基于非牛顿流体的抛光系统及其抛光方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106466802A(43)申请公布日2017.03.01(21)申请号201510507141.7(22)申请日2015.08.18(71)申请人昆山纳诺新材料科技有限公司地址215300江苏省苏州市昆山市高科技工业园区模具区五联路38号(72)发明人吕鸿图施武助向定艾徐维浓(74)专利代理机构北京铭硕知识产权代理有限公司11286代理人金光军(51)Int.Cl.B24B31/00(2006.01)B24B31/116(2006.01)B24B31/12(2006.01)B24B31/14(2006.01)B24B41/06(2012.01)B24B49/00(2012.01)B24B1/00(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图4页(54)发明名称基于非牛顿流体的抛光系统及其抛光方法(57)摘要本发明公开一种基于非牛顿流体的抛光系统及其抛光方法。抛光系统包含抛光工具装置、非牛顿流体辅助装置及控制装置。抛光工具装置用以带动工件于容置有非牛顿流体的抛光容器中进行位移，且非牛顿流体中具有磨料。非牛顿流体辅助装置用以利用压力、速度、振动或超声波频率的变化，而改变非牛顿流体的黏度，以利用磨料对工件进行抛光。控制装置用以控制抛光工具装置使工件于抛光容器中进行位移。本发明藉此可对具有三维形状的工件抛光。CN106466802ACN106466802A权利要求书1/2页1.一种基于非牛顿流体的抛光系统，其包含：抛光工具装置，配置以带动工件于容置有非牛顿流体的抛光容器中进行位移，且该非牛顿流体中具有磨料；非牛顿流体辅助装置，配置以利用压力、速度、振动或超声波频率的变化，而改变非牛顿流体的黏度，以利用磨料对工件进行抛光；以及控制装置，配置以控制抛光工具装置使工件于抛光容器中进行位移；其中，当非牛顿流体辅助装置运作时，非牛顿流体的黏度增加，以具有近似半固体性质，而当非牛顿流体辅助装置未运作时，非牛顿流体迅速恢复为流动状态。2.如权利要求1所述的基于非牛顿流体的抛光系统，其中非牛顿流体由可生物降解的材质所制成，且非牛顿流体的表观黏度为20kPa至100kPa。3.如权利要求1所述的基于非牛顿流体的抛光系统，其中更包含抛光液循环装置，其包含所述抛光容器、排液模块、清洗模块及补液模块，其中排液模块连接抛光容器以排出抛光容器中的非牛顿流体；清洗模块设置于抛光容器以在抛光前或抛光后清洗抛光容器及工件；补液模块连接抛光容器以补充抛光容器中的非牛顿流体。4.如权利要求1所述的基于非牛顿流体的抛光系统，其中更包含测量装置，其包含液位高度测量模块、黏度测量模块、温度测量模块、流量及速度测量模块及压力测量模块；液位高度测量模块测量抛光容器中的非牛顿流体的液位高度；温度测量模块测量抛光容器中的非牛顿流体的温度；黏度测量模块测量抛光容器中的非牛顿流体的黏度；流量及速度测量模块测量抛光容器中的非牛顿流体的流量及速度；压力测量模块测量抛光容器中的非牛顿流体的压力。5.如权利要求1所述的基于非牛顿流体的抛光系统，其中抛光工具装置包含主轴及夹具，主轴具有多个位移自由度，夹具可自转地连接于主轴，夹具配置以固定工件，控制装置配置以控制主轴之转速、位移及夹具的转速、角度。6.一种基于非牛顿流体的抛光方法，其包含下列步骤：提供容置有非牛顿流体的抛光容器，非牛顿流体中具有磨料；藉由抛光工具装置以固定工件，并置于具有非牛顿流体的抛光容器；提供非牛顿流体辅助装置，以利用该非牛顿流体辅助装置，以压力、速度、振动或超声波频率的变化，而改变非牛顿流体黏度；以及通过控制装置，以控制抛光工具装置使工件于抛光容器中进行位移，以利用磨料对工件进行抛光；其中，当非牛顿流体辅助装置运作时，非牛顿流体的黏度增加，以具有近似半固体性质，而当非牛顿流体辅助装置未运作时，非牛顿流体迅速恢复为流动状态。7.如权利要求6所述的基于非牛顿流体的抛光方法，其中更包含下列步骤：以可生物降解的材质制成非牛顿流体，且非牛顿流体的表观黏度为20kPa至100kPa。8.如权利要求6所述的基于非牛顿流体的抛光方法，其更包含下列步骤：连接排液模块至抛光容器以排出抛光容器中的非牛顿流体；设置清洗模块于抛光容器中，以在抛光前或抛光后清洗抛光容器及工件；以及连接补液模块至抛光容器以补充抛光容器中的非牛顿流体。9.如权利要求6所述的基于非牛顿流体的抛光方法，其更包含下列步骤：2CN106466802A权利要求书2/2页测量抛光容器中的非牛顿流体的液位高度，以使抛光容器中的非牛顿流体的液位高度对应于工件；测量抛光容器中的非牛顿流体的黏度；测量抛光容器中的非牛顿流体的温度；测量抛光容器中的非牛顿流体的流量及速度；以及测量抛光容器中的非牛顿流体的压力。10.如权