具有导电涂层的可植入医疗装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106102829A(43)申请公布日2016.11.09(21)申请号201580012563.5(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司1(22)申请日2015.03.041332代理人巩克栋杨生平(30)优先权数据61/949,6172014.03.07US(51)Int.Cl.14/637,5352015.03.04USA61N1/375(2006.01)C23C14/00(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2016.09.07(86)PCT国际申请的申请数据PCT/US2015/0187792015.03.04(87)PCT国际申请的公布数据WO2015/134636EN2015.09.11(71)申请人卡梅伦保健公司地址美国明尼苏达州(72)发明人迈克尔·J·凯恩马修·P·琼斯斯维尔·格罗彭权利要求书2页说明书11页附图7页(54)发明名称具有导电涂层的可植入医疗装置(57)摘要公开了一种包括涂层的可植入医疗装置和相关的方法。所述可植入医疗装置可以包括金属外壳。形成在金属外壳的至少一部分上的粘附层。形成于所述粘附层的至少一部分上的氮化钛基底层。形成在氮化钛基底层的至少一部分上的中间层，和形成在中间层的至少一部分上的氮化钛顶层。CN106102829ACN106102829A权利要求书1/2页1.一种可植入医疗装置，其包括：金属外壳；和形成于所述金属外壳的至少一部分上的涂层，所述涂层包括：形成在金属外壳的至少一部分上的粘附层；形成于所述粘附层的至少一部分上的氮化钛基底层；形成在氮化钛基底层的至少一部分上的钛中间层；和形成在钛中间层的至少一部分上的氮化钛顶层。2.根据权利要求1所述的可植入医疗装置，其中，所述粘附层和所述中间层是基本上纯的钛。3.根据权利要求1或2所述的可植入医疗装置，其中，所述氮化钛基底层的晶粒尺寸大于所述氮化钛顶层的晶粒尺寸。4.根据权利要求1-3中任一项所述的可植入医疗装置，其中，氮化钛基底层厚度大于粘附层厚度、钛中间层厚度和氮化钛顶层厚度。5.根据权利要求1-4中任一项所述的可植入医疗装置，其中，氮化钛顶层厚度大于粘附层厚度和钛中间层厚度。6.根据权利要求1-5中任一项所述的可植入医疗装置，其中，涂层厚度在约0.25微米至约34.0微米的范围内；粘附层具有在约0.0004微米至约2微米范围内的厚度；氮化钛基底层具有在约0.002微米至约20微米范围内的厚度；钛中间层具有约0.0004微米至约4.0微米范围内的厚度；以及氮化钛顶层具有在约0.0004微米至约8微米范围内的厚度。7.一种可植入医疗装置，其包括：电极表面，所述电极表面包括形成在金属表面的至少一部分上的涂层，所述涂层包括：形成在金属表面的至少一部分上的粘附层；形成在粘附层的至少一部分上的基底层；形成在所述基底层的至少一部分上的含有钛的中间层；和形成在中间层的至少一部分上的顶层。8.根据权利要求7所述的可植入医疗装置，其中，粘附层包括基本上纯的钛、钌、钒、铱、钽、铌、钨、钼、钯、铂和铬中的至少一种。9.根据权利要求7或8所述的可植入医疗装置，其中，基底层包括多孔金属、金属氧化物和金属氮化物中的至少一种。10.根据权利要求7-9中的任一项所述的可植入医疗装置，其中，中间层包括基本上纯的钛、钌、钒、铱、钽、铌、钨、钼、钯、铂和铬中的至少一种。11.根据权利要求7-10中的任一项所述的可植入医疗装置，其中，顶层包括多孔金属，金属氧化物和金属氮化物中的至少一种。12.根据权利要求7-11中的任一项所述的可植入医疗装置，其中，粘附层和中间层包括基本上纯的钛以及基底层和顶层包括氮化钛。13.一种涂覆可植入医疗装置的方法，所述方法包括：将含有钛的粘附层沉积到可植入医疗装置的表面的至少一部分上；2CN106102829A权利要求书2/2页在粘附层的至少一部分上沉积氮化钛基底层；在氮化钛基底层的至少一部分上沉积包括钛的中间层；和在中间层的至少一部分上沉积氮化钛顶层。14.根据权利要求13所述的方法，其中，沉积包括溅射、化学气相沉积和电化学加工中的至少一种。15.根据权利要求13或14所述的方法，其中，沉积钛基底层包括将基本上纯的钛沉积在可植入医疗装置的表面的部分上，以及其中沉积钛粘附层包括将纯钛沉积到氮化钛基底层的部分上。3CN106102829A说明书1/11页具有导电涂层的可植入医疗装置[0001]相关申请[0002]本申请要求于2015年3月4日提交的美国专利申请第14/637,535号和于2014年3月7日提交的美国临时序列号61/949617的优先权。技术领域[0003]本文件大体上涉及医疗装置，尤其涉及具有导电涂层的医疗装置。背景技术[0004]