一种制备GaN纳米线的方法.pdf
甲申****66
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一种制备GaN纳米线的方法.pdf
本发明公开的一种制备GaN纳米线的方法,首先制备镓源凝胶前驱体粉末;然后将衬底清洗后放入质量浓度为2%~8%的Ni(NO3)2酒精溶液中,浸泡8~18小时,在温度为90~110℃条件下烘干备用;将前躯体粉末和烘干后的衬底放入清洁的石英舟内,将石英舟置于电阻炉的恒温区,向电阻炉内通入流量为500ml/min的氮气,然后按照升温制度进行加热,即完成在衬底上制备GaN纳米线。本发明制备GaN纳米线的方法,采用溶胶-凝胶法和CVD法相结合,设备简单、反应效率高、成本低,是一种有效、快速合成GaN纳米线的好方法。
一种GaN纳米线及其制备方法.pdf
本发明公开了一种GaN纳米线及其制备方法,GaN纳米线制备方法步骤包括:通过MOCVD在衬底上外延生长三族氮化物薄膜,并在此外延片上制备图形化掩蔽膜,基于MOCVD选择性区域生长方法在该图形化的外延片上生长GaN六角金字塔微结构,然后通过碱性溶液腐蚀的方法把GaN六角金字塔微结构的{1-101}侧面腐蚀掉,最终制备成侧面为{1-100}面,顶面为(0001)面的GaN纳米线。本发明具有工艺简单,纳米线的直径、高度和位置可控等优点,可用于制作高性能的GaN纳米器件。
制备笋形GaN纳米线的方法.pdf
制备笋形GaN纳米线的方法,将附有Pt纳米颗粒的硅片放入清洁的石英舟内,使Si衬底相对于前躯体粉末在石英舟中的位置位于气流的下游,然后将石英舟置于电阻炉的恒温区,向炉腔内第一次通入氮气,以赶出残余的空气;然后,使电阻炉的温度升到设定温度,向炉腔内通入氨气后,在硅衬底上得到笋形GaN纳米线。本发明以Ga2O3为镓源、氨气为氮源、Pt为催化剂,用CVD法在特定的工艺条件下,在硅衬底上制备出笋形六方纤锌矿单晶GaN纳米线,其场发射增强因子为646,发光峰位于364nm,具有优良的光学和电学特性。
一种具有超晶格纳米线结构GaN光电阴极的制备方法.pdf
本发明公开了一种具有超晶格纳米线结构GaN光电阴极的制备方法。该制备方法包括:对衬底的选用、生长在衬底上的缓冲层的厚度设计与生长、超晶格纳米线结构GaN电子发射层的设计与生长、以及位于电子发射层上激活层的制备。对于超晶格结构,本发明采用AlGaN/GaN超晶格,AlGaN与GaN材料以几十个纳米的薄层交替生长并保持严格周期性形成多层膜结构,即形成了AlGaN/GaN超晶格。完成超晶格GaN电子发射层的生长后,本发明采用反应离子刻蚀和等离子耦合刻蚀的方法来制备超晶格GaN纳米线结构。该具有超晶格纳米线结构的
一种新型螺旋状GaN单晶纳米线及其制备方法.pdf
本发明涉及一种新型螺旋状GaN单晶纳米线及其制备方法,属于半导体纳米材料生产技术领域;本方法是利用化学气相沉积法制备螺旋状GaN纳米线,称取适量的金属Ga盛放在陶瓷舟中,将其置于水平管式炉的中间部位,称取适量MoCl