用于壁炉插入物的玻璃陶瓷板及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111788160A(43)申请公布日2020.10.16(21)申请号201980017294.X(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公(22)申请日2019.03.14司72001代理人段家荣邵长准(30)优先权数据18522032018.03.14FR(51)Int.Cl.C03C10/00(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日C03C17/34(2006.01)2020.09.04C03C17/36(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据PCT/FR2019/0505602019.03.14(87)PCT国际申请的公布数据WO2019/175506FR2019.09.19(71)申请人尤罗科拉公司地址法国蒂耶里堡(72)发明人T·耶戈雷尔C·西尤塔特P·维拉托权利要求书1页说明书8页(54)发明名称用于壁炉插入物的玻璃陶瓷板及其制备方法(57)摘要本发明涉及旨在用于装配壁炉插入物、火炉、壁炉、锅炉、加热设备、炉膛或等效类型装置和/或涉及用作防火（或火焰）阻挡物的板，所述板由至少一个玻璃陶瓷基材形成，在玻璃陶瓷基材至少一个面上涂覆有以下层的叠层：1.第一金属氮化物层，厚度在5nm至50nm范围内，2.氧化铟锡层，厚度小于100nm，3.第二金属氮化物层，厚度在10nm至100nm范围内。本发明还涉及用于获得所述板的方法，以及包含所述板的设备。CN111788160ACN111788160A权利要求书1/1页1.用于装配壁炉插入物、火炉、壁炉、锅炉、加热设备、炉膛或等效物类型装置和/或用作防火阻挡物的板，所述板由以下材料形成：至少一个玻璃陶瓷基材，在玻璃陶瓷基材至少一个面上涂覆有以下层的叠层：1）第一金属氮化物层，厚度在5nm至50nm范围内，2）氧化铟锡层，厚度小于100nm，3）第二金属氮化物层，厚度在10nm至100nm范围内。2.根据权利要求1所述的板，其特征在于，在所述第一金属氮化物层和第二金属氮化物层的每一层中的氧含量小于1重量％。3.根据权利要求1或2中任一项所述的板，其特征在于，在层1）和2）以及层2）和3）之间不存在氧化物层，特别地层1）与层2）直接接触，并且层2）特别地与层3）直接接触，特别地层1）是三层中最靠近基材的层，所述层的叠层另外优选位于板的外部面。4.根据权利要求1-3中任一项所述的板，其特征在于，所述小于100nm厚度的氧化铟锡层构成存在于整个涂层或包括层1），2）和3）的所述叠层的总叠层中的唯一的氧化铟锡层。5.根据权利要求1至4中任一项所述的板，其特征在于，包括层1），2）和3）的所述叠层的基材的涂层在所述基材与层1），2）和3）的所述叠层之间不包括任何其他层。6.根据权利要求1至5中任一项所述的板，其特征在于，所述第一层1）的厚度在10至45nm之间，所述层2）的厚度在10至小于100nm之间，并且第二层3）的厚度在10至90nm之间。7.根据权利要求1至5之一所述的板，其特征在于，所述金属氮化物层是氮化硅层。8.根据权利要求1至7中的一项所述的板，其特征在于，所述第二金属氮化物层被基于氧化硅的层覆盖。9.根据权利要求1至8中任一项所述的板，其特征在于，包括所述叠层的涂层还包括厚度小于10nm的氧化钛层作为外层。10.根据权利要求1至9中任一项所述的板的制备方法，该板由至少一个玻璃陶瓷基材形成，其中，通过磁控阴极溅射在所述基材的至少一个面上按以下顺序依次沉积：1）第一金属氮化物层，厚度在5nm至50nm范围内，2）氧化铟锡层，厚度小于100nm，3）第二金属氮化物层，厚度在10nm至100nm范围内。11.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述第一金属氮化物层的沉积和所述第二金属氮化物层的沉积各自在至多3.5μbar的压力下，和优选在从2.4µbar至3µbar范围内的压力下进行。12.根据权利要求10至11中任一项所述的方法，其特征在于，在所述第一金属氮化物层和第二金属氮化物层的每一层的沉积过程中的气氛包含小于1体积％的氧气。13.根据权利要求10至12之一所述的方法，其特征在于，对涂覆的玻璃陶瓷基材进行热处理或激光处理，特别地在高于600℃的温度下进行几分钟至几十分钟的热处理。14.壁炉插入物或火炉或壁炉或锅炉或加热设备或炉膛或防火阻挡物或等效物类型的设备，所述设备包括至少一个如权利要求1至9中任一项所述的板。2CN111788160A说明书1/8页用于壁炉插入物的玻璃陶瓷板及其制备方法[0001]本发明涉及玻璃陶瓷领域。更确切地说，本发明涉及一种用于高温设备的玻璃陶瓷板，特别地涉及用于装配壁炉插入物(insertdechminée)、火炉(poêle)、壁炉(chm