用于生产塑料层的方法和设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利(10)授权公告号(10)授权公告号CNCN102099124102099124B(45)授权公告日2015.01.14(21)申请号201080002112.0B05D3/00(2006.01)(22)申请日2010.02.19(56)对比文件(30)优先权数据US6136732A,2000.10.24,说明书第2栏第102009009650.72009.02.19DE40行指第59行，第4栏第25行指第5栏第3行，图1.(85)PCT国际申请进入国家阶段日US6254712B1,2001.07.03,说明书第1栏2011.01.17第15行指第27行，实施例5.(86)PCT国际申请的申请数据US3503777,1970.03.31,说明书实施例，附PCT/EP2010/0010632010.02.19图.(87)PCT国际申请的公布数据审查员刘佳WO2010/094500DE2010.08.26(73)专利权人埃托特克德国有限公司地址德国柏林(72)发明人亚历克斯·布鲁德勒尔于尔根·赫伯特马克斯·亨齐克米歇尔·普罗布斯特(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227代理人田军锋邹伟艳(51)Int.Cl.B05D1/30(2006.01)权权利要求书2页利要求书2页说明书9页说明书9页附图2页附图2页(54)发明名称用于生产塑料层的方法和设备(57)摘要一种用于在衬底的上侧产生具有小于200um层厚的塑料层的方法，包括下述步骤：——通过粉末分散装置将塑料粉末施加到所述衬底的上侧；——随后清洁所述衬底的下侧；——随后在炉中熔化所施加的塑料粉末，结果在所述衬底上形成所述塑料层；以及——冷却所述衬底，其中，所述衬底被从一个方法步骤连续地输送到下一个方法步骤。CN102099124BCN10294BCN102099124B权利要求书1/2页1.一种用于在铜箔衬底(1)的上侧产生具有小于200μm层厚的塑料层的方法，所述方法包括下述步骤：——通过粉末分散装置将塑料粉末(2)施加到所述铜箔衬底的所述上侧，所述塑料粉末的颗粒尺寸分布具有在10μm到100μm范围内的D50值；——随后清洁所述铜箔衬底的下侧以从所述下侧移除塑料粉末；——随后在炉(25)中熔化所施加的塑料粉末(2)，结果在所述铜箔衬底上形成所述塑料层；以及——冷却所述铜箔衬底(1)，其中，所述铜箔衬底(1)被从一个方法步骤连续地输送到下一个方法步骤。2.根据权利要求1的方法，其中，所述粉末分散装置包括计量辊(10)，并且经由所述计量辊(10)计量所述塑料粉末(2)。3.根据权利要求2的方法，其中，所述塑料粉末被从所述计量辊(10)刷离，并且所述塑料粉末首先从所述刷离的位置落到至少一个筛(8)上，然后再从所述至少一个筛(8)落到所述铜箔衬底(1)上。4.根据权利要求3的方法，其中，所述筛的下边缘与所述铜箔衬底(1)的距离小于50mm。5.根据权利要求1的方法，其中，在施加所述塑料粉末之前，将所述塑料粉末(2)的D50值设定为预定值范围，所述塑料粉末(2)的D50值描述将要施加的塑料颗粒的颗粒尺寸。6.根据权利要求1的方法，其中，利用包括至少一个粘附辊(19)的清洁装置进行所述清洁。7.根据权利要求6的方法，其中，所述清洁装置包括马达驱动器，所述马达驱动器驱动所述粘附辊(19)。8.根据权利要求1的方法，其中，通过至少两个清洁步骤进行所述清洁，第一清洁步骤包括抽吸和/或利用刷(11)的清洁，并且第二清洁步骤包括利用包含粘附辊(19)的装置的清洁。9.根据权利要求8的方法，其中，所述第一清洁步骤构造成使得其移除位于所述铜箔衬底的所述下侧上的多于80％的颗粒。10.根据权利要求8的方法，其中，利用包括鸟羽毛或塑料纤维的刷进行所述第一清洁步骤。11.根据权利要求1的方法，其中，所述施加均匀地进行，从而获得具有均匀层厚分布的塑料层。12.根据权利要求1的方法，其中，在所述炉中的加热部件布置成在包含所分散的粉末的一侧与所述铜箔衬底相对。13.一种用于在铜箔衬底(1)的上侧产生具有小于200μm层厚的塑料层的设备，所述设备包括：——粉末分散装置，用于将塑料粉末施加到所述铜箔衬底的上侧，所述塑料粉末的颗粒尺寸分布具有在10μm到100μm范围内的D50值；——清洁装置(11；19)，用于清洁所述铜箔衬底的下侧；2CN102099124B权利要求书2/2页——炉(25)，用于熔化被施加到所述铜箔衬底(1)的所述塑料粉末(2)；—冷却区域(26)；以及——输送装置，所述输送装置将所述铜箔衬底连续地输送通过所述设备，其中，所述清洁装置(11；19)提供成在所述粉末分散装置将所述塑料粉末施加到所述上侧之后且在所述炉(25)熔化被施加到