

一种PECVD镀膜机的电极组件.pdf
夏萍****文章
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一种PECVD镀膜机的电极组件.pdf
本发明提供一种PECVD镀膜机的电极组件,包括用于镀膜操作的真空炉腔,所述真空炉腔内设有至少两个与硅片相关的工位,硅片的烧制工位同时也是硅片的装载工位,硅片被通过平移机构装入镂空载板中,镂空载板包括多个,多个镂空载板在硅片的装载工位上下排列且等间距均布,形成硅片载具,单个镂空载板上至少设有一个镂空部位和一个安装部位,镂空部位位于镂空载板的中部,所述安装部位位于所述镂空载板的一侧,多个镂空载板的安装部位位于镂空载板的同一侧。本发明采用竖向送片和水平插片的方式,硅片和电极片的交替对插在真空炉腔内完成,对于镀膜
一种PECVD镀膜机的载板升降组件.pdf
本发明提供一种PECVD镀膜机的载板升降组件,包括用于镀膜操作的真空炉腔,所述真空炉腔内设有至少两个与硅片相关的工位,硅片的烧制工位同时也是硅片的装载工位,硅片被通过平移机构装入镂空载板中,镂空载板包括多个,多个镂空载板在硅片的装载工位上下排列且等间距均布,形成硅片载具,单个镂空载板上至少设有一个镂空部位和一个安装部位,镂空部位位于镂空载板的中部,所述安装部位位于所述镂空载板的一侧,多个镂空载板的安装部位位于镂空载板的同一侧。本发明采用竖向送片和水平插片的方式,硅片和电极片的交替对插在真空炉腔内完成,对于
一种PECVD镀膜机.pdf
本发明提供一种PECVD镀膜机,包括用于镀膜操作的真空炉腔,真空炉腔内设有至少两个与硅片相关的工位,在硅片的装载工位上,硅片被通过平移机构装入镂空载板中,镂空载板包括多个,多个镂空载板在硅片的装载工位上下排列且等间距均布,形成硅片载具,单个镂空载板上至少设有一个镂空部位和一个安装部位,镂空部位位于镂空载板的中部,安装部位位于所述镂空载板的一侧,多个镂空载板的安装部位位于镂空载板的同一侧;本发明采用竖向送片和水平插片的方式,硅片和电极片的交替对插在真空炉腔内完成,对于镀膜过程来说,从插片到镀膜的过程,都可以
一种PECVD镀膜机的硅片装载机构.pdf
本发明提供一种PECVD镀膜机的硅片装载机构,包括用于镀膜操作的真空炉腔,所述真空炉腔内设有至少两个与硅片相关的工位,硅片的烧制工位同时也是硅片的装载工位,硅片被通过平移机构装入镂空载板中,镂空载板包括多个,多个镂空载板在硅片的装载工位上下排列且等间距均布,形成硅片载具,单个镂空载板上至少设有一个镂空部位和一个安装部位,镂空部位位于镂空载板的中部,所述安装部位位于所述镂空载板的一侧,多个镂空载板的安装部位位于镂空载板的同一侧。本发明采用竖向送片和水平插片的方式,硅片和电极片的交替对插在真空炉腔内完成,对于
一种透明电极组件、装置及透明电极组件制备方法.pdf
本发明涉及电极技术领域,提供了一种透明电极组件、装置及透明电极组件制备方法,透明电极组件包括:透明基底层;经过图案化的透明电极,透明电极设于基底层的表面;消影层,由光致变色材料制成,包括第一消影区和第二消影区,第一消影区设于透明电极背向基底层的表面,第二消影区设于经过蚀刻的透明电极之间且位于基底层的表面。制备方法包括:在经过图案化的透明电极表面设置消影层,消影层由光致变色材料制成;在透明电极背向消影层的一侧采用预设波段的光谱进行照射,使得消影层在光谱的作用下变色,形成第一消影区和第二消影区,以获取透明电极