氧化锆烧结体及其制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112624761A(43)申请公布日2021.04.09(21)申请号202011040665.7A61K6/818(2020.01)(22)申请日2020.09.28(30)优先权数据2019-1850752019.10.08JP(71)申请人东曹株式会社地址日本国山口县周南市开成町4560番地(72)发明人伊藤晶子渡部绫子畦地翔永山仁士藤崎浩之(74)专利代理机构北京汇思诚业知识产权代理有限公司11444代理人王刚龚敏(51)Int.Cl.C04B35/488(2006.01)C04B35/622(2006.01)C04B35/626(2006.01)权利要求书1页说明书25页附图1页(54)发明名称氧化锆烧结体及其制造方法(57)摘要本发明提供即使使用在大气压下进行烧结的烧结炉也能够制造、并且具有作为牙科修复件所要求的机械强度和透光性的氧化锆烧结体、其制造方法、其前体以及前体的制造方法中的至少任一者。本发明的氧化锆烧结体的特征在于，含有氧化钇及氧化锆，氧化钇含量为4.5mol％以上且6.5mol％以下，余量为氧化锆，试样厚度为1mm且根据JISK7361‑1而测定的全光线透过率为46.5％以上，三点弯曲强度为700MPa以上，试样厚度为1mm且测定波长为400～700nm下的直线透过率的累计值相对于全光线透过率的累计值的比为1.3％以下。CN112624761ACN112624761A权利要求书1/1页1.一种氧化锆烧结体，其特征在于，所述氧化锆烧结体含有氧化钇及氧化锆，氧化钇含量为4.5mol％以上且6.5mol％以下，余量为氧化锆，试样厚度为1mm且根据JISK7361-1而测定的全光线透过率为46.5％以上，三点弯曲强度为700MPa以上，试样厚度为1mm且测定波长为400～700nm下的直线透过率的累计值相对于全光线透过率的累计值的比为1.3％以下。2.根据权利要求1所述的氧化锆烧结体，其中，所述氧化锆烧结体含有氧化铝。3.根据权利要求1或2所述的氧化锆烧结体，其中，氧化铝含量为0.005质量％以上且0.2质量％以下。4.根据权利要求1至3中任一项所述的氧化锆烧结体，其中，平均晶体粒径为0.5μm以上且1.8μm以下。5.根据权利要求1至4中任一项所述的氧化锆烧结体，其中，所述氧化锆烧结体含有氧化钇浓度不同的晶体颗粒。6.根据权利要求1至5中任一项所述的氧化锆烧结体，其中，氧化钇浓度最大的晶体颗粒与氧化钇浓度最小的晶体颗粒之间的氧化钇浓度的差为2.7mol％以上且7mol％以下。7.根据权利要求1至6中任一项所述的氧化锆烧结体，其中，氧化钇浓度为3.0mol％以上且4.0mol％以下的晶体颗粒在晶体颗粒中所占的个数比例为10％以上且50％以下。8.一种权利要求1至7中任一项所述的氧化锆烧结体的制造方法，其特征在于，所述制造方法具有对含有氧化锆粉末的成形体进行烧结的工序，所述氧化锆粉末含有氧化钇源及氧化锆，氧化钇源的含量为4.5mol％以上且6.5mol％以下，余量为氧化锆，正方晶和立方晶在氧化锆的结晶相中所占的合计比例为90％以下，BET比表面积为7.5m2/g以上且15m2/g以下，平均微晶直径为以上。9.根据权利要求8所述的制造方法，其中，所述氧化锆粉末含有氧化钇含量不同的氧化锆粉末颗粒。10.根据权利要求9所述的制造方法，其中，在所述氧化锆粉末中，一种氧化锆粉末颗粒与另一种氧化锆粉末颗粒之间的氧化钇含量的差超过3.0mol％。11.根据权利要求8至10中任一项所述的制造方法，其中，所述工序中的烧结为常压烧结。12.一种氧化锆粉末，其含有氧化钇源和氧化锆，氧化钇源的含量为4.5mol％以上且6.5mol％以下，余量为氧化锆，正方晶和立方晶在氧化锆的结晶相中所占的合计比例为90％以下，BET比表面积为7.5m2/g以上且15m2/g以下，平均微晶直径为以上。13.一种煅烧体的制造方法，其特征在于，使用权利要求12所述的氧化锆粉末。2CN112624761A说明书1/25页氧化锆烧结体及其制造方法技术领域[0001]本发明涉及氧化锆烧结体及其制造方法。背景技术[0002]应用于牙冠或牙桥等牙科修复件用途的氧化锆烧结体要求与天然牙齿同等的透光性。为了满足该要求，研究了通过稳定剂的含量的增加而实现的氧化锆烧结体的透光性的提高(专利文献1)。稳定剂的含量的增加使氧化锆烧结体的透光性提高，另一方面，使氧化锆烧结体的机械强度降低。因此，专利文献1等的氧化锆烧结体难以作为特别要求机械强度的牙科修复件来应用。[0003]在专利文献2中，研究了稳定剂的含量高的氧化锆烧结体的机械强度的改善，公开了一种尽管是可能产生机械强度的降低的稳定剂的含量，但可以满