一种制备ITO烧结体的方法.pdf
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一种制备ITO烧结体的方法.pdf
本发明公开了一种制备ITO烧结体的方法,设备包括:筛分机、混合机、反应釜、浇筑模具、振动装置、脱水脱脂装置、烧结炉和加压装置;将In
一种烧结ITO低密度圆柱颗粒的制备方法.pdf
本发明涉及一种烧结ITO低密度圆柱颗粒的制备方法,包括以下步骤:一、用化学共沉淀法制备纳米氧化铟锡粉末,进行掺脂和造粒处理,得到氧化铟锡粉粒;二、将氧化铟锡粉粒装入模具中,将其压制成氧化铟锡坯体;三、将坯体经冷等静压进行二次压制;四、将二次压制坯体放入常压烧结炉中,按一定的烧结制程,在1400度以下烧结成ITO低密度圆柱颗粒。本发明具有以下优点:1、该方法能够使用普通的常压烧结炉,在低于1400度的温度下,制备密度为4.1~4.5克/立方厘米的氧化铟锡圆柱颗粒,大大降低生产成本。2、该方法在一次成型后又进
一种ITO平面靶及其烧结方法和烧结装置.pdf
本发明属于ITO靶材领域,具体公开一种ITO平面靶及其烧结方法和烧结装置。本发明的烧结方法中,将ITO平面靶靶坯在适合其尺寸大小的密闭空间内进行烧结,该空间内温度和气体分布更加均匀,可提升靶材的密度和降低靶材的翘曲度。同时本发明的烧结方法在密闭结构内进行,杜绝了氧气流出,使得氧分压满足抑制靶材挥发的条件后,不需要再通入氧气,大大降低了在烧结过程中的氧气浪费,总体烧结过程所需的耗氧量极低。
一种氧气氛无压烧结法制备ITO靶材的方法.pdf
本发明公开了具有较强创新性的烧结ITO靶材的方法,其目的是通过对烧结工艺的优化,实现无压氧气氛烧结,最终得到高致密度、高性能的靶材。该方法以烧结法为基础,根据ITO靶材的烧结特性,采用分段烧结工艺,通过控制进入炉膛的氧气流量来控制烧结气氛中的氧分压,抑制ITO靶材的分解,最终得到了致密度高于99.3%,导电性能好的靶材。本发明的氧气氛无压烧结法是一种新型的陶瓷烧结方法,主要应用于易分解的氧化物陶瓷的烧结,其设备简单,烧结制品不受尺寸限制,可生产大尺寸的陶瓷制品,应用这种方法制备ITO靶材尚属首次,制备得到
一种钛酸铝烧结体的制备方法.pdf
一种钛酸铝材料的制备方法,包括以下步骤:(1)备好TiO2和Al2O3原料及添加剂Fe2O3和SiO2粉末,其中:各组分的摩尔比为,TiO2:Al2O3:Fe2O3:SiO2=42-43:42-43:1-3:1-3;且TiO2和Al2O3的摩尔比为1:1;(2)将称量好的原料和添加剂混合,加入5~10%的PVA制成泥状混合物;(3)将步骤(2)的混合物干燥至湿度为3%~6%,采用模压成型方法,将所述泥状混合物制成Φ20mm、高5~30mm的圆柱形压胚,再将压胚在100℃的干燥箱中保温4~6小时或者在室温环