预览加载中,请您耐心等待几秒...
1/4
2/4
3/4
4/4

在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便

如果您无法下载资料,请参考说明:

1、部分资料下载需要金币,请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档,再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压,在使用对应软件打开

科技创新与应用 2021年14期TechnologyInnovationandApplication创新前沿 抑制SiCMOSFET瞬态电压尖峰的改进驱动电路设计 王文月1,牛萍娟2 (1.天津工业大学电气工程与自动化学院,天津300000;2.天津工业大学电子与信息工程学院,天津300000) 摘要:与硅器件相比,碳化硅金属氧化物半导体场效应管(SiCMOSFET)具有更高的开关频率与开关速度,使得传统驱 动下SiCMOSFET受寄生参数影响电压尖峰问题更为严重。而现有抑制瞬态电压尖峰方法作用有限,往往会增加开关延时与 开关损耗且控制程度复杂。因此文章结合有源箝位电路与注入栅极电流抑制电压尖峰的方法,提出了一种改进驱动电路。首先 阐明SiCMOSFET瞬态电压尖峰产生原理。其次,在有源箝位电路与注入栅极电流抑制电压尖峰前提下,基于控制辅助三极管 开通与关断,注入栅极电流思想,提出一种在栅源极增加三极管串联电容的改进驱动电路方法,并分析了其工作原理,给出了 设计参数。最后,搭建了双脉冲测试平台,对抑制瞬态电压尖峰的改进驱动电路实用性及有效性进行了验证。 关键词:碳化硅金属氧化物半导体场效应管;电压尖峰;驱动电路 中图分类号院TM46文献标志码院A文章编号院2095-2945渊2021冤14-0021-04 Abstract:Comparedwithsilicondevices,siliconcarbidemetal-oxide-semiconductorfield-effect-transistors(SiCMOSFETs) havehigherswitchingfrequencyandswitchingspeed,whichmakesthevoltagespikeproblemofSiCMOSFETsaffectedby parasiticparametersmoreseriousundertraditionaldriving.However,theexistingmethodsforsuppressingtransientvoltage spikeshavelimitedeffects,whichtendtoincreaseswitchingdelayandswitchingloss,andthedegreeofcontrolis complicated.Therefore,thispapercombinestheactiveclampcircuitandthemethodofinjectingthegatecurrenttosuppress thevoltagespike,andproposesanimproveddrivingcircuit.First,thispaperclarifiestheprincipleoftransientvoltagespike generationofSiCMOSFET.Second,underthepremiseofactiveclampcircuitandinjectiongatecurrenttosuppressvoltage spikes,basedontheideaofcontrollingtheturn-onandturn-offoftheauxiliarytransistorandinjectingthegatecurrent,a kindofin-gatecurrentisproposed.Theimproveddrivingcircuitmethodofaddingtransistorseriescapacitancetothesource, andanalyzingitsworkingprinciple,andgivingthedesignparameters.Finally,adouble-pulsetestplatformwasbuilttoverify thepracticabilityandeffectivenessoftheimproveddrivecircuitthatsuppressestransientvoltagespikes. Keywords:SiCMOSFET;voltagespike;drivecircuit 近些年,随着电力电子技术的发展,航空、电动汽源箝位电路的改进驱动方法,改进后的驱动电路具有抑 车、新能源发电及石油钻井等领域对电力电子变换器提制尖峰效果好、开关损耗较小、控制方法简单特点。本文 出更高的要求,即实现高压、高频、高功率密度[1]。因此以首先分析瞬态电压尖峰产生原理,其次分析了改进驱动 SiCMOSFET为代表的宽禁带半导体器件因其高开关速电路工作原理,最后在双脉冲测试平台验证了该改进驱 度、高开关频率及高热导率等