包含含氟表面活性剂的光阻剥除剂.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103631101103631101A(43)申请公布日2014.03.12(21)申请号201210301068.4(22)申请日2012.08.22(71)申请人杜邦公司地址美国特拉华(72)发明人李豪浚李泰城吴富其方旭强(74)专利代理机构永新专利商标代理有限公司72002代理人于辉(51)Int.Cl.G03F7/42(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书11页说明书11页附图2页附图2页(54)发明名称包含含氟表面活性剂的光阻剥除剂(57)摘要本发明公开了一种光阻剥除剂，其包含：(a)40重量％-80重量％的单乙醇胺；(b)18重量％-58重量％的N，N-二甲基乙酰胺；和(c)0.001重量％-2重量%的含氟表面活性剂，其中所述重量％基于该光阻剥除剂的总重量。本发明的光阻剥除剂具有可与水完全互溶，对于以铝或铝合金为线路材料的电子组件没有腐蚀性，并且对环境低毒性的优势。此外，本发明还公开了使用本发明的光阻剥除剂去除光阻的方法。CN103631101ACN1036ACN103631101A权利要求书1/1页1.一种光阻剥除剂，其包含：(a)40重量%-80重量%的单乙醇胺；(b)18重量%-58重量%的N，N-二甲基乙酰胺；和(c)0.001重量%-2重量%的含氟表面活性剂；其中，所述重量百分比基于所述光阻剥除剂的总重量；所述光阻剥除剂包含少于1重量%的水；和所述光阻剥除剂包含少于1重量%的二元醇醚类溶剂，其中，所述二元醇醚类溶剂选自乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二丙二醇乙醚和二丙二醇丁醚。2.如权利要求1所述的光阻剥除剂，其中所述含氟表面活性剂是式1的化合物或其混合物：Rf(OCH2CH2)nOH1其中，Rf是部分氟化或全氟化的脂族基，所述脂族基具有小于或等于6的总碳数并且选自烷基、烯基、环烷基和环烯基；和n是从1至25的整数。3.如权利要求1所述的光阻剥除剂，其用于从电子组件的表面去除光阻以露出所述电子组件的线路。4.如权利要求3所述的光阻剥除剂，其中所述光阻为有机聚合材料，其选自酚醛树脂、聚(对-乙烯苯酚)、聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基戊二酰亚胺、及它们的衍生物和共聚物。5.如权利要求3所述的光阻剥除剂，其中所述线路的材料是由铝、铝合金、铬、氮化硅或铟锡氧化物组成。6.如权利要求3所述的光阻剥除剂，其中所述电子组件为透明绝缘基板、栅电极、栅极绝缘膜、半导体层、源电极、漏电极、滤色器、绝缘膜、低温多晶硅基板或触控面板数组式电极。7.一种从电子组件的表面去除光阻的方法，该方法包括以下步骤：i.提供表面具有待剥除光阻的电子组件；ii.在40°C-80°C的温度，用权利要求1所述的光阻剥除剂接触该电子组件10秒-15分钟以露出所述电子组件的线路；iii.用水洗涤5秒-5分钟；和iv.用惰性气体干燥。8.如权利要求7所述的方法，其中所述接触是喷洒或浸泡。9.如权利要求7所述的方法，其中所述光阻为有机聚合材料，其选自酚醛树脂、聚(对-乙烯苯酚)、聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基戊二酰亚胺、及它们的衍生物和共聚物。10.如权利要求7所述的方法，其中所述线路的材料是由铝、铝合金、铬、氮化硅或铟锡氧化物组成。11.如权利要求7所述的方法，其中所述电子组件为透明绝缘基板、栅电极、栅极绝缘层、半导体层、源电极、漏电极、滤色器、绝缘膜、低温多晶硅基板、或触控面板数组式电极。2CN103631101A说明书1/11页包含含氟表面活性剂的光阻剥除剂技术领域[0001]本发明涉及一种含有烷基醇胺、烷基酰胺和含氟表面活性剂的光阻剥除剂(photoresiststripper)，特别涉及去除用于半导体、液晶显示器、触控感应屏幕和电子书中的正型光阻。背景技术[0002]科技产业不断发展进步，而其中薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的技术更是不断地演进，又由于薄膜晶体管液晶显示器具有体积小不占空间、耗电量少、辐射量低、产品耐用等优势，因此已逐渐取代以阴极射线管(CRT)所制作的显示器。而且随着对显示器的需求不断增加，薄膜晶体管液晶显示器的产量更是逐渐提升，并且跟随着技术世代的演进，五代、六代、七代、八代、甚至十代厂房也不断地被建造起来，在薄膜晶体管液晶显示器中所投入的金额也越来越大，因此可以预见未来的技术进步与经济规模是非常惊人的。[0003]光阻，也称为光阻剂、光刻胶或光致抗蚀剂，是一种用在许多工业制备过程上的光敏材料。例如，光刻技术（也称为“光学光刻技术”或“防紫外线光刻技术”）是指，在光掩膜上先刻画几何图形结构，然后利用曝光和显影将光掩膜上的