有机发光显示面板及其制备方法、显示装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110911467A(43)申请公布日2020.03.24(21)申请号201911234648.4(22)申请日2019.12.05(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人成都京东方光电科技有限公司(72)发明人尚庭华刘庭良龙跃青海刚张毅黄炜赟杨路路(74)专利代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201代理人尹璐(51)Int.Cl.H01L27/32(2006.01)H01L21/311(2006.01)H01L21/77(2017.01)权利要求书2页说明书6页附图4页(54)发明名称有机发光显示面板及其制备方法、显示装置(57)摘要本发明公开了有机发光显示面板及其制备方法、显示装置。该有机发光显示面板包括：基板；像素界定层位于基板上且在基板上限定出多个发光区域；掩膜支撑物位于像素界定层远离基板的一侧上，像素界定层具有沿掩膜支撑物对称分布的多个凹槽，沿着垂直于基板的截面方向，像素界定层与所述掩膜支撑物相接触一侧的表面具有第一边长，掩膜支撑物与像素界定层相接触一侧的表面具有第二边长，第一边长不大于第二边长。由此，可通过降低形成掩膜支撑物下方的像素界定层的尺寸，令掩膜支撑物具有较为尖锐的上表面而降低掩膜支撑物与精细金属掩膜相接触的面积，从而改善由于掩膜支撑物与精细金属掩膜发生剐蹭而导致的不良。CN110911467ACN110911467A权利要求书1/2页1.一种有机发光显示面板，其特征在于，包括：基板；像素界定层，所述像素界定层位于所述基板上且在所述基板上限定出多个发光区域；掩膜支撑物，所述掩膜支撑物位于所述像素界定层远离所述基板的一侧上，所述像素界定层具有沿所述掩膜支撑物对称分布的多个凹槽，沿着垂直于所述基板的截面方向，所述像素界定层与所述掩膜支撑物相接触一侧的表面具有第一边长，所述掩膜支撑物与所述像素界定层相接触一侧的表面具有第二边长，所述第一边长不大于所述第二边长。2.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述掩膜支撑物在所述基板上的正投影靠近所述凹槽一侧的边界，与所述凹槽在所述基板上的正投影靠近所述掩膜支撑物一侧的边界相重合。3.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述掩膜支撑物覆盖所述凹槽靠近所述掩膜支撑物一侧的侧壁。4.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，进一步包括：阳极金属，所述阳极金属位于所述像素界定层朝向所述基板一侧，金属垫片，所述金属垫片与所述阳极金属同层设置，且所述金属垫片在所述基板上的正投影，位于所述掩膜支撑物在所述基板上正投影所在区域的边缘处；任选地，所述金属垫片在所述基板上的正投影位于所述掩膜支撑物在所述基板上正投影所在的区域的拐角处。5.根据权利要求4所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述金属垫片与所述阳极金属相连。6.根据权利要求4所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述金属垫片的边长为1.5～2.0微米，任选地，所述基板上具有发光层沉积区域，所述发光区域位于所述发光层沉积区域内部，且所述金属垫片的中心和所述发光层沉积区域靠近所述金属垫片一侧的边缘之间的垂直距离大于5微米。7.根据权利要求1-6任一项所述的有机发光显示面板，其特征在于，进一步包括：阳极走线，所述阳极走线与所述阳极金属相连，所述凹槽在所述基板上的正投影和所述阳极走线在所述基板上的正投影不重叠。8.一种制备权利要求1-7任一项所述的有机发光显示面板的方法，其特征在于，包括：在基板上设置像素界定层以及掩膜支撑物，所述像素界定层位于所述基板上且在所述基板上限定出多个发光区域；所述掩膜支撑物位于所述像素界定层远离所述基板的一侧，沿着垂直于所述基板的截面方向，所述像素界定层与所述掩膜支撑物相接触一侧的表面具有第一边长，所述掩膜支撑物与所述像素界定层相接触一侧的表面具有第二边长，并在设置所述像素界定层时形成多个凹槽，以令所述第一边长不大于所述第二边长。9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，形成所述凹槽包括：在所述基板上形成像素界定层材料，并在所述像素界定层材料远离所述基板一侧表面的预定区域形成支撑物材料，利用半色调掩膜对所述像素界定层材料以及所述支撑物材料2CN110911467A权利要求书2/2页进行刻蚀，以形成所述凹槽以及所述掩膜支撑物；或者，利用第一掩膜对所述像素界定层材料进行刻蚀以形成具有所述凹槽的所述像素界定层，并在所述像素界定层远离所述基板的一侧形成支撑物材料，利用第二掩膜对所述支撑物材料进行刻蚀，以获得所述掩膜支撑物，并令所述掩膜支撑物覆盖所述凹槽靠近所述掩膜支撑物一侧的侧壁。10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的