/67(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图6页(54)发明名称最小化照射非均匀性的系统和方法(57)摘要本发明涉及最小化照射非均匀性的系统和方法。本发明涉及一种用于照射处理衬底(1)的处理表面(5)以获得预定义温度分布的方法，处理表面(5)包括第一区域(11)和第二区域(13)，第一区域(11)具有光学特性和热特性的第一组合，并且第二区域(13)具有光学特性和热特性的第二组合，第一组合和第二组合是不同的。本发明的另一目标是一种用于照射处理衬底(1)的处理表面(5)以获得预定义温度分布的系统(21)，处理表面(5)包括第一区域(11)和第二区域(13)，第一区域(11)具有光学特性和热特性的第一组合，并且第二区域(13)具有光学特性和热特性的第二组合，第一组合和第二组合是不同的。CN114203537ACN114203537A权利要求书1/2页1.一种用于照射处理衬底(1)的处理表面(5)以获得预定义温度分布的方法，所述处理表面(5)包括第一区域(11)和第二区域(13)，所述第一区域(11)具有光学特性和热特性的第一组合，并且所述第二区域(13)具有光学特性和热特性的第二组合，所述第一组合和所述第二组合是不同的，所述方法包括以下步骤：a)确定所述处理表面(5)的至少一部分的反射率图(45)，所述反射率图(45)表示不同照射位置的反射信号，b)将在步骤a)中确定的所述反射率图(45)提供给控制单元(39)以确定非均匀照射分布，以及c)以在步骤b)中确定的所述非均匀照射分布照射所述处理衬底(1)的所述处理表面(5)，以获得被照射的处理衬底(1)的处理表面(5)，从而获得预定义温度分布。2.根据权利要求1所述的方法，其中步骤a)包括以下子步骤：a1)以均匀照射条件照射所述处理衬底(1)的所述处理表面(5)，a2)在照射步骤a1)期间检测不同照射位置处的所述反射信号，a3)通过将所述反射信号与对应的照射位置进行关联，确定所述处理衬底(1)的所述处理表面(5)的至少一部分的反射率图(45)。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中在步骤c)中以所述非均匀照射分布照射所述处理表面(5)是通过超快控制循环、管芯到管芯控制循环和/或管芯分段执行的。4.根据权利要求3所述的方法，其中在步骤c)中以所述非均匀照射分布照射所述处理表面(5)是通过超快控制循环执行的。5.根据权利要求3所述的方法，其中在步骤c)中以所述非均匀照射分布照射所述处理表面(5)是通过管芯到管芯控制循环执行的，其中实施所述管芯到管芯控制循环包括根据所检测到的反射信号与目标值的比较，在照射每个管芯(3)之后重新计算照射设定值，其中所述照射设定值在每个管芯(3)内是恒定的。6.根据权利要求3所述的方法，其中在步骤c)中以所述非均匀照射分布照射所述处理表面(5)是通过管芯分段执行的，其中实施所述管芯分段包括根据所检测到的反射信号与目标值的比较，在照射每个管芯(3)之后重新计算照射设定值，其中所述照射设定值对于针对照射具有不同响应的所述管芯(3)的不同区域(11、13)是不同的，其中针对照射的响应在每个区域内是均匀的，并且其中所述照射设定值在每个区域内是恒定的。7.根据权利要求1所述的方法，其中在步骤b)中确定的所述非均匀照射分布至少包括第一照射条件和第二照射条件，所述第一照射条件和所述第二照射条件具有不同的照射能量密度和/或不同的脉冲数量。8.根据权利要求1所述的方法，其中在步骤b)中对所述非均匀照射分布的确定是通过使用人工智能和/或至少一种确定性算法执行的。9.一种用于照射处理衬底(1)的处理表面(5)以获得预定义温度分布的系统(21)，所述处理表面(5)包括第一区域(11)和第二区域(13)，所述第一区域(11)具有光学特性和热特性的第一组合，并且所述第二区域(13)具有光学特性和热特性的第二组合，所述第一组合和所述第二组合是不同的，所述系统(21)包括：‑光源(23)，其被配置为朝向所述处理表面(5)发射脉冲光束，其中所述光源被耦合到适合于调制其通量的光学系统(25)，2CN114203537A权利要求书2/2页‑移动台(27)