OLED显示面板及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109216410A(43)申请公布日2019.01.15(21)申请号201710527964.5H01L51/52(2006.01)(22)申请日2017.06.30H01L51/56(2006.01)(71)申请人昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司地址215300江苏省苏州市昆山市昆山高新区晨丰路188号申请人昆山国显光电有限公司黑牛食品股份有限公司(72)发明人林立敖伟彭兆基邢汝博袁波金凤杰田景文黄秀颀(74)专利代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237代理人智云(51)Int.Cl.H01L27/32(2006.01)权利要求书2页说明书26页附图10页(54)发明名称OLED显示面板及其制备方法(57)摘要本发明提供了一种OLED显示面板及其制备方法。所述OLED显示面板上设置了多个凹陷，使薄膜封装层填充凹陷形成锚定结构，采用该锚定结构有效增强了薄膜封装层和顶电极之间的粘附能力，可提高OLED显示面板的抗剪切力，减少或避免薄膜封装层与阴极之间以及功能层内部各膜层之间出现分离或位置偏移。CN109216410ACN109216410A权利要求书1/2页1.一种OLED显示面板，其特征在于，包括基板以及形成于所述基板上的底电极、像素定义层、功能层、顶电极和薄膜封装层；所述像素定义层形成有若干像素开口，位于所述像素开口内的底电极、功能层以及顶电极构成像素单元；所述OLED显示面板上还形成有若干凹陷，所述薄膜封装层填充所述凹陷。2.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述凹陷形成于所述像素定义层中，并至少贯穿部分厚度的像素定义层。3.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，还包括形成于所述基板上的平坦化层，所述底电极形成于所述平坦化层上；所述凹陷贯穿部分厚度或全部厚度的像素定义层，或者，所述凹陷贯穿全部厚度的像素定义层以及部分厚度或全部厚度的平坦化层。4.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述凹陷形成于所述像素定义层上方，且所述凹陷贯穿所述顶电极和功能层。5.如权利要求4所述的OLED显示面板，其特征在于，还包括形成于所述基板上的平坦化层，所述底电极形成于所述平坦化层上；所述凹陷还贯穿部分厚度或全部厚度的像素定义层，或者，所述凹陷还贯穿全部厚度的像素定义层以及部分厚度或全部厚度的平坦化层。6.如权利要求4所述的OLED显示面板，其特征在于，所述薄膜封装层包括第一薄膜封装层和第二薄膜封装层，所述第一薄膜封装层和第二薄膜封装层为无机膜层，所述凹陷贯穿所述第一薄膜封装层、顶电极和功能层，所述第二薄膜封装层填充所述凹陷并覆盖所述第一薄膜封装层。7.如权利要求6所述的OLED显示面板，其特征在于，所述第一薄膜封装层和第二薄膜封装层的厚度比例在1:1～10:1之间。8.如权利要求1-7任一项所述的OLED显示面板，其特征在于，所述凹陷为垂直孔。9.如权利要求1-7任一项所述的OLED显示面板，其特征在于，所述凹陷靠近基板的一端的截面宽度大于其远离基板的一端的截面宽度。10.如权利要求1-7任一项所述的OLED显示面板，其特征在于，所述凹陷靠近基板的一端的截面宽度小于其远离基板的一端的截面宽度。11.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，至少部分像素定义层与相邻的像素开口内的功能层之间形成有所述凹陷。12.如权利要求11所述的OLED显示面板，其特征在于，所述像素定义层靠近基板的一端的截面宽度小于其远离基板的一端的截面宽度。13.如权利要求11所述的OLED显示面板，其特征在于，所述像素定义层中还形成有若干孔，所述孔至少贯穿部分厚度的像素定义层。14.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述OLED显示面板还包括形成于像素定义层上的凸台，所述凸台靠近像素定义层的一端的截面宽度小于其远离像素定义层的一端的截面宽度，所述像素定义层与凸台之间构成了所述凹陷。15.如权利要求1-5、11-14任一项所述的OLED显示面板，其特征在于，所述薄膜封装层由有机膜层和无机膜层交替分布，所述薄膜封装层中最顶层的膜层为无机膜层，除最顶层之外的无机膜层中至少部分采用分段式结构。16.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述OLED显示面板还包括形成于像素定义层上的凸台，所述薄膜封装层包括第一薄膜封装层、第二薄膜封装层和第三薄膜2CN109216410A权利要求书2/2页封装层，所述第一薄膜封装层和第三薄膜封装层为无机膜层，所述第二薄膜封装层为有机膜层，所述凸台上方的第三薄膜封装层与第一薄膜封装层相接触。17.如权利要求14或16所述的OLED显示面板，其特征在于，所述凸台中还形成有凸台开口，所述