一种提高N型硅单晶边缘少数载流子寿命的装置和方法.pdf
哲妍****彩妍
在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便
相关资料
一种提高N型硅单晶边缘少数载流子寿命的装置和方法.pdf
本发明涉及一种提高N型硅单晶边缘少数载流子寿命的装置和方法。本装置是专门用于大投料量生长高寿命大直径N型硅单晶的热场装置。本装置为导流筒,包括导流内筒、隔热层及石墨导流外筒,隔热层置于导流内筒和石墨导流外筒之间,导流内筒的材质为高纯石英。针对热场的变化,工艺参数相应的进行调整,调整坩埚位置,使固液界面距离石墨导流外筒下沿的距离在25-35mm之间;将氩气流量调整在70-90slpm范围内。将炉内压力调整在10-15Torr范围内。采取本发明生长的N型硅单晶整体(含表面)少子寿命≥1000us,从而避免了金
提高n型〈100〉硅单晶质量和成品率的研究.docx
提高n型〈100〉硅单晶质量和成品率的研究提高n型〈100〉硅单晶质量和成品率的研究摘要:硅是半导体材料中最重要的一种,其单晶质量和成品率直接关系到半导体器件的性能和制造成本。本论文围绕提高n型〈100〉硅单晶质量和成品率展开研究,主要从晶体生长过程中的控制、晶体缺陷的修复和制备工艺的优化等方面进行了探讨。通过合理的实验设计和参数调节,取得了一定的研究成果,为提高n型〈100〉硅单晶质量和成品率提供了有效的参考依据。关键词:硅单晶,n型〈100〉硅,质量,成品率,晶体缺陷1.引言硅是半导体材料中最常用的一
一种提高n型氧化亚铜薄膜载流子浓度的热处理方法.pdf
本发明公开了一种提高n型氧化亚铜薄膜载流子浓度的热处理方法。该方法的步骤如下:将电化学沉积制备所得的n型氧化亚铜薄膜放入热处理炉中进行除碳;将热处理炉温度升高至120oC至150oC,保温1~2小时;除碳过程后,将热处理炉温度升至300oC至400oC,保温1~2小时;热处理后,热处理炉温度自然降温至常温,将n型氧化亚铜薄膜取出并进行测试。本发明是对电化学沉积的n型氧化亚铜薄膜进行先除碳,再热处理的方法。通过除碳过程,可以去除在沉积过程中n型氧化亚铜薄膜中的有机杂质,然后对氧化亚铜薄膜进行热处理,通过控制
一种提高碳化硅外延层载流子寿命的方法.pdf
本发明公开了一种提高碳化硅外延层载流子寿命的方法,主要采用低速高碳硅比以及高速低碳硅比工艺结合,周期性生长所需的厚层碳化硅外延层,对比单一的低速高碳硅比工艺,有效提高了外延层的生长速率。同时结合高温退火处理,利用化学气相沉积热力学平衡条件下碳元素的迁移达到消除碳空位的目的,实现了原位生长过程中碳空位的有效修复,达到了提高碳化硅外延层载流子寿命的目的。采用本发明申请提供的外延方法生长的外延材料在外延完成后不需再利用离子注入或高温氧化的后期处理,兼容于现有商业化碳化硅外延炉的基础工艺,具有极大的推广价值。
阶跃恢复法测量少数载流子寿命.ppt
实验仪器实验仪器实验电路实验原理阶跃恢复法阶跃恢复法阶跃恢复法阶跃恢复法阶跃恢复法阶跃恢复法阶跃恢复法阶跃恢复法阶跃恢复法反向时间恢复法反向时间恢复法反向时间恢复法实验结果实验结果实验结果实验结果实验讨论实验讨论实验讨论实验讨论阶跃恢复法谢谢!