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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112531127A(43)申请公布日2021.03.19(21)申请号202011331511.3(22)申请日2020.11.24(71)申请人上海和辉光电股份有限公司地址201500上海市金山区工业区九工路1568号(72)发明人王钊林信志(74)专利代理机构上海申新律师事务所31272代理人俞涤炯(51)Int.Cl.H01L51/52(2006.01)H01L51/56(2006.01)H01L27/32(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图4页(54)发明名称一种有机电致发光显示面板及其制备方法(57)摘要本发明提供一种有机电致发光显示面板及其制备方法,涉及显示技术领域,包括:一玻璃基板,所述玻璃基板上形成一透光区域和一非透光区域;一盲孔,穿设所述透光区域且所述盲孔内填充有一透明的第一胶体;一封装层,形成于所述透光区域和所述非透光区域的上方。有益效果是保证盲孔区域的透过率大于80%的同时,防止摄像头透过盲孔区域时出现拍摄异常形态;生产工艺复杂度较低,具备量产优势。CN112531127ACN112531127A权利要求书1/2页1.一种有机电致发光显示面板,其特征在于,包括:一玻璃基板,所述玻璃基板上形成一透光区域和一非透光区域;一盲孔,穿设所述透光区域且所述盲孔内填充有一透明的第一胶体;一封装层,形成于所述透光区域和所述非透光区域的上方。2.根据权利要求1所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,所述透光区域包括依次叠层设置于所述玻璃基板上方的一有机层、一阴极层和一封盖层。3.根据权利要求2所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,去除所述封盖层、所述阴极层和所述有机层,暴露所述玻璃基板以形成所述盲孔。4.根据权利要求3所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,采用激光刻蚀方式去除所述透光区域的所述封盖层、所述阴极层和所述有机层。5.根据权利要求2所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,所述非透光区域包括依次叠层设置于所述玻璃基板上方的一画素电路层、一阳极层、一有机层、一阴极层和一封盖层,所述非透光区域的所述有机层、所述阴极层和所述封盖层分别与所述透光区域的所述有机层、所述阴极层和所述封盖层形成连续结构。6.根据权利要求1所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,所述第一胶体为UV光学胶,所述UV光学胶的折射率的取值范围为1.2‑1.8。7.根据权利要求1所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,所述封装层采用盖板封装。8.一种有机电致发光显示屏幕,其特征在于,包括如权利要求1‑7中任意一项所述的有机电致发光显示面板,还包括:一偏振片,设置于所述有机电致发光显示面板的所述封装层的上方,所述偏振片上开设有一通孔,所述通孔与所述盲孔对应设置;一外层保护板,贴合于所述偏振片的上方;所述通孔中填充有一透明的第二胶体,所述偏振片与所述外层保护板之间填充有一透明的第三胶体。9.根据权利要求8所述的有机电致发光显示屏幕,其特征在于,所述第二胶体及所述第三胶体为光学胶。10.根据权利要求8所述的有机电致发光显示屏幕,其特征在于,所述第二胶体为光学透明树脂胶,所述第三胶体为光学胶。11.一种有机电致发光显示面板的制备方法,其特征在于,包括:步骤S1、提供一玻璃基板;步骤S2、于所述玻璃基板上形成一透光区域和一非透光区域;步骤S3、于所述透光区域形成一盲孔;步骤S4、于所述盲孔内填充一透明的第一胶体;步骤S5、采用封装工艺以于所述透光区域和所述非透光区域上方形成一封装层。12.根据权利要求11所述的有机电致发光显示面板的制备方法,其特征在于,所述步骤S2包括:步骤S21、于所述玻璃基板上定义所述透光区域及所述非透光区域的位置;步骤S22、于所述玻璃基板上表面形成一低温多晶硅层,使所述低温多晶硅层覆盖所述2CN112531127A权利要求书2/2页非透光区域,并于所述低温多晶硅层中制备画素电路以形成画素电路层;步骤S23、于所述画素电路层上表面形成一阳极层,并使所述阳极层与所述画素电路层中的画素电路于预定位置形成接触;步骤S24、于所述阳极层上表面及所述透光区域上表面形成一连续的有机层;步骤S25、于所述有机层上表面形成一阴极层;步骤S26、于所述阴极层上表面形成一封盖层。13.根据权利要求12所述的有机电致发光显示面板的制备方法,其特征在于,所述步骤S3中,采用激光刻蚀方式去除所述透光区域的所述封盖层、所述阴极层和所述有机层,暴露所述玻璃基板以形成所述盲孔。14.根据权利要求11所述的有机电致发光显示面板的制备方法,其特征在于,所述第一胶体为UV光学胶,所述UV光学胶的折射率的取值范围为1.2‑1.8。15.根据权利要求14所述的有机电致发光显示面板的制备方