一种日光温室黄瓜栽培工艺.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114568223A(43)申请公布日2022.06.03(21)申请号202210221306.4A01G24/20(2018.01)(22)申请日2022.03.09A01G24/30(2018.01)A01G24/42(2018.01)(71)申请人石家庄市农林科学研究院A01G24/25(2018.01)地址050041河北省石家庄市胜利北街479A01C21/00(2006.01)号(72)发明人康欣娜杨英茹周彦伟武亚红刘娜周广英周胜利陈帅(74)专利代理机构北京华仁联合知识产权代理有限公司11588专利代理师孙艾明(51)Int.Cl.A01G22/05(2018.01)A01G24/15(2018.01)A01G24/28(2018.01)A01G24/22(2018.01)权利要求书1页说明书7页(54)发明名称一种日光温室黄瓜栽培工艺(57)摘要本发明属于黄瓜技术领域，具体涉及一种日光温室黄瓜栽培工艺，包括播种、定植、田间管理、病虫害防治、采收，并提供具体的种植方法。本发明解决了现有温室栽培技术的缺陷，利用少量多次施肥的方式，减少肥料的浪费，同时增加了植物对肥料的吸收效率，从而提升黄瓜的产率，并且口感好，清脆鲜嫩品味正。CN114568223ACN114568223A权利要求书1/1页1.一种日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：包括播种、定植、田间管理、病虫害防治、采收。2.根据权利要求1所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述播种将包衣种子直接在营养钵内育苗，并采用单粒播种。3.根据权利要求2所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述播种的具体步骤如下：a1，将营养块封堵营养钵的大孔内，然后少量多次的方式将蒸馏水喷淋至营养钵，直至营养钵底部形成积液；所述营养钵间隔设置在苗床上，且苗床上设置有一层聚乙烯薄膜；所述营养块为泥炭营养块，且泥炭营养块将三分之一的营养钵覆盖；a2，待营养钵内的营养块表面积液去除并静置2‑6h后，加入黄瓜种子，然后采用混合蛭石覆盖，静置至育苗。4.根据权利要求3所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述泥炭营养块以蛭石和菇渣为主。5.根据权利要求3所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述混合蛭石采用粒状蛭石与粉状蛭石混合而成，所述粒状蛭石的粒径为2‑5mm。6.根据权利要求5所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述混合蛭石的铺设方法如下：将粒状蛭石平铺在营养块表面形成第一蛭石层，然后将粉状蛭石均匀洒落在第一蛭石层表面，形成第二蛭石层，最后振荡10‑20min，得到混合蛭石层，所述第一蛭石层和第二蛭石层的厚度比为3:1‑2，所述振荡的功率为50‑100W。7.根据权利要求1所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述定植采用育苗完成的黄瓜苗，采用双行错位定植，同行株距50cm，植株基部距同部位槽边10cm。所述黄瓜苗在二叶一心时进行定植。所述定植过程中基质略高于苗坨。8.根据权利要求1所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述田间管理包括：苗期白天温度控制在20‑25℃、夜间15‑20℃；坐瓜期白天温度控制在25‑28℃、夜温15‑18℃；苗期每天每m2灌水1‑3L，结果期每天每m2灌4‑5L；苗期和坐瓜期进行少量多次施肥方式，所述苗期施肥间隔为5‑8d，坐瓜期的施肥间隔是8‑10d。9.根据权利要求1所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述病虫害防治以农业防治、物理防治等综合防治技术为主，以化学防治为辅，防治霜霉病、细菌性角斑病、立枯病、蚜虫和瓜绢螟；所述综合防治技术包括：定植前高温闷棚，彻底消灭室内病虫源，放风口设置防虫网，室内挂黄色板。10.根据权利要求1所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述采收是在黄瓜由淡绿色转为深绿色后即可采收，每天采收1次，原则上瓜柄必须保留至少1cm长。2CN114568223A说明书1/7页一种日光温室黄瓜栽培工艺技术领域[0001]本发明属于黄瓜技术领域，具体涉及一种日光温室黄瓜栽培工艺。背景技术[0002]黄瓜，也称胡瓜、青瓜，属葫芦科植物。广泛分布于中国各地，并且为主要的温室产品之一。黄瓜含葡萄糖、鼠李糖、半乳糖、甘露糖、木糖、棉子糖、果糖以及芸香甙、异槲皮甙、精氨酸的葡萄糖甙等甙类。黄瓜中含有的葫芦素C具有提高人体免疫功能的作用，达到抗肿瘤目的；黄瓜中含有丰富的维生素E，可起到延年益寿，抗衰老的作用；黄瓜中的黄瓜酶，有很强的生物活性；黄瓜中所含的丙醇二酸，可抑制糖类物质转变为脂肪；黄瓜含有维生素B1，对改善大脑和神经系统功能有利，能安神定志；防止酒精中毒:黄瓜中所含的丙氨酸、精氨酸和谷胺酰胺对肝脏病人，特别是对酒精性肝硬化患者有一定辅助治疗作用，可防治酒精中