一种石英炉管.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106929923A(43)申请公布日2017.07.07(21)申请号201511024733.X(22)申请日2015.12.31(71)申请人无锡华润华晶微电子有限公司地址214135江苏省无锡市新区太湖国际科技园菱湖大道180号-22(72)发明人崔严匀王训辉(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司11332代理人孟金喆胡彬(51)Int.Cl.C30B31/16(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称一种石英炉管(57)摘要本发明提供了一种石英炉管，包括炉管本体，所述炉管本体的第一端面开设有炉口，所述炉管本体的第二端面设置为炉尾，所述炉管本体内设有炉腔；所述炉腔内靠近所述炉尾的一端设置有气室，所述炉尾上开设有至少一个进气口和至少一个出气口，所述至少一个进气口与所述气室相连通，所述出气口与所述炉腔相连通；所述气室的顶板上设置有向所述炉口方向延伸的至少一根支管，所述至少一根支管与所述气室相通，所述至少一根支管的支管壁上开有多个支管透气孔。本发明解决了工艺气体从炉尾直接向炉口流动导致气流分布不均匀的问题，使得工艺气体可从晶圆片的四周均匀流入，进而与晶圆片均匀接触，确保了晶圆片片内参数的一致性。CN106929923ACN106929923A权利要求书1/1页1.一种石英炉管，其特征在于，包括炉管本体，所述炉管本体的第一端面开设有炉口，所述炉管本体的第二端面设置为炉尾，所述炉管本体内设有炉腔；所述炉腔内靠近所述炉尾的一端设置有气室，所述炉尾上开设有至少一个进气口和至少一个出气口，所述至少一个进气口与所述气室相连通，所述出气口与所述炉腔相连通；所述气室的顶板上设置有向所述炉口方向延伸的至少一根支管，所述至少一根支管与所述气室相通，所述至少一根支管的支管壁上开有多个支管透气孔。2.根据权利要求1所述的石英炉管，其特征在于，所述多个支管透气孔的相邻孔孔距向所述炉口延伸方向依次减小。3.根据权利要求2所述的石英炉管，其特征在于，所述多个支管透气孔的孔径向所述炉口沿延伸方向依次增大。4.根据权利要求1所述的石英炉管，其特征在于，所述多个支管透气孔包括多个第一支管透气孔、多个第二支管透气孔和多个第三支管透气孔；所述多个第一支管透气孔、多个第二支管透气孔和多个第三支管透气孔向所述炉口延伸方向依次分布；所述多个第一支管透气孔等间距分布，所述多个第二支管透气孔等间距分布，所述多个第二支管透气孔等间距分布；相邻第一支管透气孔的第一间距、相邻第二支管透气孔的第二间距和相邻第三支管透气孔的第三间距依次减小。5.根据权利要求4所述的石英炉管，其特征在于，所述第一支管透气孔的第一孔径、第二支管透气孔的第二孔径和第三支管透气孔的第三孔径依次增大。6.根据权利要求1所述的石英炉管，其特征在于，所述气室顶板非设置所述至少一个支管的区域开设有多个内板透气孔。7.根据权利要求6所述的石英炉管，其特征在于，所述多个内板透气孔分布在所述气室顶板的上半部。8.根据权利要求1所述的石英炉管，其特征在于，所述至少一根支管固定于所述炉管本体的上管壁上，所述至少一根支管朝向所述炉腔内部的方向上设置有多个支管透气孔。9.根据权利要求1所述的石英炉管，其特征在于，所述至少一个进气口包括第一进气口和第二进气口，所述第一进气口和第二进气口位于所述炉尾中部或上部，所述出气口位于所述炉尾的下部。10.根据权利要求9所述的石英炉管，其特征在于，所述支管为三根，所述三根支管均匀固定在所述炉管本体的上管壁上。2CN106929923A说明书1/4页一种石英炉管技术领域[0001]本发明属于炉管制造技术领域，涉及一种石英炉管。背景技术[0002]石英炉管是集成电路生产线前工序的重要工艺设备之一，它的主要用途是对半导体进行掺杂，即在高温条件下将掺杂材料扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以建立不同的电特性区域。[0003]三氯氧磷预淀积是半导体晶圆片制造过程中的重要工序，其工艺过程在石英炉管中实现。目前生产线上普遍使用的石英炉管只有炉尾进气口，生产作业时携带液态三氯氧磷源的氮气直接从炉尾的进气口进入炉管反应，但由于石英炉管恒温区距离进气口有一段距离，使得晶圆片片间的气流分布不均匀，造成晶圆片片内参数不一致。发明内容[0004]鉴于此，本发明提供了一种石英炉管，以提高晶圆片片间气流分布的均匀性，提升晶圆片片内参数的一致性。[0005]为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：[0006]本发明实施例提供一种石英炉管，包括炉管本体，所述炉管本体的第一端面开设有炉口，所述炉管本体的第二端面设置为炉尾，所述炉管本体内设有炉腔；[0007]所述炉腔内靠近所述炉尾的一端设置有气室，所