用于制造高效多晶硅硅片的制备方法.pdf
又珊****ck
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用于制造高效多晶硅硅片的制备方法.pdf
本发明涉及一种用于制造高效多晶硅硅片的制备方法,该方法包括以下步骤:利用传统DSS铸造多晶硅方法生产硅锭,在多晶炉中进行多晶硅铸锭制备;将该铸造完成后多晶硅锭切割成多块约为的长方体;对切割成的多晶硅锭进行少子寿命、杂质、阴影等检测,并去除低少子寿命区;利用机械加工的方法,沿铸锭长晶方向截取硅锭;将截取出来的硅锭按照平行于铸锭长晶方向的切割线进行切割,粘棒,并切片;最后将切出的硅片利用传统多晶电池片工艺进行电池片制造。这种制备方法既能增大多晶硅片的晶粒尺寸,又能减小多晶硅片的缺陷密度,提高多晶硅片的质量,提
冶金级高效多晶硅片的制备方法.pdf
本发明公开了冶金级高效多晶硅片的制备方法,将冶金硅、添加剂和硼的固化剂混合后置入炉膛中,抽真空,充入氩气,炉膛升温,使冶金硅熔化为硅熔体,保持硅熔体温度在900‑1000℃,恒温熔炼3.5‑4.5h;炉膛内抽真空,硅熔体温度保持在900‑1000℃,并在氩等离子体流量为280‑320ml/min,真空熔炼0.3‑0.8h;炉膛抽真空,同时调整硅熔体温度到1400‑1500℃,保温并静置、降温至室温得到硅锭;再经过切割、表面清洗,即得冶金级高效多晶硅片。本发明通过高效冶金硅片转换效率提升技术,通过高还原性添
新型高效太阳能级多晶硅片的制备方法.pdf
本发明公开了新型高效太阳能级多晶硅片的制备方法,在铸锭炉两侧加热器下方设置隔热条;将硅原料装入石英坩埚内,把石英坩埚送进铸锭炉;调节加热器温度为1400‑1460℃,调节隔热底板的开度在4‑8cm,制得多晶硅;对多晶硅采用双向切割工艺、砂浆回流处理、过滤分离后制得回流多晶硅,将回流多晶硅与去离子水混合后形成混合溶液,经雾化、喷涂到坩埚的内壁上,干燥后即为新型高效太阳能级多晶硅片。本发明降低产品孪晶的界面能,提供转化效率的稳定性,使整锭硅片的平均电池效率达到17.7%以上,减少环境污染,又可降低生产成本,提
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本发明公开了高纯度多晶硅片的制备方法,将硅料置入高温熔炉中,在无尘环境下加热至1300‑1380℃,保持高温熔炉炉底的硅料不熔化,制得多晶硅;将多晶硅进行切割,对切割后的多晶硅利用清洗剂进行表面清洗处理,其中,清洗剂按照重量份的原料包括:表面活性剂40‑50份、螯合剂22‑30份;向清洗后的多晶硅中加入添加剂和硼的固化剂,并在700‑800℃的温度下处理10min,清理后制得高纯度多晶硅片。本发明能有效地去除现有工艺难以去除的、影响太阳能电池材料中少子寿命和转化效率衰减的硼等关键性杂质元素,使提纯后的多晶
一种制备高效铸锭多晶硅的方法及专用单晶硅片.pdf
本发明涉及一种制备高效铸锭多晶硅锭的方法,在常规铸锭工艺的开始之前,将处理过的单晶硅片放入多晶铸锭炉底部,之后普通工艺铸锭,可得到小晶粒铸锭多晶硅锭。同时,本发明还涉及一种专用于制备高效铸锭多晶硅的单晶硅片,包括硅片本体,其特征在于:在所述硅片本体的两侧分别依次设置有硅氧层和硅氮层,所述硅片本体厚度为0.18mm,硅氧层厚度为0.1-0.2mm,硅氮层的厚度为0.2-0.3mm。本发明通过在多晶铸锭炉底部铺放经处理过的单晶硅片,该些单晶硅片的两面均涂有硅氧层-硅氮层的单晶硅片,单晶硅片起到诱导效果形成小颗