一种多晶硅还原炉及其使用方法.pdf
依波****bc
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一种多晶硅还原炉及其使用方法.pdf
本发明公开了一种多晶硅还原炉及其使用方法,包括炉体、底盘、电极、石墨卡槽、硅棒、感应线圈,炉体与底盘固定连接构成一个中空的钟罩式腔室;炉壁和底盘为双层结构,底盘和炉壁的夹层之间均设有冷却水通道,炉壁的底部对应设有冷却水入口,顶部有冷却水出口,底盘的一侧设有冷却水入口另一侧设有冷却水出口;本发明提出的通过交流电使感应线圈产生感应电流从而加热硅棒,可以使硅棒上温度梯度减小,可增大硅棒的最大沉积半径;本发明内部结构布局合理,单台还原炉的产量比现有的还原炉提高很多,使多晶硅的综合能耗和生产成本也相应降低。
多晶硅还原炉用石墨组件及其使用方法.pdf
本发明提供了一种多晶硅还原炉用石墨组件,包括:夹持体,中部设置有贯穿的硅芯安装孔,用于固定硅芯;石墨基座,一侧端面与电极相接,另一侧端面与所述夹持体相接,且与硅芯的一侧端部抵接;紧固件,中部设有固定孔,所述固定孔的下端套设在所述石墨基座上,所述固定孔的中部抵接在所述夹持体的侧面,以将所述夹持体固定在所述石墨基座上。使用该多晶硅还原炉用石墨组件,可以有效避免石墨组件被包覆嵌入硅棒内部,同时,硅棒与石墨组件分离时,将主要在石墨组件整体的上平面处形成断面,能够彻底实现石墨配件与硅棒的分离,同时降低剔除碳头料的难
多晶硅还原炉的涂层及其制备方法、多晶硅还原炉及其用途.pdf
本发明提供了一种多晶硅还原炉的涂层及其制备方法、多晶硅还原炉及其用途,涉及多晶硅生产技术装备领域,多晶硅还原炉的涂层的制备方法包括:利用第一冷气体动力喷涂在所述多晶硅还原炉与物料接触的表面喷涂第一颗粒形成基层;利用第二冷气体动力喷涂在所述基层远离所述多晶硅还原炉的表面喷涂第二颗粒形成面层,其中,所述第一冷气体动力喷涂的第一颗粒的速度和所述第二冷气体动力喷涂的第二颗粒的速度均为超音速,且所述第一颗粒的速度大于所述第二颗粒的速度;所述基层和所述面层适于反射红外辐射。形成基层的第一颗粒的喷涂速度较高,基层与多晶
一种多晶硅还原炉尾气硅粉收集装置及其使用方法.pdf
一种多晶硅还原炉尾气硅粉收集装置及其使用方法,其进料管道(4)与立式罐一进料阀(8)和立式罐二进料阀(9)相连,所述出料管道(5)与立式罐一出料阀(10)和立式罐二出料阀(11)相连,所述排污管道(7)与收集罐(3)和立式罐一排污阀(12)及立式罐二排污阀(13)相连,所述反吹管道(6)与出料管道(5)和立式罐一反吹阀(18)及立式罐二反吹阀(19)相连,所述收集罐排气管道(14)与进料管道(4)相连,所述收集罐(3)底部设置有排泄阀(20)。其不但可以保证生产系统的稳定运行,延长设备的使用寿命,同时具有
多晶硅还原炉及其喷嘴.pdf
本发明公开了一种多晶硅还原炉用喷嘴,包括:基座,所述基座内形成有第一进气腔;引流部,所述引流部与所述基座的上端相连且所述引流部内形成有第二进气腔,所述第二进气腔与所述第一进气腔相连通且所述第二进气腔的横截面积小于所述第一进气腔的横截面积;和导流部,所述导流部与所述引流部的上端相连且所述引流部内形成有位于中部的中央喷孔和环绕所述中央喷孔且沿圆周方向均匀分布的多个侧喷孔,所述中央喷孔和所述多个侧喷孔与所述第二进气腔相连通。根据本发明实施例的多晶硅还原炉用喷嘴可以增加工艺气体流速且可以使工艺气体分布均匀。本发明