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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111081825A(43)申请公布日2020.04.28(21)申请号201911328862.6(22)申请日2019.12.20(71)申请人浙江大学地址310058浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号(72)发明人潘新花刘浩叶志镇(74)专利代理机构杭州求是专利事务所有限公司33200代理人万尾甜韩介梅(51)Int.Cl.H01L31/20(2006.01)H01L21/02(2006.01)H01L31/0368(2006.01)H01L31/032(2006.01)H01L31/09(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称一种MSM型日盲紫外探测器的制备方法(57)摘要本发明公开了一种MSM型日盲紫外探测器的方法,该日盲紫外探测器自下而上依次有c-Al2O3层、N:Ga2O3多晶层和Au/Ti叉指电极。其制备方法如下:直接使用c-Al2O3层作为衬底,然后采用PLD方法制备N:Ga2O3多晶层,最后镀上Au/Ti叉指电极完成日盲紫外探测器的制作。相比于传统的日盲紫外探测器,此方法制备的日盲紫外探测器具有结构简单、制备容易、成本低下、响应度高,响应时间快等特点,在军事领域、民用领域均有着较高的应用价值。CN111081825ACN111081825A权利要求书1/1页1.一种MSM型日盲紫外探测器的制备方法,其特征在于,该探测器自下而上依次有c-Al2O3层(1)、N:Ga2O3多晶层(2)和Au/Ti叉指电极(3),该探测器的制备方法包括以下步骤:1)将c-Al2O3衬底进行清洁,获取表面无杂质且表面无氧吸附的c-Al2O3层(1);对c-Al2O3衬底依次使用丙酮、乙醇、去离子水超声清洗;清洗结束后使用氮气枪吹干表面水分,然后放进O-plasma等离子清洗机,使用O-plasma轰击c-Al2O3层(1)表面10~15min;最后将洁净的c-Al2O3层放入真空腔室,对衬底进行加热至200℃保温20min,实现衬底表面去氧、去杂质吸附目的;获得表面无杂质且表面无氧吸附的c-Al2O3层(1);2)在洁净的c-Al2O3层(1)上使用PLD方法制备厚度为20~300nm的N:Ga2O3多晶层(2);将步骤1)清洗过的c-Al2O3层放入PLD装置生长室中,调整Ga2O3靶材与c-Al2O3层(1)之-5间的距离为60mm,生长室真空度抽至10Pa,然后将c-Al2O3层(1)加热至600~700℃,维持温度恒定,在真空腔室中通入N2O,调节压强,使压强维持为1Pa,开启激光器,激光能量2200mJ/cm,频率为3Hz,让激光束聚焦到Ga2O3陶瓷靶靶面烧蚀靶材,形成余辉,先进行预沉积5min,去除靶材表面Ga、O比例不均匀层,然后再将靶材与衬底间的挡板打开,在c-Al2O3层(1)上沉积薄膜,制得N:Ga2O3多晶层(2);3)在上述制备获取的N:Ga2O3多晶层(2)上蒸镀厚度为50nm/25nm的Au/Ti叉指电极(3),获得Ga2O3多晶薄膜MSM型日盲紫外探测器。2CN111081825A说明书1/4页一种MSM型日盲紫外探测器的制备方法技术领域[0001]本发明涉及一种日盲紫外探测器的制备方法,属于半导体光电器件技术领域。背景技术[0002]紫外探测技术是在红外探测技术发展遇到瓶颈以后,为了解决红外探测技术的缺陷而发明的新型军用、民用技术。它广泛应用于空间通讯、高压电晕探测、导弹预警、生物医学等领域。目前市场主要受控于硅基紫外探测器和传统商用光电倍增管,还未见不受太阳光影响的日盲紫外探测器。[0003]Ga2O3是一种新型宽禁带半导体材料,禁带宽度4.9eV低于太阳光波段,具有直接带隙能带结构,可见光透过率高,物理化学性质稳定,高温稳定性好等优点。相较于传统光电倍增管和硅基紫外探测器,以及常见的半导体紫外探测器,其有着无需价格昂贵的滤光片,工作电压较低、体积小、能耗较小、可高温使用、重量轻,不受太阳光影响,误报率低等优点。发明内容[0004]本发明的目的是提供一种制备工艺简单安全、制作成本低、易于生产,且响应度高、响应时间短,不受日光影响,可全天候使用的Ga2O3多晶薄膜MSM型日盲紫外探测器的制备方法。[0005]本发明的Ga2O3多晶薄膜MSM型日盲紫外探测器,自下而上包含有c-Al2O3层、N:Ga2O3多晶层和Au/Ti叉指电极。制备方法包括以下步骤:[0006]1)将c-Al2O3衬底进行清洁,获取表面无杂质且表面无氧吸附的c-Al2O3层;[0007]将c-Al2O3衬底依次使用丙酮、乙醇、去离子水超声清洗;清洗结束后使用氮气枪吹干表面水分,然后放进O-plasma等离子清洗机,使用O-pl