一种氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉及其工作方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112393583A(43)申请公布日2021.02.23(21)申请号202011328218.1(22)申请日2020.11.24(71)申请人宁波银瓷新材料有限公司地址315000浙江省宁波市奉化区西坞街道经济开发区尚桥科技工业园金海东路55号（怡诺凤麓科创园）5号楼1楼(72)发明人杨文伍(51)Int.Cl.F27B5/16(2006.01)F27B5/14(2006.01)F27B5/18(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图7页(54)发明名称一种氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉及其工作方法(57)摘要本发明涉及一种氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉及其工作方法，其中此种氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉包括炉体，设置在炉体内部的发热体和承载在发热体上的坩埚，所述氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉还包括一用于传输高压气体的管道装置，其中所述管道装置适于将高压气体传输至发热体的下方。保证了加热温度持续均匀，减少出现烧结的合金材料发生重结晶的现象；通过管道装置向炉体加入高压气体时，配合控风装置，减小高压气体对坩埚所产生的影响，同时使得坩埚持续均匀的受热，使坩埚中材料充分反应；通过设置在炉壁上的温度传感器，检测炉体内部的温度，从而选择合适温度的高压气体通入炉体中，进一步的配合控风系统。CN112393583ACN112393583A权利要求书1/2页1.一种氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉，包括炉体，设置在炉体内部的发热体和承载在发热体上的坩埚，其特征在于，所述氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉还包括一用于传输高压气体的管道装置，其中所述管道装置适于将高压气体传输至发热体的下方。2.如权利要求1所述的氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉，其特征在于，所述管道装置包括环形管道，设置在所述环形管道上的若干进气口和与所述环形管道连接且连通的若干传输管道；以及若干所述进气口位于所述炉体的侧壁，所述传输管道的出气口位于所述发热体的下方。3.如权利要求2所述的氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉，其特征在于，所述环形管道固定在所述炉体的内壁。4.如权利要求2所述的氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉，其特征在于，所述氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉还包括位于若干所述传输管道的出气口处的控风装置，其中所述控风装置适于控制经所述传输管道传输的高压气体的流向。5.如权利要求4所述的氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉，其特征在于，所述控风装置包括调整台；所述调整台的内腔设置有若干转向腔和若干封堵腔，每个所述转向腔适配一个所述封堵腔；每个所述转向腔的转向入口位于所述调整台的侧部，转向出口位于所述调整台的顶部；所述封堵腔的封堵入口与所述转向腔的转向竖通道互相连通，所述封堵腔的封堵出口位于所述调整台的顶部；每个所述传输管道的端部连接且连通有一转向管，所述转向管卡设在所述转向腔内，所述转向管的侧部开设有一侧出风口，所述侧出风口与所述封堵腔入口相互连通。6.如权利要求5所述的氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉，其特征在于，所述转向管的转向出气口处可转动地设置有叶轮，所述叶轮的底部一体设置有一分流头，以及沿着气体流动方向，所述分流头呈锥形，所述分流头的根部位于所述侧出风口的一侧。7.如权利要求6所述的氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉，其特征在于，所述调整台上开设有若干导流腔，每个所述导流腔适配一个所述封堵腔的封堵竖通道；以及所述导流腔包括相互连通的梯形腔和竖直腔，所述梯形腔的较大底面与所述竖直腔连通，所述梯形腔的较小底面与所述封堵腔的封堵竖通道连通。8.如权利要求7所述的氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉，其特征在于，经所述竖直腔喷射的高压气体形成一横截面为封闭多边形的屏障；以及当高压气体温度达到加热温度时，所述发热体在竖直方向上的投影位于所述屏障之内；当高压气体温度未达到加热温度时，所述发热体在竖直方向上的投影包含该封闭多边形。9.一种如权利要求8所述的氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉的工作方法，其特征在于，2CN112393583A权利要求书2/2页通电发热体以使坩埚加热，经管道组件通过高压气体并经调整台散射。10.如权利要求9所述的氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉的工作方法，其特征在于，当发热体在竖直方向上的投影位于所述屏障之内时，通入达到加热温度的高压气体；当发热体在竖直方向上的投影包含该封闭多边形时，通入未达到加热温度的高压气体。3CN112393583A说明书1/6页一种氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉及其工作方法技术领域[0001]本发明涉及烧结炉，具体涉及一种氮化硅陶瓷烧结用的烧结炉及其工作方法。背景技术[0002]中国专利申请号：CN202010613549.3公开了一种钕铁硼真空烧结炉，包括炉体、真空泵、清扫装置、冷却装置、加热装置和放置装置，炉体内横向设有挡板，挡板将炉体内分割成烧结腔和冷却腔两个空间，