一种用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材制备及其方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110004417A(43)申请公布日2019.07.12(21)申请号201910201838.X(22)申请日2019.03.18(71)申请人苏州康科斯柔性电子有限公司地址215500江苏省苏州市常熟市经济技术开发区四海路11号科创园(72)发明人徐从康(51)Int.Cl.C23C14/34(2006.01)C23C4/02(2006.01)C23C4/08(2016.01)C23C4/134(2016.01)权利要求书1页说明书8页(54)发明名称一种用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材制备及其方法(57)摘要本发明公开了一种用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材制备及其方法。所述方法包括：中频感应炉及喷雾快速冷凝装置进行喷雾制粉；对基体管进行除锈、除油和喷砂预处理；在预处理后的基体管上喷涂打底层；对真空喷涂腔体抽真空；真空喷涂稀土-过渡金属粉末，制备稀土-过渡金属旋转靶材。利用本发明制备的稀土-过渡金属旋转靶材的尺寸不受限制，厚度可达到3～13mm，是大尺寸一体化靶材，克服了绑定拼接靶材容易引起的电弧放电和靶材黑化问题，另外喷涂是在真空保护气氛中进行的，靶材纯度高，克服了传统等离子喷涂工艺制备的靶材纯度低、致密度差、氧、氮含量高等问题。CN110004417ACN110004417A权利要求书1/1页1.一种用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材，其特征在于：所述旋转靶材厚度3～15mm，靶材相对密度≥97%，纯度≥99.99%，长度达到4000mm。2.一种制备权利要求1中的用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、稀土-过渡金属粉末的制备：将纯度99.99%的稀土-过渡金属块按比例置于中频感应炉的石墨坩埚中加热；待合金完全熔化为液体后，加入精炼清渣剂，对溶液搅拌、除渣和精炼；然后加热至熔炼温度1580-1650℃并保温1-2小时；保温完成后，将合金溶液倒入雾化快速冷凝装置的坩埚中进行雾化制粉，制得的稀土-过渡金属粉末的平均尺寸D50为50微米；步骤二、对基体背管表面进行预处理，包括除锈、除油和喷砂预处理；步骤三、在预处理后的基体表面上喷涂打底层；步骤四、对真空喷涂腔体抽真空，充入保护气体；步骤五、采用真空等离子喷涂技术喷涂稀土-过渡金属，制备稀土-过渡金属旋转靶材。3.如权利要求2所述的制备用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材的方法，其特征在于，步骤一中，稀土-过渡金属粉末为Tb20(Fe95Co5)80;Tb20(Fe85Co10Ge5)80；(DyTb)20(Fe95Co5)80;(DyTb)20(Fe90Co5Ge5)80；Dy20(Fe95Co5)80,Dy20(Fe90Co5Ge5)80中的一种或多种。4.如权利要求2所述的制备用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材的方法，其特征在于，步骤一中，中频感应炉参数为电流20A、频率30Hz。5.如权利要求2所述的制备用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材的方法，其特征在于，步骤二中，对基体背管表面进行预处理包括：机械方法除锈、超声波除油、以及对基体背管表面进行喷砂粗化处理；所述喷砂粗化处理使用的喷砂颗粒为钢砂，钢砂粒度为16～30目。6.如权利要求2所述的制备用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材的方法，其特征在于，步骤三中，喷涂打底层是在基体管表面使用电弧喷涂制备厚度为0.1～0.3mm的Ni/Al涂层。7.如权利要求2所述的制备用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材的方法，其特征在于，步骤四中，抽真空冲保护气是使用真空机组对真空喷涂腔体抽取真空，利用真空检测仪器检测腔体真空度，真空度达到预定值时，停止抽取真空，充入保护气氛。8.如权利要求2所述的制备用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材的方法，其特征在于，步骤五中，采用真空等离子喷涂技术喷涂稀土-过渡金属的过程中，背管内部通入恒温的循环水冷却靶材，控制靶材表面温度在100～180℃范围内，伺服系统控制基体管绕中心轴以100～180r/min的速度旋转，等离子喷枪以900～1500mm/min的速度往复匀速移动，喷枪与基体背管保持100～200mm的距离；喷涂工艺参数为：电流450～550A，电压45～55V，送粉气流量200～350L/h，送粉量40～80g/min，主气流量1300～2400L/h，主气压力0.4～0.7Mpa，次气流量60～180L/h，次气压力0.2～0.4Mpa，喷涂距离100～200mm。2CN110004417A说明书1/8页一种用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材制备及其方法技术领域[0001]本发明涉及一种用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材制备及其方法。背景技术[0002]稀土-过渡金属(Gd,Tb,Dy-Fe,Co