适合日光温室越冬茬黄瓜的栽培方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111034553A(43)申请公布日2020.04.21(21)申请号201911163283.0A01G7/06(2006.01)(22)申请日2019.11.25A01G9/12(2006.01)C05G1/00(2006.01)(71)申请人江苏省农业科学院C05F11/00(2006.01)地址210000江苏省南京市玄武区孝陵卫钟灵街50号(72)发明人孟力力宋江峰鲍恩财曹凯刘建龙夏礼如(74)专利代理机构北京轻创知识产权代理有限公司11212代理人王欢(51)Int.Cl.A01G22/05(2018.01)A01G2/30(2018.01)A01B79/02(2006.01)A01C21/00(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图1页(54)发明名称适合日光温室越冬茬黄瓜的栽培方法(57)摘要本发明提供一种适合日光温室越冬茬黄瓜的栽培方法，包括：选择抗病性强、耐低温高湿、耐弱光及产量高的黄瓜品种；10月中上旬选用南瓜苗下胚轴以插接法对黄瓜苗下胚轴进行嫁接；起垄前，先沟施农家肥基肥覆土，再撒施三元复合肥，采用东西向起垄，起垄后，铺滴灌带，覆地膜；每条垄面上相邻两列黄瓜幼苗呈三角形定植方式；当黄瓜幼苗生长高于20厘米时朝南斜向进行吊蔓，黄瓜主蔓与地面形成45～60°夹角；吊蔓采用的吊绳平行于地面且随着黄瓜主蔓生长而上下平行移动；采用日光温室控制温湿度，白天温度维持在25～30℃，夜间温度维持在13～15℃。该本发明的栽培方法适合黄瓜在低温寡照的情况下，可均匀接收光照。CN111034553ACN111034553A权利要求书1/2页1.一种适合日光温室越冬茬黄瓜的栽培方法，其特征在于，包括以下步骤：品种选择：选择抗病性强、耐低温高湿、耐弱光、株龄适中、果型好及产量高的黄瓜品种；嫁接育苗：10月中上旬选用根系发达、配合力强、抗病强的南瓜苗下胚轴以插接法对黄瓜苗下胚轴进行嫁接；整地起垄：起垄前，先沟施农家肥基肥覆土，再撒施三元复合肥，深翻20～25cm，整地耙平后，采用东西向起垄，相邻两条垄间隔大于1m；起垄后，铺滴灌带，覆地膜；植株定植：每条垄面上定植三到四列黄瓜幼苗，行距小于株距，株距为30～50cm，相邻两列黄瓜幼苗呈三角形定植方式；吊蔓调整：当黄瓜幼苗生长高于20厘米时朝南斜向进行吊蔓，黄瓜主蔓与地面形成45～60°夹角；吊蔓采用的吊绳平行于地面且随着黄瓜主蔓生长而上下平行移动；黄瓜主蔓长势旺盛后选择晴天上午及时清除侧蔓同时打掉朝北生长的叶子；黄瓜主蔓长出6穗果后摘心，果穗上部保留2片叶；当第1穗果长成正常大小并开始变白时，打掉第2穗果以下的黄瓜卷须及下部病老叶；温湿度管理：采用日光温室控制黄瓜生长过程所需的温湿度，白天温度维持在25～30℃，夜间温度维持在13～15℃。2.根据权利要求1所述的适合日光温室越冬茬黄瓜的栽培方法，其特征在于，嫁接育苗时，黄瓜苗下胚轴与南瓜苗下胚轴粗细基本一致，黄瓜嫁接育苗在日光温室中进行。3.根据权利要求2所述的适合日光温室越冬茬黄瓜的栽培方法，其特征在于，植起垄前每亩均匀施入农家肥基肥3000～4000Kg，农家肥基肥选用充分腐熟的鸡粪、草木灰、饼肥混合；每亩再施三元复合肥50～60kg，磷酸二铵50～60kg，硫酸钾50～60kg。4.根据权利要求3所述的适合日光温室越冬茬黄瓜的栽培方法，其特征在于，垄长25～100m，垄面宽1～1.5m，垄沟宽0.5～1m,垄沟深0.3cm，垄高0.20～0.25m，从南到北共起垄5～8条。5.根据权利要求4所述的适合日光温室越冬茬黄瓜的栽培方法，其特征在于，南面两垄的间隔大于相邻北面两垄间隔，南面两垄的间隔与相邻北面两垄间隔的间隔差10～20cm。6.根据权利要求5所述的适合日光温室越冬茬黄瓜的栽培方法，其特征在于，采用精整复式土壤耕作机配套清沟装置完成起垄、整形清沟。7.根据权利要求6所述的适合日光温室越冬茬黄瓜的栽培方法，其特征在于，采用多功能半自动移栽机进行机械定植，栽植频率≥30株/分·行；栽植合格率≥90％；株距变异系数≤20％，定植同时铺滴灌带覆膜。8.根据权利要求7所述的适合日光温室越冬茬黄瓜的栽培方法，其特征在于，每垄设三～四条滴灌带，将每列黄瓜定植于滴灌带的北面且离滴灌带5～15cm。9.根据权利要求8所述的适合日光温室越冬茬黄瓜的栽培方法，其特征在于，北面垄的黄瓜主蔓蔓高高于南面垄的黄瓜主蔓蔓高，相邻两垄黄瓜主蔓蔓高高度差为10～20cm，吊蔓采用的吊绳平行于每列黄瓜主蔓顶部连成的斜线且随着黄瓜主蔓生长而上下平行移动。10.根据权利要求9所述的适合日光温室越冬茬黄瓜的栽培方法，其特征在于，还包括水肥管理：黄瓜幼苗在九月底十月初定植，定