有机EL元件蒸发镀膜熔炉装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106521425A(43)申请公布日2017.03.22(21)申请号201510571873.2(22)申请日2015.09.09(71)申请人四川虹视显示技术有限公司地址611731四川省成都市高新区(西区)科新西街168号(72)发明人任海(74)专利代理机构成都宏顺专利代理事务所(普通合伙)51227代理人王伟(51)Int.Cl.C23C14/26(2006.01)C23C14/12(2006.01)权利要求书1页说明书2页附图3页(54)发明名称有机EL元件蒸发镀膜熔炉装置(57)摘要本发明公开了一种有机EL元件蒸发镀膜熔炉装置，包括用于放置有机物的容器，容器的上端具有开口，容器周围缠绕有发热线，发热线与容器外壁之间间隔有一定距离，所述发热线与交流电源装置相连。本发明所提供的有机EL元件蒸发镀膜熔炉装置，发热线通过交流电源装置加热到一定温度，热量以热离子的方式热辐射出去，并把热量传到容器从而加热有机物使有机物蒸发；与传统的发热线与容器接触的加热方式相比，本发明容器的温度增加会更加的均匀，因而能够稳定蒸发有机物，提高镀膜效果。CN106521425ACN106521425A权利要求书1/1页1.一种有机EL元件蒸发镀膜熔炉装置，其特征在于：包括用于放置有机物(100)的容器(40)，容器(40)的上端具有开口，容器(40)周围缠绕有发热线(70)，发热线(45)与容器(40)外壁之间间隔有一定距离，所述发热线(70)与交流电源装置(80)相连。2.根据权利要求1所述的熔炉装置，其特征在于：所述容器(40)与接地电源(90)相连。3.根据权利要求1所述的熔炉装置，其特征在于：所述容器(40)的电阻率小于10-2Ω㎝，熔点大于1500℃。2CN106521425A说明书1/2页有机EL元件蒸发镀膜熔炉装置技术领域[0001]本发明属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种有机EL元件蒸发镀膜熔炉装置。背景技术[0002]真空镀膜是将固体材料置于真空室内，在真空条件下，将固体材料加热蒸发，蒸发出来的原子或分子能自由地弥布到容器的器壁上。当把一些加工好的基板材料放在其中时，蒸发出来的原子或分子就会吸附在基板上逐渐形成一层薄膜。真空镀膜有两种方法，一是蒸发镀膜，一是溅射镀膜。[0003]传统的有机EL元件蒸发镀膜是在真空腔内完成，用于放置有机物的容器在热源的作用下升温，使得有机物蒸发从而完成镀膜，但是如果有机物受热不均匀，导致蒸发不均匀的话，EL元件的镀膜也会不均匀，影响镀膜效果。发明内容[0004]本发明的目的是解决上述问题，提供一种均匀加热容器、稳定蒸发有机物、提高镀膜效果的有机EL元件蒸发镀膜熔炉装置。[0005]为解决上述技术问题，本发明的技术方案是：一种有机EL元件蒸发镀膜熔炉装置，包括用于放置有机物的容器，容器的上端具有开口，容器周围缠绕有发热线，发热线与容器外壁之间间隔有一定距离，所述发热线与交流电源装置相连。[0006]优选地，所述容器与接地电源相连。[0007]优选地，所述容器的电阻率小于10-2Ω㎝，熔点大于1500℃。[0008]本发明的有益效果是：本发明所提供的有机EL元件蒸发镀膜熔炉装置，发热线通过交流电源装置加热到一定温度，热量以热离子的方式热辐射出去，并把热量传到容器从而加热有机物使有机物蒸发；与传统的发热线与容器接触的加热方式相比，本发明容器的温度增加会更加的均匀，因而能够稳定蒸发有机物，提高镀膜效果。附图说明[0009]图1是本发明中熔炉装置的使用状态示意图；[0010]图2是本发明中熔炉装置的截面图；[0011]图3是本发明中熔炉装置的立体图。[0012]附图标记说明：5、真空腔；10、基板；20、膜厚传感器；30、挡板；40、容器；50、真空计；60、真空泵；70、发热线；80、交流电源装置；90、接地电源；100、有机物；110、屏蔽膜。具体实施方式[0013]下面结合附图和具体实施例对本发明做进一步的说明：[0014]如图1至图3所示，本发明的有机EL元件蒸发镀膜熔炉装置，安装在密闭的真空腔5底部，包括用于放置有机物100的容器40，容器40的上端具有开口，容器40周围缠绕3CN106521425A说明书2/2页有发热线70，发热线45与容器40外壁之间间隔有一定距离，发热线70与交流电源装置80相连，容器40与接地电源90相连，交流电源装置80可以防止发热线70与容器40之间产生电火花。[0015]真空腔5中还设有基板10和屏蔽膜110，基板10位于容器40的开口上方，屏蔽膜110设于发热线70的外围，屏蔽膜110为环状，用于反射发热线70发出的热离子，提高熔炉装置的加热效率。[0016]真空腔5还分别与真空泵6