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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109836166A(43)申请公布日2019.06.04(21)申请号201910267644.X(22)申请日2019.04.03(71)申请人东北石油大学地址163319黑龙江省大庆市高新技术开发区学府街99号(72)发明人马志鹏张茗瑄王晓冬李昊宣于心泷于海洋(74)专利代理机构哈尔滨东方专利事务所23118代理人曹爱华(51)Int.Cl.C04B37/00(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种用于SiC陶瓷的电磁超声钎焊方法(57)摘要本发明涉及一种用于SiC陶瓷的电磁超声钎焊方法,包括:将钎料箔片宽度加工至与SiC陶瓷宽度尺寸大小完全一致;对钎料箔片与SiC陶瓷的表面打磨,并清洗;将处理后的钎料箔片填充到SiC陶瓷的两个待焊面之间,使两个SiC陶瓷水平并排放置,将另一块钎料箔片水平放置在两个待焊面的上边缘上,并置于马弗炉内,升温后,接着设置在垂直方向的静磁场中,永磁体和线圈位于水平放置的钎料箔片的正上方,静磁场由超导磁石产生,在钎料箔片两端通入电流,同时在SiC陶瓷两端施加压力,随炉冷至室温,完成SiC陶瓷钎焊。本发明采用了电磁超声方法,没有超声工具头,超声施加不直接接触SiC陶瓷,所以SiC陶瓷不会超声振动而导致开裂。CN109836166ACN109836166A权利要求书1/1页1.一种用于SiC陶瓷的电磁超声钎焊方法,其特征是包括如下步骤:步骤一、将钎料箔片(2)宽度加工至与SiC陶瓷(6)宽度尺寸大小完全一致;步骤二、使用砂纸对钎料箔片(2)与SiC陶瓷(6)的表面进行打磨加工,利用丙酮清洗10~30min;步骤三、将步骤二处理后的钎料箔片(2)填充到SiC陶瓷(6)的两个待焊面之间,使两个SiC陶瓷(6)水平并排放置,将另一块钎料箔片(2)水平放置在两个待焊面的上边缘上,并置于马弗炉内,以10~30℃/min的升温速率升到100~400℃后保温5~10min,接着设置在垂直方向的静磁场中,永磁体(3)和线圈(4)位于水平放置的钎料箔片(2)的正上方,静磁场由超导磁石产生,其磁感应强度为1~12T,在钎料箔片(2)两端通入频率为2~4kHz的电流,同时在SiC陶瓷(6)两端施加0.1~1MPa的压力,在压力以及电磁超声振动的共同作用下钎料在SiC陶瓷(6)的表面润湿充分,随炉冷至室温,完成SiC陶瓷钎焊。2.根据权利要求1所述的用于SiC陶瓷的电磁超声钎焊方法,其特征是:所述的步骤一中钎料箔片(2)为Sn-Zn-Ti-Al箔片。2CN109836166A说明书1/3页一种用于SiC陶瓷的电磁超声钎焊方法[0001]技术领域:本发明涉及的是SiC陶瓷焊接领域,具体涉及的是一种用于SiC陶瓷的电磁超声钎焊方法。[0002]背景技术:SiC陶瓷由于热膨胀系数小、耐磨性能好、化学性能稳定等特点,现已广泛应用于航空、航天、石油和化工等领域。制备SiC陶瓷材料的烧结技术也已趋于成熟,但制备SiC陶瓷的复杂大构件成品率依然很低,因此工业上常常采用将小尺寸的SiC陶瓷进行焊接而组成大构件的方法。[0003]钎焊是实现小尺寸SiC陶瓷连接的一种有潜力的技术,在SiC陶瓷的钎焊连接过程中的主要问题之一是界面润湿结合问题。SiC陶瓷与金属钎料在物理和化学性质方面差别巨大,金属钎料对SiC陶瓷的润湿比较困难,目前常在钎料中加入一定比例的活性元素,通过活性元素与待焊SiC陶瓷材料之间的化学反应来实现钎焊连接。而对于SiC陶瓷来说,最常用活性元素为Ti元素,为了避免活性元素在大气中的损耗,活性金属钎料对SiC陶瓷的润湿结合一般都在真空或惰性气氛中完成,并且活性钎焊的温度相对较高,常用的AgCuTi活性钎料,钎焊温度一般在850~1050℃,而采用一些其他活性钎料钎焊温度甚至高达1300℃以上,例如Ni51Cr活性钎料。针对SiC陶瓷的非高温应用,降低钎焊温度显得尤为重要。[0004]已有研究证明,将超声能引入钎焊过程,可取代钎剂实现绿色环保型焊接技术,同时可以实现普通钎焊难以完成的焊接过程,但是直接超声振动极易使SiC陶瓷出现开裂现象。[0005]发明内容:本发明的目的是提供一种用于SiC陶瓷的电磁超声钎焊方法,这种用于SiC陶瓷的电磁超声钎焊方法用于解决现有的SiC陶瓷钎焊接头,低温连接困难、接头残余应力大和母材开裂等问题。[0006]本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:这种用于SiC陶瓷的电磁超声钎焊方法包括如下步骤:步骤一、将钎料箔片宽度加工至与SiC陶瓷宽度尺寸大小完全一致;步骤二、使用砂纸对钎料箔片与SiC陶瓷的表面进行打磨加工,利用丙酮清洗10~30min;步骤三、将步骤二处理后的钎料箔片填充到SiC陶瓷的两