一种蜂窝状湿法黑硅绒面结构及其制备方法以及黑硅电池及其制备方法.pdf
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一种蜂窝状湿法黑硅绒面结构及其制备方法以及黑硅电池及其制备方法.pdf
本发明提供了一种蜂窝状湿法黑硅绒面结构及其制备方法以及黑硅电池及其制备方法,涉及黑硅电池制备技术领域。一种蜂窝状湿法黑硅绒面结构的制备方法包括:将金刚线多晶硅片通过湿法黑硅槽式挖孔设备进行挖孔作业;将完成挖孔作业后的产物通过RENA链式设备进行扩孔作业,并在RENA链式设备的碱洗槽内的碱洗液中添加NH
一种黑硅材料及其制备方法.pdf
本发明公开了一种黑硅材料及其制备方法,解决了现有的硒元素掺杂黑硅材料制备方法的不足,制备方法包括:获取清洁衬底;采用热蒸发法在衬底表面沉淀一层硒膜;在氟化氢气体氛围下,利用飞秒激光扫描烧蚀;除去材料表面氧化硅,得到黑硅材料。本发明在飞秒激光烧蚀衬底材料的过程中,引入了氟元素,借助氟元素与衬底硅材料产生的化学反应,制备得到的黑硅材料,表面具有微结构尖锥阵列,即“黑森林”结构,这种黑硅材料具有很强的陷光性,因此这样获得的黑硅材料的吸收波长得到扩展,对可见光和近红外波段吸收率可扩大到93%以上。
湿法黑硅制备工艺.pdf
本发明涉及一种湿法黑硅制备工艺,包括:用氢氧化钾溶液去除硅片表面损伤层;用含有有机掩膜的A1溶液处理上述抛光硅片两次;用氢氟酸和双氧水以及不含金属的B1混合溶液反应,形成纳米结构;用氢氧化钾溶液清洗,去除上述过程中的残留酸液;用氢氟酸、硝酸以及B2的混合溶液,将步骤4所形成的黑硅纳米结构进行扩大化处理;用氢氧化钾溶液,去除上述步骤反应后形成的多孔硅;用氢氟酸和盐酸的混合溶液清洗硅片;将上述清洗后硅片,进行烘干处理,流入后道工序。本发明解决了多晶金刚线制绒困难的问题;可有效降低硅片表面反射率;可有效提高电池
一种单面湿法黑硅制绒方法.pdf
本发明涉及一种单面湿法黑硅制绒方法,通过将硅片以两两相并的方式贴合在一起放置,分别进行碱液抛光,沉积金属颗粒,电化学反应挖孔,而后将贴合的两片分开,修饰孔洞,去除金属离子残留的方式,制备单面制绒黑硅片。制绒后的硅片贴合面经过抛光,非贴合面具有蠕虫状的孔洞结构。本发明中,在完成挖孔后立即进行分片,去除金属残留,避免扩孔反应中的二次挖孔,挖孔后再次进行清洗,去除剩余金属离子,此方法中金属残留量小,制程量率高。本发明工艺使得金属颗粒残留比例更低,非制绒面更平整,最终达到产量提升100%,成本降低40%,电池转化
一种利用湿法刻蚀制备黑硅的方法.pdf
本发明涉及半导体材料制备技术领域,具体涉及一种制备黑硅的方法。一种利用湿法刻蚀制备黑硅的方法,包括以下步骤:在硅片表面沉积一层Si