一种绒面AZO薄膜的制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108165939A(43)申请公布日2018.06.15(21)申请号201711415267.7(22)申请日2017.12.25(71)申请人中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司地址233010安徽省蚌埠市禹会区涂山路1047号(72)发明人沈洪雪姚婷婷杨勇李刚(74)专利代理机构安徽省蚌埠博源专利商标事务所34113代理人陈俊(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)C23C14/08(2006.01)C03B11/00(2006.01)权利要求书1页说明书2页附图1页(54)发明名称一种绒面AZO薄膜的制备方法(57)摘要本发明公开一种绒面AZO薄膜的制备方法，包括以下步骤：S1、采用熔融法制备超白玻璃，在超白玻璃出炉过程中,采用表面具有绒面结构的模板对超白玻璃表面进行压模，得到表面具有绒面结构的超白玻璃；S2、将制得的超白玻璃进行钢化、切割、清洗工序得到表面具有绒面结构的玻璃基片；S3、将玻璃基片作为衬底，通过磁控溅射在玻璃基片的绒面沉积AZO，得到绒面AZO薄膜；本方法无需酸蚀刻步骤，降低薄膜的制备成本，避免环境污染；AZO薄膜的绒面由表面具有绒面结构的模板决定，能够有效地控制绒面；绒面AZO薄膜的质量容易控制，性能稳定，重复性好。CN108165939ACN108165939A权利要求书1/1页1.一种绒面AZO薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、采用熔融法制备超白玻璃，在超白玻璃出炉过程中,采用表面具有绒面结构的模板对超白玻璃表面进行压模，得到表面具有绒面结构的超白玻璃；S2、将制得的超白玻璃进行钢化、切割、清洗工序得到表面具有绒面结构的玻璃基片；S3、将玻璃基片作为衬底，通过磁控溅射在玻璃基片的绒面沉积AZO，得到绒面AZO薄膜。2.根据权利要求1所述的一种绒面AZO薄膜的制备方法，其特征在于，步骤S3正式磁控溅射前先进行预溅射，对AZO靶材进行活化，去除AZO靶材表面的杂质。3.根据权利要求1或2所述的一种绒面AZO薄膜的制备方法，其特征在于，磁控溅射时AZO靶功率为100～300W，溅射气体Ar流量30～50sccm，工作气压0.5～2.0Pa，溅射时间30min，本底真空度为7.0*10－4Pa。4.根据权利要求3所述的一种绒面AZO薄膜的制备方法，其特征在于，制备得到的绒面AZO薄膜厚度为200～400nm，绒面AZO薄膜的透过率≥87％，电阻率3.6*10－40～6.6*10－4Ω.cm。2CN108165939A说明书1/2页一种绒面AZO薄膜的制备方法技术领域[0001]本发明涉及玻璃薄膜制造技术领域，具体是一种绒面AZO薄膜的制备方法。背景技术[0002]传统磁控溅射制备透明导电AZO薄膜的过程中，由于磁控溅射本身的稳定性、重复性、易于大面积制备等优点，使其成为AZO等氧化物薄膜制备的首选方法。但制备绒面AZO薄膜的过程中，除了AZO薄膜的制备还要对所制备的薄膜进行后续的酸蚀等后处理，以达到绒面的效果。[0003]目前的后续刻蚀方法主要有激光刻蚀和酸蚀两种，而且酸蚀在工业生产中占据主要。在酸蚀的过程中，绒面的结构有很大的随机性，所制备的绒面形状不易控制，在整个酸腐蚀的过程中，大概要腐蚀掉AZO薄膜厚度的三分之一到二分之一左右，造成材料的浪费，使制备绒面AZO薄膜的成本增加，这不利于大规模绒面AZO薄膜的制备，并且后续酸溶液的处理在很大程度上会对环境造成一定的污染。发明内容[0004]本发明的目的在于提供一种绒面AZO薄膜的制备方法，该方法舍弃酸蚀刻步骤，降低薄膜的制备成本，避免环境污染，且能够对绒面形状有效控制。[0005]本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种绒面AZO薄膜的制备方法，包括以下步骤：S1、采用熔融法制备超白玻璃，在超白玻璃出炉过程中,采用表面具有绒面结构的模板对超白玻璃表面进行压模，得到表面具有绒面结构的超白玻璃；S2、将制得的超白玻璃进行钢化、切割、清洗工序得到表面具有绒面结构的玻璃基片；S3、将玻璃基片作为衬底，通过磁控溅射在玻璃基片的绒面沉积AZO，得到绒面AZO薄膜。[0006]进一步的，步骤S3正式磁控溅射前先进行预溅射，对AZO靶材进行活化，去除AZO靶材表面的杂质。[0007]进一步的，磁控溅射时AZO靶功率为100～300W，溅射气体Ar流量30～50sccm，工作气压0.5～2.0Pa，溅射时间30min，本底真空度为7.0*10－4Pa。[0008]进一步的，制备得到的绒面AZO薄膜厚度为200～400nm，绒面AZO薄膜的透过率≥87％，电阻率3.6*10－40～6.6*10－4Ω.cm。[0009]本发明的有益效果是：一、通过压模的方法得到