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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108911701A(43)申请公布日2018.11.30(21)申请号201810979553.4C03C8/20(2006.01)(22)申请日2018.08.27C03C8/16(2006.01)C03C8/04(2006.01)(71)申请人佛山石湾鹰牌陶瓷有限公司地址528000广东省佛山市禅城区石湾镇跃进路2号B座十层(72)发明人吴志坚程贵生袁红李丽芳潘婷(74)专利代理机构深圳市世纪恒程知识产权代理事务所44287代理人胡海国(51)Int.Cl.C04B33/13(2006.01)C04B33/34(2006.01)C04B41/89(2006.01)C03C8/00(2006.01)权利要求书2页说明书7页(54)发明名称哑光干粒釉面砖及其制备方法(57)摘要本申请提供一种哑光干粒釉面砖及其制备方法。一种哑光干粒釉面砖,包括砖坯以及依次设置在砖坯表面的底釉和干粒釉。所述方法包括以下步骤:压机打好的砖坯经过第一次干燥除去里面的自由水,控制砖坯中的水分含量小于砖坯总质量的0.5%;砖坯出干燥窑后在其表面喷水雾;然后向坯体表面淋底釉,然后用喷墨机喷绘图案,经第二次干燥窑干燥;喷干粒釉,然后经干燥窑第三次干燥后入烧成窑炉,经过1170-1185℃高温烧制60-70min获得半成品;半成品经过磨边和用纤维抛光模块组合进行柔抛,检质后打包作为成品。本申请提供的哑光干粒釉面砖及其制备方法,制得的哑光干粒釉面砖具有逼真的石材质感,同时触感温润如玉,结构强度高。CN108911701ACN108911701A权利要求书1/2页1.一种哑光干粒釉面砖,其特征在于,包括砖坯以及依次设置在所述砖坯表面的底釉和干粒釉;所述砖坯以质量百分比计,包括:长石25-30%、叶腊石18-20%、高岭土20-25%、石英砂20-25%和大理石5-10%;所述底釉以质量百分比计,包括:SiO240-55%、Al2O310-15%、CaO8-10%、MgO5-8%、ZnO10-15%、K2O4-6%、Na2O1-3%、BaO1-3%;所述干粒釉以重量份数计包括干粒40-50份、保护釉10-20份、高岭土浆1-3份、烧滑石浆0.5-1.5份、添加剂1-3份、悬浮剂90-110份和排墨剂0.05-0.1份;所述干粒以质量百分比计,包括:Al2O35-15%、SiO240-55%、CaO10-18%、K2O5-10%、MgO5-12%、BaO4-10%、ZnO2-5%、RuO20.1-0.5%、V2O50.1-0.5%、Bi2O30.1-0.5%和TiO20.1-0.5%;所述保护釉按质量百分比计包括透明釉粉59-65%、羧甲基纤维素钠0.2-0.5%、三聚磷酸钠0.2-0.4%、氯化铝1-2%、硫酸铝1-2%、十二水合硫酸铝钾1-2%、水30-36%;所述透明釉粉以质量百分比计包括Al2O310%、SiO252%、CaO15%、K2O8%、MgO5%、BaO4.5%、ZnO5%、Lu2O30.5%;所述添加剂为质量浓度为3-5%、溶质为酚醛树脂、溶剂为丙酮的溶液。2.根据权利要求1所述的哑光干粒釉面砖,其特征在于,所述干粒的粒度为120-200目。3.根据权利要求1所述的哑光干粒釉面砖,其特征在于,所述干粒釉比重为1.23-1.27g/ml,细度为经200目筛后干料重量百分比为0.4%-0.6%。4.根据权利要求1所述的哑光干粒釉面砖,其特征在于,所述悬浮剂为羧甲基纤维素钠,所述排墨剂为聚丙烯酰胺。5.一种权利要求1-4任一项所述哑光干粒釉面砖的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:A.压机打好的砖坯经过第一次干燥除去里面的自由水,控制所述砖坯中的水分含量小于所述砖坯总质量的0.5%;砖坯出干燥窑后在其表面喷水雾;B.然后向坯体表面淋底釉,然后用喷墨机喷绘图案,经第二次干燥窑干燥;C.喷干粒釉,然后经干燥窑第三次干燥后入烧成窑炉,经过1170-1185℃高温烧制60-70min获得半成品;D.半成品经过磨边和用纤维抛光模块组合进行柔抛,检质后打包作为成品。6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,步骤A中,所述喷水雾的量为120-140g/m2。7.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述第一次干燥的温度为90-110℃,时间为60-120min;所述第二次干燥的温度为200-300℃,时间为10-20min;所述第三次干燥的温度为150-200℃,时间为60-80min。8.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,步骤C中,入所述烧成窑的烧制过程为:经所述第三次干燥之后立即入所述烧成窑,先用10-20min升温至1100℃,然后控制升温速度为2℃/min,达到11