一种基于多个回转滚筒的真空镀膜装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109750261A(43)申请公布日2019.05.14(21)申请号201811460620.8(22)申请日2018.12.01(71)申请人温州职业技术学院地址325000浙江省温州市瓯海区东方南路38号温州市国家大学科技园孵化器(72)发明人郎文昌朱豪威刘伟(74)专利代理机构温州名创知识产权代理有限公司33258代理人陈加利(51)Int.Cl.C23C14/22(2006.01)C23C14/50(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称一种基于多个回转滚筒的真空镀膜装置(57)摘要一种基于多个回转滚筒的真空镀膜装置，其包括真空腔体、回转滚筒、工艺组件、叶片式拨料装置及转动组件。采用回转滚筒上网孔设计，能够更好的提高物料的沉积速率和沉积均匀性，多筒式加工单炉零件的加工数量也大有提升，多个工艺组件沿真空腔体的周向放置可同时工作，提高了生产效率，而且加工出来的工件膜层均匀性也更好，考虑到加工时大批量物料会堆积在一起的情况，将回转滚筒的中部加入叶片式拨料装置，使其与滚筒成反转，达到物料扫平及随机翻转更利于加工的特点。本发明装置能够更好的实现物料的加工均匀性，解决了物料堆积在一起引起遮挡沉积不均匀的问题。CN109750261ACN109750261A权利要求书1/1页1.一种基于多个回转滚筒的真空镀膜装置，其特征在于：包括真空腔体、回转滚筒、工艺组件、叶片式拨料装置及转动组件；所述真空腔体为空心圆筒形密封壳体；所述回转滚筒是由网筛卷制而成的圆筒状结构，且所述回转滚筒为至少三个，这至少三个的回转滚筒置于所述真空腔体的中心，且这至少三个回转滚筒之间采用行星齿轮转动；所述工艺组件包括阳极层离子源、潘宁离子源、磁控溅射阴极、电阻式蒸发组件、电弧离子镀组件及高能等离子体刻蚀清洗系统；所述工艺组件为多组，这多组工艺组件沿所述真空腔体圆周的周向放置；所述叶片式拨料装置为复数个，每个所述叶片式拨料装置对应所述回转滚筒设置，且置于所述回转滚筒的中心，并均分所述回转滚筒的内腔空间；所述转动组件包括主传动齿轮、回转齿轮、拨料齿轮、反转定齿盘及回转定齿盘，其中所述主传动齿轮带动所述拨料齿轮和所述回转齿轮实现公转，公转过程中回转齿轮与回转定齿盘啮合，实现所述回转滚筒的回转，公转过程中拨料齿轮与反转定齿盘啮合，实现所述叶片式拨料装置的反转，同时利用行星齿轮传动的传动比不同设计回转齿轮和拨料齿轮的转速差，转速差比例为1:2-1:5。2.根据权利要求1所述的基于多个回转滚筒的真空镀膜装置，其特征在于：所述回转滚筒用网筛的网孔直径为0.1-10mm。3.根据权利要求1所述的基于多个回转滚筒的真空镀膜装置，其特征在于：所述叶片式拨料装置为Y型结构的叶片，这所述Y型结构的叶片将所述回转滚筒的内腔空间三等分；且利用行星齿轮的差速和正反转设计与所述回转滚筒实现不同速转动及反向转动。4.根据权利要求1所述的基于多个回转滚筒的真空镀膜装置，其特征在于：所述叶片式拨料装置与所述回转滚筒同轴设置。5.根据权利要求1所述的基于多个回转滚筒的真空镀膜装置，其特征在于：还包括支撑杆，所述支撑杆为多个，这多个所述支撑杆交叉固定，每个所述支撑杆的端部与所述回转滚筒的滚筒盖固定连接。6.根据权利要求1所述的基于多个回转滚筒的真空镀膜装置，其特征在于：所述真空腔体上设有舱门，所述舱门上设有观察窗口。7.根据权利要求1所述的基于多个回转滚筒的真空镀膜装置，其特征在于：还包括传动组件；所述传动组件包括主动轴；所述主传动齿轮设置在所述主动轴上；所述真空腔体内还设有支撑板，所述支撑板上以至少三个的所述回转滚筒的中心开孔，穿入支撑轴，所述支撑轴与所述主动轴传动连接；所述回转齿轮、拨料齿轮、反转定齿盘及回转定齿盘均安装在所述支撑轴上，使得所述回转齿轮、拨料齿轮相对于支撑轴和所述回转齿轮、拨料齿轮相对于反转定齿盘及回转定齿盘能够相对运动；此时，所述主动轴传动动力驱使支撑轴转动，一侧所述回转齿轮与所述回转定齿盘啮合旋转，所述回转定齿盘不转，所述回转齿轮自转，即所述回转齿轮带动所述回转滚筒转动；另一侧将所述反转定齿盘安装在所述真空腔体外部与所述腔体壁面紧贴，所述拨料齿轮与所述回转滚筒同轴设置，即实现反转定齿盘不转，带动所述拨料齿轮转动，从而所述拨料齿轮带动所述叶片式拨料装置转动。8.根据权利要求7所述的基于多个回转滚筒的真空镀膜装置，其特征在于：所述支撑轴用于支撑回转滚筒，所述回转滚筒的端面上还设有回转滚筒盖，且所述回转滚筒盖可自由转动。2CN109750261A说明书1/4页一种基于多个回转滚筒的真空镀膜装置技术领域[0001]本发明属于真空镀膜技术领域，涉及一种基于多个回转滚筒的真空镀膜装置。背