偏振膜的制造方法和制造装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114200568A(43)申请公布日2022.03.18(21)申请号202111546033.2(22)申请日2017.08.16(30)优先权数据2016-1608092016.08.18JP(62)分案原申请数据201710702694.72017.08.16(71)申请人住友化学株式会社地址日本国东京都(72)发明人住田幸司赵天熙崔允硕(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021代理人朱丹(51)Int.Cl.G02B5/30(2006.01)G02F1/1335(2006.01)权利要求书1页说明书13页附图2页(54)发明名称偏振膜的制造方法和制造装置(57)摘要本发明的目的在于，提供在进行交联处理的偏振膜制造方法中能够进一步提高偏振膜的光学特性的偏振膜的制造方法及其制造装置。一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法，包括下述工序：将前述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色工序；将前述染色处理后的前述聚乙烯醇系树脂膜用交联剂进行交联处理的交联工序；对前述交联处理后的前述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射工序，所述电磁波中的超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为25％以上；以及，将照射前述电磁波后的前述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗工序。CN114200568ACN114200568A权利要求书1/1页1.一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法，包括下述工序：将所述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色工序；将所述染色处理后的所述聚乙烯醇系树脂膜用交联剂进行交联处理的交联工序；通过短波长红外线加热器、高速响应中波长红外线加热器或碳加热器对所述交联处理后的所述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射工序，所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上；以及将照射所述电磁波后的所述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗工序。2.根据权利要求1所述的偏振膜的制造方法，其中，在所述电磁波照射工序中，所述电磁波的照射热量相对于所述聚乙烯醇系树脂膜的每单位体积为100J/cm3以上且50kJ/cm3以下。3.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，所述交联剂包含硼化合物。4.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，所述交联工序是使所述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于包含所述交联剂的水溶液的交联浴的工序。5.根据权利要求4所述的偏振膜的制造方法，其还包括：在所述交联处理之后且照射所述电磁波之前，将附着于所述聚乙烯醇系树脂膜的表面的所述水溶液去除的除液工序。6.根据权利要求4所述的偏振膜的制造方法，其中，所述电磁波照射工序在将所述聚乙烯醇系树脂膜从所述交联浴中拉出后5秒以内进行。7.一种偏振膜的制造装置，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的制造装置，其具备：将所述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色部；将所述染色处理后的所述聚乙烯醇系树脂膜用交联剂进行交联处理的交联部；对所述交联处理后的所述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射部，所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上，所述电磁波照射部为短波长红外线加热器、高速响应中波长红外线加热器或碳加热器；以及将照射所述电磁波后的所述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗部。8.根据权利要求7的偏振膜的制造装置，其在电磁波照射部之前，设有将附着于交联处理后的所述聚乙烯醇系树脂膜的表面的交联液去除的除液机构，通过所述除液机构去除所述交联液。2CN114200568A说明书1/13页偏振膜的制造方法和制造装置[0001]本申请是申请日为2017年8月16日、申请号为201710702694.7、发明名称为“偏振膜的制造方法和制造装置”的申请的分案申请。技术领域[0002]本发明涉及由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法和制造装置。背景技术[0003]偏振板被广泛用作液晶显示装置等图像显示装置中的偏振元件等。作为偏振板，通常呈现在偏振膜的单面或两面使用粘接剂等贴合透明树脂膜(保护膜等)而成的构成。[0004]偏振膜主要通过下述工艺来制造：实施使包含聚乙烯醇系树脂的原卷材膜浸渍于含有碘等二色性色素的染色浴中的处理，接着使其浸渍于含有硼酸等交联剂的交联浴中的处理等，并且，在上述任意阶段中将膜进行单轴拉伸。单轴拉伸包括：在空气中进行拉伸的干式拉伸、以及在上述染色浴和交联浴等液体中进行拉伸的湿式拉伸。[0005]以往，在偏振膜的制造方法中，为了提高偏振膜的特性而进行了各种钻研。日本特开2013‑148806号公报(专利文献1)记载了：通过在硼酸处理工序与