一种制作电容触摸屏的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102096535A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102096535A(43)申请公布日2011.06.15(21)申请号201010621268.9(22)申请日2010.12.31(71)申请人晟光科技股份有限公司地址233000安徽省蚌埠市禹会区光彩大市场一期北2号综合楼303号(72)发明人周朝平关玉华肖新煌林钟权董宏碧黄赵华刘萍萍(74)专利代理机构安徽省蚌埠博源专利商标事务所34113代理人杨晋弘(51)Int.Cl.G06F3/044(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图3页(54)发明名称一种制作电容触摸屏的方法(57)摘要本发明涉及一种制作电容触摸屏的方法，其特征在于包括如下步骤：1、基板的a、b面分别镀导电层；2、a面导电层上涂布光刻胶；3、对a面光刻胶曝光、显影；4、a面光刻胶钝化：即在红外隧道炉加热分解光刻胶的光敏剂，加热温度在115℃～150℃之间，加热时间是120秒～3600秒；5、b面导电层上涂布光刻胶；6、对b面涂布光刻胶曝光、显影；7、b面涂布光刻胶的加热硬化，加热温度是：100℃～150℃，时间是：120秒～3600秒；8、两面的透明导电材料同时蚀刻；9、去除两面的光刻胶。本发明的优势在于：由于a面光刻胶进行的钝化处理：分解了a面光刻胶的光敏剂，可以让双面透明导电图案同时蚀刻；这样可以减少生产工序，可以节约流程时间，减少材料成本和设备投资。CN1029653ACCNN110209653502096544A权利要求书1/1页1.一种制作电容触摸屏的方法，其特征在于包括如下步骤：(1)、基板(2)的a面镀导电层(3)、b面镀导电层(1)；(2)、a面导电层(3)上涂布光刻胶(4)；(3)、对光刻胶(4)曝光、显影；(4)、a面光刻胶(4)钝化：即在红外隧道炉加热分解光刻胶的光敏剂，加热温度在115℃～150℃之间，加热时间是120秒～3600秒；(5)、b面导电层(1)上涂布光刻胶(4)；(6)、对b面涂布光刻胶(4)进行曝光、显影；(7)、对b面光刻胶(4)的加热硬化，加热温度是：100℃～150℃，时间是：120秒～3600秒；(8)、两面的导电层同时蚀刻；(9)、去除两面的光刻胶。2CCNN110209653502096544A说明书1/3页一种制作电容触摸屏的方法技术领域[0001]本发明涉及电子元器件中的触摸屏的制作方法，特别涉及一种双面电容触摸屏电极制作方法。背景技术[0002]电容触摸屏可实现多点和准确的触摸感应，而且结构简单、透光率高，是当前显示触控技术发展的主流方向。其中双面电容触摸屏的行电极和列电极分别设置在基板的正b面上。在制作工艺方面存在的问题是：在基板的a面涂布光刻胶，经光刻、硬化后，必须在基板b面涂布光刻胶保护层，才能进行a面刻蚀导电层；然后将正b面的光刻胶去除后，再在b面涂布光刻胶、经过光刻、硬化后，仍然需要在a面涂布光刻胶保护层，才能进行b面刻蚀导电层。因此该方法步骤繁杂、效率低下，制作成本较高。针对上述问题进行检索，尚未发现有效的解决方案。发明内容[0003]本发明的目的就是针对现有的双面电容触摸屏电极制作方法存在的制作步骤繁杂、效率低下、成本较高的缺点，提供的一种制作电容触摸屏的方法。[0004]为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：[0005]一种制作电容触摸屏的方法，其特征在于包括如下步骤：[0006]1、基板的a、b面分别镀导电层；[0007]2、a面导电层上涂布光刻胶；[0008]3、对a面光刻胶曝光、显影；[0009]4、a面光刻胶钝化：即在红外隧道炉加热分解光刻胶的光敏剂，加热温度在115℃～150℃之间，加热时间是120秒～3600秒；[0010]5、b面导电层上涂布光刻胶；[0011]6、对b面涂布光刻胶曝光、显影；[0012]7、b面涂布光刻胶的加热硬化，加热温度是：100℃～150℃，时间是：120秒～3600秒；[0013]8、两面的导电材料同时蚀刻；[0014]9、去除两面的光刻胶。[0015]本发明技术方案中采用的各种原材料都是现有技术中的常规材料，采用的光刻工艺也是本行业内的成熟工艺。[0016]本发明的优势在于：由于a面光刻胶进行的钝化处理：分解了a面光刻胶的光敏剂，可以让双面透明导电图案同时蚀刻；这样可以减少生产工序，可以节约流程时间，减少材料成本和设备投资。3CCNN110209653502096544A说明书2/3页附图说明：[0017]图1是在基板的a面导电层上涂布光刻胶的示意图；[0018]图2是对a面光刻胶曝光的示意图；[0019]图3是对a面光刻胶显影的示意图；[0020]图4是对a面光刻胶钝化的示意图；[0021]图5是对b面导电层上涂布光刻胶的