中微公司深度分析报告：半导体设备平台型龙头_技术全球领先.docx

中微公司深度分析报告：半导体设备平台型龙头_技术全球领先一、公司概况：国内龙头、全球领先的半导体设备公司主营业务：刻蚀起家，扩展CVD，逐步成为平台型企业公司概况：具有全球视野，技术领先型半导体设备国产龙头厂商，以刻蚀设备与MOCVD（金属有机化学气相沉积）设备为核心，外延拓展逐步成为泛半导体设备平台型企业。公司2020年实现营收/净利润分别为22.73/4.92亿元，过去4年CAGR分别为38.97%/32.28%。主营构成：刻蚀设备与MOCVD设备为核心业务，收入占比57%/22%，同时拓展其他泛半导体关键设备。公司主要从事高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售，主营业务包括以下几类：1）刻蚀设备：2020年营收12.89亿元，占比56.70%，同比+58.5%。公司刻蚀设备产品分为CCP（电容性等离子体刻蚀）和ICP（电感性等离子体刻蚀）设备，均用于集成电路制造或先进封装领域。CCP刻蚀设备：等离子体能量高，主要应用于较硬介质材料的刻蚀，如氧化硅、氮化硅及低介电系数膜层等，是公司最早开发的设备品类，产品已应用在国际一线客户65nm~5nm生产线，在部分客户处份额已进入前三位。ICP刻蚀设备：等离子体能量较低、密度高且均匀、易于控制，主要应用于较软的介质薄膜以及金属、单晶硅、多晶硅的刻蚀，是公司后续的重要发力点之一，产品应用于1X纳米及更先进工艺的逻辑和存储器件，ICP深硅刻蚀机型用于CMOS图像传感器、MEMS芯片、2.5D芯片、3D芯片等通孔及沟槽的刻蚀。2）MOCVD设备，2020年营收4.96亿元，占比21.82%，同比-34.5%。主要应用在LED外延片和功率器件的生产，公司已是世界排名前列的氮化镓（GaN）基LED设备制造商。目前公司MOCVD产品已覆盖蓝绿光LED、功率器件、MiniLED、深紫外LED领域，在行业领先客户的生产线上大规模投入量产。3）其他设备，即VOC设备，2020年营收0.14亿元，占比0.6%，同比-18.4%。子公司中微惠创2016年推出工业用大型VOC（有机挥发性气体）净化设备，即一类用于半导体行业尾气处理的环保设备，目前已用于平板显示生产线。4）备品备件及设备维护，2020年收入占比分别为19.43%/1.44%，同比分别+30.6%/+57.1%。公司在向半导体厂商出售设备后，提供的后续备品备件和设备维护服务，收入随着累计装机数的增加而稳步提升。客户进展：产品进入国内外头部企业，完善客户服务体系获得业界赞誉。截至2020Q3末，公司刻蚀和薄膜设备1600多个反应台服务于亚欧50余家芯片制造公司的70余条生产线，已具备较好的客户资源。公司客户服务体系完善，获得了广泛的业界赞誉，是2019年五家被评为五星级的半导体设备公司之一。未来发展：三维立体成长，努力成为国际一流的微观加工设备公司。公司已形成三个维度扩展未来业务的布局规划。在集成电路设备领域，公司有望扩大在刻蚀设备领域的竞争优势，延伸到薄膜、检测等其他关键设备领域；在泛半导体设备领域，公司有望借助现有技术积累，扩展布局显示、MEMS、功率器件、太阳能领域的关键设备；在其他新兴领域，公司基于对半导体产业、微纳加工制造领域的深刻理解，有望探索半导体配套环保设备、设备网络、电子生物等领域的市场机会。公司围绕自身核心竞争力，通过自主创新、有机生长，结合适当的投资、兼并策略，不断推动企业健康发展，有望在10-15年后成为国际一流的微观加工设备公司。管理团队：核心团队国际化，人才梯队建设完备国际化管理团队，核心管理团队多具有海外半导体设备龙头厂商工作经验。半导体关键设备开发因其涉及众多基础科学技术和工程领域交叉，极具复杂度，故需要具备业内资深经验的专家型团队。公司有着国际化的管理团队，具备160多位资深的技术、销售和营运专家。公司创始人、董事长及总经理尹志尧博士在半导体芯片和设备产业有超过30年的行业经验，是国际等离子体刻蚀技术发展和产业化的重要推动者之一。此外，公司其他联合创始人、核心技术人员等同样拥有资深的技术经验背景，曾在国际知名半导体设备厂商担任重要职位，保障公司未来长远发展。人才培养计划持续推进，2020年末公司员工人数近900名，研发人员占比高达39%。公司高度重视人才的吸引和发展，从国内外吸引了大批行业经验丰富的管理及技术人才，2020年末员工总数达894人，较上年同期净增171人。公司建立人才梯队培养机制，采用企业内训、外聘内训和委外培训相结合的方式开展多维度、多层次的培训项目，让员工与企业共同进步成长。为吸引和保留核心骨干人才，公司不断探索员工激励机制，包括员工持股激励、技术创新贡献奖励等，将研发人员的个人利益与公司利益绑定，促进公司长远发展。截至2020年末，公司共有346名研发人员，占比38.70%，其中博士/