一种流量控制方法及流量控制装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108198771A(43)申请公布日2018.06.22(21)申请号201711456622.5(22)申请日2017.12.28(71)申请人苏州阿特斯阳光电力科技有限公司地址215129江苏省苏州市高新区鹿山路199号申请人阿特斯阳光电力集团有限公司(72)发明人吴华德熊光涌蒋方丹邢国强王栩生(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司11332代理人孟金喆(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)H01L21/228(2006.01)H01L31/18(2006.01)权利要求书2页说明书11页附图3页(54)发明名称一种流量控制方法及流量控制装置(57)摘要本发明公开了一种流量控制方法及流量控制装置，该流量控制方法包括：获取扩散炉中当前扩散工艺的运行序数；根据扩散工艺的运行序数和小氮流量值的对应关系以及当前扩散工艺的运行序数，得到当前执行扩散工艺所需要的小氮流量值；按照当前执行扩散工艺所需要的小氮流量值，向扩散炉输入小氮。本发明实施例提供的流量控制方法不需要进行人工调节，有利于自动化生产，解决了现有技术中向扩散炉中通入恒定流量的小氮，再通过调节推进温度调节方阻，增加人力成本但得到的硅片方阻波动大，批次间硅片方阻均匀性差的问题，实现节约人力成本，批次间硅片方阻值均匀性良好的目的。CN108198771ACN108198771A权利要求书1/2页1.一种流量控制方法，其特征在于，包括：获取扩散炉中当前扩散工艺的运行序数；根据扩散工艺的运行序数和小氮流量值的对应关系以及所述当前扩散工艺的运行序数，得到当前执行所述扩散工艺所需要的小氮流量值；按照所述当前执行所述扩散工艺所需要的小氮流量值，向所述扩散炉输入小氮。2.根据权利要求1所述的流量控制方法，其特征在于，还包括：更换液态扩散源存储罐后，从0开始，每运行完一次扩散工艺，扩散工艺运行次数加1；所述获取扩散炉中当前扩散工艺的运行序数，包括：获取从更换液态扩散源存储罐起至当前时刻止的时间段内扩散工艺的总运行次数；将所述扩散工艺的总运行次数加1作为当前扩散工艺的运行序数。3.根据权利要求1所述的流量控制方法，其特征在于，所述根据扩散工艺的运行序数和小氮流量值的对应关系以及所述当前扩散工艺的运行序数，得到当前执行所述扩散工艺所需要的小氮流量值之前，还包括：构建扩散工艺的运行序数和小氮流量值的对应关系。4.根据权利要求3所述的流量控制方法，其特征在于，所述构建扩散工艺的运行序数和小氮流量值的对应关系，包括：更换液态扩散源存储罐后，对经各次扩散工艺后的硅片的方阻均进行测量；若经第M次扩散工艺后所述硅片的方阻在第一设定阈值范围之外，判定经过第M次扩散工艺后硅片方阻漂移；对第M次扩散工艺所需要的小氮流量值进行修正，将修正后的所述小氮流量值作为执行第M次扩散工艺所需要的小氮流量值；其中，M为正整数。5.根据权利要求4所述的流量控制方法，其特征在于，所述对第M次扩散工艺所需要的小氮流量值进行修正，将修正后的所述小氮流量值作为执行第M次扩散工艺所需要的小氮流量值，包括：向所述扩散炉分别输入多个不同的流量值的小氮，进行扩散工艺测试；若经过第M1次扩散工艺测试的硅片的方阻在第二设定阈值范围之内，则将进行第M1次扩散工艺测试时，向所述扩散炉输入的小氮流量值作为执行第M次扩散工艺所需要的小氮流量值；其中，M1为正整数。6.根据权利要求4所述的流量控制方法，其特征在于，所述构建扩散工艺的运行序数和小氮流量值的对应关系，还包括：若相邻两次硅片方阻漂移发生于第N1次扩散工艺之后和第N2次扩散工艺之后；则执行第N次扩散工艺所需要的小氮流量值BN为其中，BN2为执行第N2次扩散工艺所需要的小氮流量值，BN1为执行第N1次扩散工艺所需要的小氮流量值；N、N1和N2均为正整数，且N1＜N＜N2。2CN108198771A权利要求书2/2页7.根据权利要求6所述的流量控制方法，其特征在于，所述构建扩散工艺的运行序数和小氮流量值的对应关系，还包括：更换液态扩散源存储罐后，若第一次硅片方阻漂移发生于第N3次扩散工艺之后；则执行第N’次扩散工艺所需要的小氮流量值BN’为其中，BN3为执行第N3次扩散工艺所需要的小氮流量值，B1为执行第1次扩散工艺所需要的小氮流量值；N’和N3均为正整数，且1＜N’＜N3≤N1。8.根据权利要求2所述的流量控制方法，其特征在于，所述扩散源为三氯氧磷或三溴化硼。9.一种流量控制装置，其特征在于，包括：运行序数获取模块，与机台控制模块相连，用于获取扩散炉中当前扩散工艺的运行序数；流量确定模块，与所述运行序数获取模块相连，用于根据扩散工艺的运行序数和小氮流量值的对应关系以及所述当前扩散工艺的运行序数，得到