一种浅埋滴灌种植马铃薯的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113287476A(43)申请公布日2021.08.24(21)申请号202110748682.4(22)申请日2021.07.02(71)申请人内蒙古农业大学地址010018内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区昭乌达路306号(72)发明人关婷贾立国樊明寿乌兰秦永林于静石晓华刘坤张娇娇刘鹏(74)专利代理机构成都方圆聿联专利代理事务所(普通合伙)51241代理人李鹏(51)Int.Cl.A01G22/25(2018.01)A01C21/00(2006.01)A01G25/00(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图2页(54)发明名称一种浅埋滴灌种植马铃薯的方法(57)摘要本发明提供一种浅埋滴灌种植马铃薯的方法，包括以下步骤：整地：马铃薯播种前通过旋耕机旋地，然后耙地；播种：机器起垄播种施肥，一垄一行，种薯分布在垄中；铺管：播种结束后，利用开沟器在种薯正上方开出深度为3cm的管沟，铺管覆土；中耕：中耕培土后，滴灌带距离地面为5cm；田间管理：中耕结束后先开始铺主管、接管、安装水表。本发明通过改变马铃薯种植过程中滴灌管的铺设位置，提高马铃薯的水分利用效率，节约水资源。CN113287476ACN113287476A权利要求书1/1页1.一种浅埋滴灌种植马铃薯的方法，其特征在于，包括以下步骤：整地：马铃薯播种前通过旋耕机旋地，然后耙地；播种：机器起垄播种施肥，一垄一行，种薯分布在垄中；铺管：播种结束后，利用开沟器在种薯正上方开出深度为3cm的管沟，铺管覆土；中耕：中耕培土后，滴灌带距离地面为5cm；田间管理：中耕结束后先开始铺主管、接管、安装水表。2.根据权利要求1所述的一种浅埋滴灌种植马铃薯的方法，其特征在于，整地中旋地深度为20cm。3.根据权利要求1所述的一种浅埋滴灌种植马铃薯的方法，其特征在于，播种时，垄距90cm，垄高15cm，上垄面宽度为20cm，下垄面宽度为30cm,垄底宽度30cm，种薯播种深度为15cm，株距为20cm。4.根据权利要求1所述的一种浅埋滴灌种植马铃薯的方法，其特征在于，氮肥为全部追施，前氮后移，苗期、块茎形成期、块茎膨大期的追施比例为2：4：4。2CN113287476A说明书1/5页一种浅埋滴灌种植马铃薯的方法技术领域[0001]本发明涉及农作物种植栽培技术，具体涉及一种浅埋滴灌种植马铃薯的方法。背景技术[0002]马铃薯在全球范围内广种范植，是继玉米、水稻、小麦的第四大粮食作物。中国是马铃薯主要种植国家之一，其种植面积约占世界总播种面积的29.6％，年产量超过世界总产量的四分之一，达9.68×107t。[0003]内蒙古作为中国马铃薯种植的主产区，其大多位于干旱和半干旱地区，年均降水量为200‑240mm，而马铃薯整个生育时期的蒸散量为300—700mm。因此，降水量不能满足马铃薯整个生育时期的生长所需，为解决这一问题，需要在马铃薯不同生育时期进行补灌以满足其正常的生长发育。[0004]内蒙古马铃薯的灌溉方式主要是露地滴灌和覆膜滴灌。与传统灌溉方式相比较，露地滴灌和覆膜滴灌可极大的节约水资源，提高马铃薯水分利用效率。但是露地滴灌最大的缺点是不能抑制马铃薯生长期的土壤水分蒸发。覆膜滴灌虽然可以抑制马铃薯生长前期的土壤水分蒸发，但是在马铃薯生长后期地膜会抑制马铃薯根系呼吸，从而导致减产。其次覆膜滴灌面临的最大问题是残膜回收困难，地膜在自然条件下难降解，导致农田地膜残留量逐年增加，而残留在土壤中的地膜破坏了土壤结构，造成严重的环境污染。发明内容[0005]本发明是针对内蒙古阴山沿麓马铃薯主产区降水量少，蒸发强烈，马铃薯生育期内的降水量不能满足马铃薯基本水分需求，需对马铃薯不同生育时期进行补灌而设计，实现不使用地膜的条件下减少土壤表层水分蒸发，节水增效环保为一体的种植模式。[0006]本发明采用的技术方案为：[0007]一种浅埋滴灌种植马铃薯的方法，包括以下步骤：[0008]整地：马铃薯播种前通过旋耕机旋地，旋地深度为20cm，然后耙地。[0009]播种：机器起垄播种施肥，一垄一行，种薯分布在垄中。垄距90cm，垄高15cm，上垄面宽度为20cm，下垄面宽度为30cm,垄底宽度30cm，种薯播种深度为15cm，株距为20cm。[0010]铺管：播种结束后，利用开沟器在种薯正上方开出深度为3cm的管沟，铺管覆土。[0011]中耕：中耕培土后。滴灌带距离地面为5cm。[0012]田间管理：中耕结束后先开始铺主管、接管、安装水表等。[0013]本发明提供的一种浅埋滴灌种植马铃薯的方法，通过对马铃薯的施肥方式进行改进，由氮肥全部基施改为全部追施，前氮后移，苗期、块茎形成期、块茎膨大期的追施比例为2：4：4，提高氮肥利用效率。[00