一种微纳米分级多孔铜及其制备方法.pdf
书生****aa
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一种微纳米分级多孔铜及其制备方法.pdf
本发明公开的一种微纳米分级多孔铜的制备方法,具体按照以下步骤实施:步骤1、按一定比例称取铜粉、锰粉和氯化钠颗粒,混粉均匀;步骤2、将步骤1混合均匀的粉末填入模具中,以一定的压力进行压制,保压一定时间;步骤3、将步骤2压制好的试样置于高温管式炉内,以一定的升温速率进行烧结,保温一定时间,随炉冷却后将试样取出,全程通氩气保护;步骤4、将烧结后的试样在砂纸上将其表面打磨光亮,置于恒温水浴的去离子中水浸;步骤5、将水浸后的试样继续在恒温水浴条件下,用盐酸进行脱合金处理,待无明显气泡逸出,脱合金完成,即得到具有两级
微纳米双级多孔铜及其制备方法.pdf
本发明公开了一种微纳米双级多孔铜,以烧结多孔Cu骨架为基体,基体上形成双连续的微纳米多孔结构,其中微米孔平均孔径为2.18μm‑3.68μm,纳米孔平均孔径为153nm‑234nm。实现了铜基体中烧结制备微米孔与脱合金制备纳米孔的有机结合,具有微米孔/纳米孔复合孔结构、三维双连续韧带/孔道结构的特点。其制备方法具体步骤如下:步骤1,将一定比例的Cu粉和Zn粉混合均匀后压制成坯,置于气氛管式炉中升温至一定温度,保温一定时间后冷却至室温,获得前驱体CuZn合金;步骤2,将前驱体置于盐酸溶液中脱合金至无明显气泡
一种微纳米双级多孔铜及其制备方法.pdf
本发明公开了一种微纳米双级多孔铜,其特征在于,以烧结多孔Cu骨架为基体,骨架上形成双连续的纳米多孔结构,其中微米孔平均孔径2.2μm‑3.7μm,纳米孔平均孔径60nm‑113nm。其制备方法具体步骤如下:步骤1,将一定比例的Cu粉和Mn粉混合均匀后压制成坯,置于气氛管式炉中升温至一定温度,保温一定时间后冷却至室温,获得前驱体CuMn合金;步骤2,将前驱体置于盐酸溶液中脱合金至无明显气泡逸出,制备出微纳米双级多孔铜。所制备的双级多孔铜具有较为均匀的微米孔/纳米孔复合孔结构、三维双连续韧带/孔道结构等特点。
一种纳米多孔及纳米多孔花形铜锡合金及其制备方法.pdf
本发明公开了一种纳米多孔及纳米多孔花形铜锡合金的制备方法。该方法先将纯Cu块和纯Sn块按照摩尔比为(100‐X):X的比例称量,然后通过熔炼得到铜锡母合金,其中X为15.5~23;通过熔炼得到铜锡母合金;将所得的铜锡母合金放入管式炉中,在保护气氛下进行退火处理,得到退火态铜锡合金;接着将所得的退火态铜锡合金切成薄片,进行淬火处理;最后将所得淬火样品进行预处理,并采用盐酸氯化铁溶液进行去合金化处理,去合金化时间为10~600分钟,去合金化温度为25~80℃,得到纳米多孔或纳米多孔花形铜锡合金。本发明制备方法
一种改进的纳米多孔铜薄膜及其制备方法.pdf
本发明一种改进的纳米多孔铜薄膜,在纳米多孔铜的表面修饰有单层石墨烯。本发明还提供了上述纳米多孔铜薄膜的制备方法,将锰靶材和铜锰合金靶材放入磁控溅射制膜仪腔内的靶位上,将单晶硅片固定到靶位正上方的托盘上,抽真空,设置溅射条件,打开纯锰靶材开始溅射,在硅片上制备得到一层纯锰薄膜,然后打开铜锰靶材开始溅射,在纯锰薄膜上形成一层铜锰合金薄膜,将铜锰合金薄膜进行腐蚀得到纳米多孔铜薄膜,将制备好的纳米多孔铜薄膜泡洗去除表面盐酸残留液,将洗干净的纳米多孔铜薄膜放入石墨烯凝胶中浸泡,然后去除表面浮着的石墨烯凝胶,得到与石