预览加载中,请您耐心等待几秒...
1/10
2/10
3/10
4/10
5/10
6/10
7/10
8/10
9/10
10/10

亲,该文档总共17页,到这已经超出免费预览范围,如果喜欢就直接下载吧~

如果您无法下载资料,请参考说明:

1、部分资料下载需要金币,请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档,再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压,在使用对应软件打开

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102491740A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102491740A(43)申请公布日2012.06.13(21)申请号201110385214.1(22)申请日2011.11.28(71)申请人西北有色金属研究院地址710016陕西省西安市未央路96号(72)发明人王鹏飞卢亚锋张国防金利华王耀于泽铭李成山(74)专利代理机构西安创知专利事务所61213代理人谭文琰(51)Int.Cl.C04B35/45(2006.01)C04B35/622(2006.01)权利要求书权利要求书2页2页说明书说明书1111页页附图附图33页(54)发明名称一种钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜,该超导薄膜的化学组成为YSmxBa2-xCu3Oy,其中0<x≤0.5。本发明还公开了钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜的制备方法,该方法为:一、制备前驱液;二、采用旋涂法将前驱液涂覆于基底上,然后真空干燥;三、将干燥后的基底置于管式炉中进行热解,得到前驱膜;四、将前驱膜置于管式炉中进行晶化处理,得到钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜;或者将前驱膜作为基底,重复二和三1次或多次后置于管式炉中进行晶化处理,得到钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜。本发明通过在钡位掺杂钐引入离子缺陷作为钉扎中心,以减少磁通蠕动所产生的能量损耗,与YBCO薄膜相比,提高了其在外加磁场下的临界电流密度。CN102497ACN102491740A权利要求书1/2页1.一种钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜,其特征在于,该超导薄膜的化学组成为YSmxBa2-xCu30y,其中0<x≤0.5。2.根据权利要求1所述的一种钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜,其特征在于,所述y为6.5~7.0。3.一种制备如权利要求1或2所述超导薄膜的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤一、前驱液的制备:101、将醋酸钇、醋酸钐、醋酸钡和醋酸铜按照钇∶钐∶钡∶铜=1∶x∶(2-x)∶3的原子比加入去离子水中,得到悬浊液,其中0<x≤0.5;102、按照三氟乙酸与醋酸钇、醋酸钐、醋酸钡和醋酸铜反应的化学计量比,向101中所述混合溶液中加入体积过量30%的三氟乙酸,搅拌均匀后于80℃回流6h~8h,得到蓝色澄清溶液;103、将102中所述蓝色澄清溶液在温度为80℃~100℃的条件下旋转蒸发浓缩,得到蓝色透明的胶状物质,然后用无水甲醇或无水乙醇将胶状物质反复抽滤浓缩3~5次,最后用无水甲醇溶解,得到总阳离子浓度为1.0mol/L~2.0mol/L的前驱液;步骤二、涂覆:在环境湿度不大于40%,温度不高于25℃的条件下,采用旋涂法将103中所述前驱液均匀涂覆于基底上,然后将涂覆有前驱液的基底在温度为100℃~110℃的条件下真空干燥1h~2h;步骤三、热解:将步骤二中经真空干燥后的基底置于管式炉中进行热解;所述热解的过程为:以175℃/h的升温速率将炉内温度从室温升至200℃,然后以3℃/h~6℃/h的升温速率将炉内温度升至260℃,接着以30℃/h的升温速率将炉内温度升至310℃,再以270℃/h的升温速率将炉内温度升至400℃,最后在氧气气氛中随炉冷却,得到前驱膜;步骤四、晶化处理:将步骤三中所述前驱膜置于管式炉中进行晶化处理,得到钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜;或者将步骤三中所述前驱膜作为基底,重复步骤二和步骤三1次或多次后置于管式炉中进行晶化处理,得到钐掺杂的钇钡铜氧超导薄膜。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,步骤二中所述基底为CeO2/La2Zr2O7/NiW基底、SrTiO3单晶基片、LaAlO3单晶基片或YSZ单晶基片。5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,步骤二中所述旋涂的转速为2500rpm~4500rpm,旋涂的时间为30s~60s。6.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,步骤三中所述热解过程中气氛的控制方式为:在升温之前,以80L/h~100L/h的流速向管式炉中通入干燥的氧气,当炉内温度升至110℃时,以鼓水泡的方式向管式炉中通入水汽分压为647.3Pa~1312.9Pa的水汽。7.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,步骤四中所述晶化处理的过程为:以400℃/h~600℃/h的速率将炉内温度从室温升至740℃~830℃并恒温2h~4h,然后随炉降温到450℃并恒温3h,最后随炉冷却至室温。8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述晶化处理过程中气氛的控制方式为:在升温之前,先以80L/h~100L/h的流速向管式炉中通入氧质量含量为50ppm~1000ppm的Ar/O2混合气以排尽炉内空气,当炉内温度升至740℃~830℃时,以鼓水泡的方式向管式炉中通入水汽分压为1705.6Pa~3169.0Pa的水汽,并