去涂层窑炉的流体温度控制系统及方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110892222A(43)申请公布日2020.03.17(21)申请号201880049712.9(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司720(22)申请日2018.05.2501代理人张雨(30)优先权数据62/5113782017.05.26US(51)Int.Cl.62/5246492017.06.26USF27B7/38(2006.01)F27D17/00(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日F27D19/00(2006.01)2020.01.23F27D21/00(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据C22B1/00(2006.01)PCT/US2018/0345802018.05.25(87)PCT国际申请的公布数据WO2018/218113EN2018.11.29(71)申请人诺维尔里斯公司地址美国乔治亚州(72)发明人J.Y.孙E.L.劳赫A.C.西尔瓦权利要求书2页说明书12页附图7页(54)发明名称去涂层窑炉的流体温度控制系统及方法(57)摘要去涂层系统的冷却系统可以包括窑炉喷雾器，其配置成将冷却剂选择性地注入到窑炉中以控制窑炉内的气体的温度。冷却系统还可以包括回流喷雾器，其配置成用冷却剂选择性地冷却从后燃器流到窑炉的气体。替代地或附加地，可以使用去涂层系统的热交换系统，其包括热交换器和蒸汽发生器。热交换器被配置为冷却从后燃器到窑炉的气体，并且蒸汽发生器被配置为冷却从后燃器排放并且不被引导到热交换器的气体。CN110892222ACN110892222A权利要求书1/2页1.一种去涂层系统，其包括：后燃器；窑炉；和冷却系统，其包括回流喷雾器，所述回流喷雾器配置成用冷却剂选择性地冷却从所述后燃器流到所述窑炉的回流气体。2.根据权利要求1所述的去涂层系统，其中所述冷却系统还包括窑炉喷雾器，所述窑炉喷雾器配置成将冷却剂注入到所述窑炉中以控制所述窑炉内的气体温度。3.根据权利要求1所述的去涂层系统，其中所述冷却系统还包括后燃器喷雾器，所述后燃器喷雾器配置成将冷却剂注入到所述后燃器中以控制所述后燃器内的气体温度。4.根据权利要求1所述的去涂层系统，其中所述冷却剂是水，并且其中所述冷却系统被配置成将所述回流气体从后燃器工作温度冷却至窑炉工作温度。5.根据权利要求1所述的去涂层系统，还包括分流器，其中所述分流器被配置为选择性地转移离开所述窑炉的旁路气体，以与从所述后燃器流向所述窑炉的所述回流气体混合。6.根据权利要求1所述的去涂层系统，其还包括热交换系统，其中所述热交换系统被配置为将从所述后燃器流到所述窑炉的所述回流气体从后燃器工作温度冷却到中间温度。7.根据权利要求6所述的去涂层系统，其中所述热交换系统被配置为将从所述后燃器排出的排气从所述后燃器工作温度冷却至冷却温度，并且其中所述热交换系统被配置为选择性地将来自所述热交换器的所述回流气体从所述中间温度降低到窑炉工作温度。8.根据权利要求6所述的去涂层系统，其中所述热交换器配置为在将所述回流气体冷却至所述中间温度时将空气加热，并且其中所述热交换系统进一步配置为将该加热空气从所述热交换器引导至所述后燃器。9.根据权利要求8所述的去涂层系统，其中所述加热空气是用于所述后燃器的燃烧器点火的燃烧用空气。10.一种控制去涂层系统中的温度的方法，包括：测量从所述去涂层系统的后燃器流到所述去涂层系统的窑炉的回流气体的回流气体温度；将所述回流气体温度与所述窑炉的窑炉工作温度进行比较；和如果所述回流气体温度高于所述窑炉工作温度，则启动冷却系统的回流喷雾器并将冷却剂注入所述回流气体以冷却所述回流气体。11.根据权利要求10所述的方法，还包括在测量之后和比较之前：在测量所述回流气体温度后，将所述回流气体温度与所述窑炉的所述窑炉工作温度进行比较；和启动所述冷却系统的后燃器喷雾器，并将冷却剂注入所述后燃器。12.根据权利要求10所述的方法，其进一步包括：确定分流器的位置；如果所述分流器处于关闭位置，则将所述分流器打开到打开位置，并引导离开所述窑炉的旁路气体与从所述后燃器流向所述窑炉的回流气体混合；和如果所述分流器处于打开位置，则启动所述冷却系统的窑炉喷雾器，并将冷却剂注入所述窑炉中。2CN110892222A权利要求书2/2页13.根据权利要求10所述的方法，其进一步包括：引导从所述后燃器流至所述窑炉的所述回流气体流经热交换系统的热交换器，并将温度从后燃器工作温度降低至中间温度。14.根据权利要求13所述的方法，其进一步包括：引导通过蒸汽发生器离开所述后燃器的排气，并将所述排气的温度从所述后燃器工作温度降低到冷却温度；和将处于所述冷却温度的来自所述蒸汽发生器的至少一些所述排气与处