循环抽真空、充压恢复的喷涂层真空熔敷工艺及其装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106086767A(43)申请公布日2016.11.09(21)申请号201610705527.3(22)申请日2016.08.23(71)申请人吴忠仪表有限责任公司地址751100宁夏回族自治区吴忠市利通区朝阳街67号(72)发明人马玉山刘海波黄琴何涛贾华(74)专利代理机构常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙)32258代理人朱丽莎钱燕(51)Int.Cl.C23C4/18(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称循环抽真空、充压恢复的喷涂层真空熔敷工艺及其装置(57)摘要本发明涉及喷枪技术领域，尤其涉及一种循环抽真空、充压恢复的喷涂层真空熔敷工艺及其装置，间隔200度的抽真空，和充入惰性气体的方法，达到真空和恢复压力的不同状态，满足能够加热工件和涂层，真空炉内恢复压力为0.05Mpa，该方式重复进行，当到达1100度时，无需抽真空，保温10分钟后，抽真空，然后工件随炉冷却，此时不可以再充惰性气体，防止过度冷却涂层表面造成缺陷。到炉温降至200度时，将工件取出。工艺实施后涂层附着好，表面密实，无烧损、剥落、开裂等缺陷。CN106086767ACN106086767A权利要求书1/1页1.一种循环抽真空、充压恢复的喷涂层真空熔敷工艺，其特征在于：包括如下步骤：1)将制备好喷涂好的工件先放在密封的真空炉内进行保温处理，使得工件达到室温；2)加热前，先对真空炉内进行抽真空，当真空炉内达到工作真空度＜40Pa时，停止抽真空；3)然后向空间内通入惰性气体，使得真空炉内的气压达到0.05Mpa±20％；4)启动加热装置对真空炉内进行加热，当温度到达200℃时，停止加热，再次对真空炉内进行抽真空，使得真空炉内的真空度到达工作真空度＜40Pa；6)保温后，再通入惰性气体，使得真空炉内的气压达到0.05Mpa±20％；7)启动加热装置对真空炉内进行加热，当温度再提升200℃时，停止加热，再次对真空炉内进行抽真空，使得真空炉内的真空度到达工作真空度＜40Pa；8)保温后，再通入惰性气体，使得真空炉内的气压达到0.05Mpa±20％；9)重复步骤7)和8)，直至真空炉内的温度达到1100℃±5℃；10)保温后，抽真空；11)冷却，当真空炉内温度降至200℃时，取出工件。2.如权利要求1所述的循环抽真空、充压恢复的喷涂层真空熔敷工艺，其特征在于：所述步骤6)、步骤8)和步骤10)中的保温时间为10分钟。3.一种用于循环抽真空、充压恢复的喷涂层真空熔敷工艺的装置，其特征在于：包括真空炉(3)，真空炉(3)上连通有惰性气体罐(1)和真空泵(5)，真空炉(3)的内圈均匀的安装有加热元件(4)，真空炉(3)内的中部设置有工件支架(7)。4.如权利要求3所述的用于循环抽真空、充压恢复的喷涂层真空熔敷工艺的装置，其特征在于：所述真空炉(3)的外部还设置有用于检测炉内温度的温度表(9)。5.如权利要求3所述的用于循环抽真空、充压恢复的喷涂层真空熔敷工艺的装置，其特征在于：所述惰性气体罐(1)和真空炉(3)之间的管路上还安装有压力表(8)。2CN106086767A说明书1/3页循环抽真空、充压恢复的喷涂层真空熔敷工艺及其装置技术领域[0001]本发明涉及喷枪技术领域，尤其涉及一种循环抽真空、充压恢复的喷涂层真空熔敷工艺及其装置。背景技术[0002]表面涂层所用的粉末合金大多为Co、Ni和Fe粉末，涂层制备的工艺也多种多样，如电镀、等离子喷涂(PlasmaSpray)、物理气相沉淀(PVC)、化学气相沉淀(CVD)、高速氧燃烧法(HOVF)等工艺；其应用领域也极为广泛，几乎包括了所有的高新技术领域和工业、民用领域，如：航天、航空、航海、计算机电子、信息、交通、石油、化工、建筑、水利、机械等。有统计表明，与表面技术直接相关的产业已占国民经济总产值的7％。但采用这些工艺制得的涂层材料有的成本高，有的厚度较薄，有的与基体结合也不够牢固。[0003]比如常规的氧乙炔火焰熔覆，虽然成本低廉，但涂层粗糙，氧化严重且合格率低。氧乙炔火焰熔覆生产效率低，劳动强度大，对工人技能要求较高，无法制定精确的工艺方法，全凭工人个人经验和运气，不利于大规模生产的开展。但真空熔覆可在一定程度上弥补以上不足，因其经济性及广泛用途有望进一步拓展合金涂层的应用领域。同时对表面涂层技术具有重要意义。发明内容[0004]本发明要解决的技术问题是：为了解决现有技术中真空熔敷过程中脱碳，高真空下部分合金从涂层表面挥发，造成表面合金元素贫乏，涂层容易开裂、脱落等技术问题，本发明提供一种循环抽真空、充压恢复的喷涂层真空熔敷的工艺。[0005]本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种循环抽真空、充压恢复