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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110534550A(43)申请公布日2019.12.03(21)申请号201910777303.7(22)申请日2019.08.22(71)申请人武汉华星光电技术有限公司地址430079湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋(72)发明人聂晓辉(74)专利代理机构深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300代理人黄威(51)Int.Cl.H01L27/32(2006.01)H01L27/12(2006.01)H01L21/77(2017.01)G02F1/1333(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图2页(54)发明名称显示面板及其制备方法和终端(57)摘要本发明实施例公开了一种显示面板及其制备方法和终端,所述显示面板包括显示区和非显示区,所述显示面板还包括:盲孔,所述盲孔设置于所述非显示区;第一基板,所述第一基板包括缓冲层;其中,所述盲孔贯穿所述缓冲层。本发明实施例中将所述阵列基板上的缓冲层开设盲孔,相较于传统技术,由于本发明将显示面板中的盲孔中的缓冲层去除掉,使得入射光线通过盲孔时,阻挡光线的膜层更少,因此提高了入射光线的透射率。CN110534550ACN110534550A权利要求书1/2页1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括显示区和非显示区,所述显示面板还包括:盲孔,所述盲孔设置于所述非显示区;第一基板,所述第一基板包括缓冲层;其中,所述盲孔贯穿所述缓冲层。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板为液晶显示面板,所述显示面板还包括:背光源;下偏光片,置于所述背光源上;第一基板,所述第一基板还包括像素阵列层;液晶层,置于所述第一基板上;第二基板,置于所述液晶层上,所述第二基板包括色阻和黑色矩阵;上偏光片,置于所述第二基板上;其中,所述盲孔贯穿所述背光源、所述下偏光片、所述像素阵列层、所述色阻、所述黑色矩阵和所述上偏光片。3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板为OLED显示面板,所述显示面板还包括:基板,所述基板还包括驱动电路层;发光器件层,置于所述基板上;偏光片,置于所述发光器件层上;其中,所述盲孔贯穿所述驱动电路层、所述发光器件层和所述偏光片。4.一种终端,其特征在于,所述终端包括摄像头和如权利要求1至3任一项所述的显示面板;所述摄像头设置于所述盲孔内。5.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:提供衬底基板;在所述衬底基板上依次制备缓冲层和第一有源层;在所述第一有源层上形成环形凹槽,制备得到第二有源层,所述环形凹槽将所述显示面板划分为第一区域和第二区域;在所述第二有源层上依次制备栅绝缘层和像素阵列层;除去所述环形凹槽内的缓冲层和所述第一区域内的缓冲层、第二有源层和栅绝缘层。6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述在所述缓冲层上制备第一有源层包括:在所述缓冲层上制备非晶硅层;利用激光退火结晶的方式,将非晶硅层转化成多晶硅层,制备得到第一有源层。7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述在所述第一有源层上形成环形凹槽,制备得到第二有源层包括:对所述第一有源层进行图案化处理,以在所述第一有源层上形成环形凹槽,制备得到第二有源层。8.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述除去所述环形凹槽内2CN110534550A权利要求书2/2页的缓冲层和所述第一区域内的缓冲层、有源层和栅绝缘层包括:对所述阵列基板进行激光剥离,以剥离所述环形凹槽内的缓冲层和所述第一区域内的缓冲层、有源层和栅绝缘层。9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述对所述阵列基板进行激光剥离,剥离所述环形凹槽内的缓冲层和所述第一区域内的缓冲层、有源层和栅绝缘层还包括:采用清洗工艺去除剥离处理后的,所述环形凹槽内的缓冲层和所述第一区域内的缓冲层、有源层和栅绝缘层中的残材。10.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述在所述第二有源层上依次制备栅绝缘层和像素阵列层包括:在所述第二有源层上依次图案化制备栅绝缘层、像素阵列层。3CN110534550A说明书1/7页显示面板及其制备方法和终端技术领域[0001]本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板及其制备方法和终端。背景技术[0002]随着显示行业的快速发展,具有高屏占比的显示装置成为当前发展的趋势。显示装置的显示比从16:9发展为18:9,显示装置再依次发展为异形屏以及美人尖,到发展为显示装置采用面内挖孔技术,都是为了提高显示装置的屏占比。由于面内挖孔对制程工艺以及显示装置的良率要求具有较大挑战,使得面内盲孔设计成为发展的趋势。[0003]现有面内盲孔设计,显示装