一种电镀盲孔工艺.pdf
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一种电镀盲孔工艺.pdf
本发明涉及一种电镀盲孔工艺,选择一块与待电镀电路板形状相同的盖板,在盖板上设置与电路板的盲孔一一对应的隔离柱;将电路板放入电镀液中,然后将盖板悬置于电路板上方并固定,固定状态下,隔离柱与盲孔一一对应并伸入盲孔内;调整盖板的高度,使得隔离柱与盲孔侧壁和底部留出间隙;待隔离柱调节到位后,给电路板通电,即完成电镀,本发明可保证盲孔内电镀层厚薄均匀,避免出现盲孔被堵的现象。
一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺.pdf
本发明公开了一种高纵横比盲孔电镀铜填孔的工艺,包括如下步骤:S1、称取330g的CuSO4·5H2O均匀溶解于1200mL的去离子水中,然后在不断搅拌的条件下缓慢加入44mL的浓硫酸,待溶液温度降至室温后,开始顺序加入氯离子、抑制剂、加速剂、整平剂,搅拌均匀后,加适量的去离子水定容,从而制备出电镀液;S2、在HID板的表面上钻多个呈阵列分布的盲孔,采用喷砂装置向盲孔的底表面和内壁上喷砂,确保在盲孔的底表面和内壁上形成微小孔,喷砂后将HID板倒置,以确保砂从盲孔中倾倒出。本发明的有益效果是:电镀工艺简单、镀
一种新型的铝基板盲孔电镀工艺.pdf
本发明公开了一种新型的铝基板盲孔电镀工艺,包括以下步骤:取板:拿取已钻完盲孔的基板;高分子导电膜:代替普通的化学沉铜,在盲孔的介质层上沉积一薄层有机导电膜,在电镀生产时直接镀上铜,具体步骤:(1)微蚀,除去板子铜面上的氧化物及其它杂质,粗化铜表面,水刀流量30‑70L/min;本发明通过设置取板、高分子导电膜、VCP电镀和完成作业的工艺流程,解决了塞铜浆或银浆都存在的胶体容易导致塞孔后导通阻值偏大,可靠性差;而普通化学沉铜+VCP电镀工艺又导致孔内铝层腐蚀,电不上铜,无法实现线路层即铜层与铝层的连通的问题
一种盲埋孔局部电镀的加工工艺.pdf
本发明公开了一种盲埋孔局部电镀的加工工艺,它包括以下步骤:S2、同层盲埋孔两次的操作步骤为:堆叠起来进行压合,随后顺次通过钻盲埋孔处理、沉铜处理、全板镀铜处理、制作内层线路、全板加厚铜镀铜处理、基材外表面退膜处理、制作内层线路、内层蚀刻处理以及棕化处理;S3、同层盲埋孔三次的操作步骤为:堆叠起来进行压合,随后顺次钻盲埋孔处理、沉铜处理、全板镀铜处理、制作内层线路、全板加厚铜镀铜处理、基材外表面退膜处理、制作内层线路、内层蚀刻处理以及棕化处理。本发明的有益效果是:同层盲埋孔两次及以上采用此工艺能够有效的保证
一种电镀铜溶解液及高深度盲孔快速填孔工艺.pdf
本发明公开了一种电镀铜溶解液及高深度盲孔快速填孔工艺,电镀铜溶解液包括:第一添加剂、第二添加剂、五水硫酸铜溶液、硫酸溶液、盐酸溶液和纯净水,通过配置电镀铜溶解液、初始阶段填孔、爆发阶段填孔和回复期填孔,改变电流和时间,完成高深度盲孔的快速填孔。通过上述方式,本发明所述的电镀铜溶解液及高深度盲孔快速填孔工艺,对线路板的盲孔进行镀层,填孔率高,填孔率大于95%,镀层表面平整,平整度达到95%以上,填孔镀铜无空洞、无缝隙,表面沉积厚度低,延展性较好,具有良好的光泽,高韧性和低内应力,提高线路板的质量。