硼-镓共掺单晶制备设备及其制备方法.pdf
含平****ng
亲,该文档总共27页,到这已经超出免费预览范围,如果喜欢就直接下载吧~
相关资料
硼-镓共掺单晶制备设备及其制备方法.pdf
本公开涉及一种硼‑镓共掺单晶设备及其制备方法,所述设备包括单晶炉,二次加料装置,提拉装置和单独的加料小管,制备方法包括以下步骤:步骤S1:通过二次加料装置向单晶炉加入第一原料,所述第一原料包括以下组分:第一硅料80000‑120000重量份,掺硼合金80‑120重量份,纯镓0.5‑2重量份,熔化第一原料,熔化后的第一原料结晶得到第一单晶棒;从石英坩埚内取出第一单晶棒;步骤S2:通过二次加料装置向单晶炉加入第二原料,所述第二原料包括以下组分:第二硅料160000‑200000重量份,掺硼合金160‑200重
一种单晶掺镓太阳电池及其制备方法.pdf
本发明公开了一种单晶掺镓太阳电池及其制备方法。包括:掺杂有镓的单晶硅基底,以及在其受光面上的发射极,置于发射极表面的正面减反射膜/钝化膜,置于正面减反射膜/钝化膜表面的导电材料组成的正面电极,导电材料在金属化热处理中局部穿透正面减反射膜/钝化膜材料或通过在正面减反射膜/钝化膜上的局部开膜区域和发射极形成直接接触,以及置于基底背面的背面电极,其中背面电极由两部分组成,设置在背表面的铝电极,以及作为光伏组件焊接点的银电极。此太阳电池的制备方法包括,在掺镓的硅基底上进行表面织构化,并在电池的正面制备发射极,在正
一种单晶掺镓双面太阳电池及其制备方法.pdf
本发明公开了一种单晶掺镓双面太阳电池及其制备方法,包括:掺杂有镓元素的单晶硅半导体基底,以及在其上的前表面发射极和背面局部背电场,置于发射极表面的正面减反射膜/钝化膜和置于基底背表面的背面钝化膜,置于正面减反射膜/钝化膜表面的导电材料组成的正面电极,置于背面钝化膜表面的导电材料组成的背面电极。其制备方法,包括:在掺镓的硅片上完成表面织构化,发射极制备,绝缘处理,正表面钝化减反射膜及背表面钝化膜制备,背面钝化膜局域开膜以及金属化过程。
硼镓共掺的重掺P型单晶硅的生长及掺杂方法.pdf
本发明公开了一种硼镓共掺的重掺P型单晶硅的生长及掺杂方法,包括如下步骤:(1)清洁;(2)将准备好的多晶硅及掺杂硼粉放入石英坩埚中;(3)用氩气多次冲洗单晶炉并抽真空;(4)开启加热器进行加温熔化多晶硅;(5)待多晶硅完全熔化,下调加热器功率,保持熔体熔化状态1455摄氏度;(6)向熔体内进行镓元素掺杂;(7)充分混合后,稳定熔体温度在1450摄氏度,并开始引晶、放肩、转肩、等径、收尾、冷却;(8)将单晶硅进行头尾割断、晶棒分割、滚圆、多线切割、倒角、研磨、清洗,并进行器件制作。本发明硼镓共掺的重掺P型硅
一种单晶掺镓硅片及其制备方法和太阳电池.pdf
本发明公开了一种单晶掺镓硅片及其制备方法和太阳电池,此单晶硅片中含有镓元素;其中镓元素的浓度为1×10