一种用于APCVD的履带线下清洗的装置和方法.pdf
猫巷****正德
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一种用于APCVD的履带线下清洗的装置和方法.pdf
本发明公开了一种用于APCVD的履带线下清洗的装置和方法。该装置包括:间隔设置的两个履带轮、用于固定履带轮的支架、清洗槽和履带驱动装置;清洗槽设置在两个履带轮之间的位置,清洗槽上安装有超声装置;在清洗槽内设有重锤,用于将履带压入清洗槽内的清洗液面以下;履带驱动装置包括由电机驱动的驱动齿轮、通过传送皮带与驱动齿轮连接的从动齿轮,从动齿轮与所述两个履带轮中的一个连接并带动该履带轮转动。采用本发明的装置能够对背封设备APCVD背封炉的履带进行更深层次的清理和维护,对履带起到更好的清洁作用,提高履带使用寿命,更好
一种用于清洗装置的履带吸盘.pdf
一种能够完成动车组外厢进行清洗工作的履带吸盘动车清洗车,而且也能够完成其他材质墙面的吸附清洁工作。它由控制箱结构、履带吸盘、刷墙毛刷、主动轮以及从动轮。这种履带吸盘动车清洗车不仅可以对动车外厢进行高效率、安全性较高的清洗,对于结构设计而言,机构比较坚固,能够有利于动车运行寿命的延长,使自然环境更加优化,增强人们对环境保护的认识。
一种用于CMP制程的清洗装置及其清洗方法.pdf
本发明公开了一种用于CMP制程的清洗装置及其清洗方法。其中,清洗装置包括依次连接的前段化学品清洗装置、超纯水超声波洗净装置、超纯水漂洗装置以及后续干燥装置,同时还设置有功能性超纯水加气产生装置。清洗方法包括:利用超纯水对CMP制程晶圆表面的化学品残留物进行超声波清洗,利用超纯水对超声波清洗后的晶圆进行漂洗,对经过清洗与漂洗的晶圆进行烘干处理等步骤。即本发明通过超纯水超声波洗净装置和超纯水漂洗装置对CMP制程后的晶圆进行清洗和漂洗,然后在送至晶圆干燥装置进行干燥处理,从而具备了加快晶圆洗净效率,提高生产效率
一种用于晶圆清洗的两相流喷射装置和清洗方法.pdf
本发明涉及晶圆表面清洗技术领域,具体为一种用于晶圆清洗的两相流喷射装置和清洗方法,其包括载台、旋转支杆、固定于旋转支杆上的转臂、固定于转臂上的两相流喷嘴,液体管道和气体管道。该装置采用低温助推气体对晶圆表面进行预冷却,将晶圆表面温度降低至接近液体二氧化碳微液滴温度后,再向晶圆表面喷射二氧化碳微液滴,该方法有效消除了莱顿弗罗斯特现象,令二氧化碳液滴进入晶圆表面高深宽比结构内部成为可能;进一步地,采用两相流喷嘴可以在喷嘴和晶圆表面形成低温环境,起到稳定二氧化碳液滴,提高液滴撞击晶圆表面速度的效果,实现了晶圆表
一种用于过滤膜的清洗装置及射流清洗方法.pdf
本发明涉及膜生产技术领域,公开了一种用于过滤膜的清洗装置及射流清洗方法,清洗装置主要由冲洗罐、管路、溢流管和若干喷嘴,在冲洗罐的内壁上安装若干喷嘴,每一个喷嘴经管路的一个分支连接,管路上设置有射流泵;射流清洗方法主要步骤为:绕有过滤膜的滚轮转动时,开启射流泵,清洗液经射流泵加压后经冲洗罐底部和侧面上的喷嘴喷出形成射流液体;射流液体带动周围液体流动形成液体流场,液体流场加速过滤膜上的附着物和残留物脱落。本发明中射流方式形成的液体流场具有很强的携带能力,可以加速过滤膜上附着物和残留物脱落,并且快速将脱落的残留